「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(137ページ目) - Weblio英語例文検索

By the method of processing a wafer, an ultraviolet curing type protective tape is stuck onto the surface of the wafer, a boundary between a device region of the wafer and an outer peripheral excess region is cut by a cutting blade to form a ring-like ditch, and the outer peripheral excess region is separated from the device region.例文帳に追加

ウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に紫外線硬化型保護テープを貼付してから、ウエーハのデバイス領域と外周余剰領域の境界部を切削ブレードで切削してリング状の堀を形成し、外周余剰領域をデバイス領域から分離する。 - 特許庁

A defect inspection method for inspecting the defect of the surface of a sample, includes the step of detecting the defect by addition processing of a detecting signal in which the amount of the misalignment of a pixel of detection signals calculated by comparing the distribution of Haze signal and predetermined light quantity distribution is corrected.例文帳に追加

試料の表面の欠陥を検査する欠陥検査方法であって、Ｈａｚｅ信号の分布と予め定めた光量分布とを比較して算出した検出信号の画素ずれ量を補正した検出信号を加算処理して欠陥を検出する工程を有する欠陥検査方法。 - 特許庁

When an operation to a touch sensor 11 is detected in a first operation state where a main control part 16 is not busy for data processing, a touch surface 11a is vibrated in a first vibration mode via a tactile feedback part 13 by a tactile feedback control part 14 to present a first tactile sense to an operation object.例文帳に追加

メイン制御部16がデータの処理に対してビジーでない第１動作状態に、タッチセンサ11への操作が検出されると、触感呈示制御部14により触感呈示部13を介してタッチ面11aを第１振動モードで振動させて、操作対象に第１触感を呈示する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board that is superior in suppression of warpage of a substrate, performs processing while maintaining back-to-back manufacture of superior size stability and mass-productivity up to an outermost layer (a laminate surface by the back-to-back manufacture), and can secure higher size stability and operation efficiency.例文帳に追加

基板のそりの抑制に優れ、寸法安定性や量産性の優れた背合わせによる製造を最外層（背合わせによる積層面）まで維持しながら加工することができ、更なる寸法安定性及び高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Predetermined processing is performed on image data of the reflected light RL of the slit light L reflected by the end surface of the paper sheet bundle Ps, and a distance (a gap G_n between paper sheets) between detected luminescent spots (or bright lines) and an inclination (an inclination θ_n of the paper sheets) of the bright line are calculated.例文帳に追加

紙葉類束Ｐｓの端面によって反射されたスリット光Ｌの反射光ＲＬの画像データに所定の処理を行い、検出した輝点（或いは輝線）間の距離（紙葉類間のギャップＧ_ｎ）、及び輝線の傾き（紙葉類の傾きθ_ｎ）を算出する。 - 特許庁

To provide: a lead frame having been subjected to fall stopping processing so as to exhibit equal fall stopping action in any direction of falling a lead frame of a substrate for a surface mounted electronic component; the substrate for the electronic component using the same; and the electronic component.例文帳に追加

面実装型の電子部品用基板におけるリードフレームの抜け方向に作用するいずれの方向に対しても同等な抜け止め作用を発揮することが可能な抜け止め加工が施されたリードフレームと、これを用いた電子部品用基板および電子部品とを提供する。 - 特許庁

To provide a shelf support dowel capable of preventing the interference of a shelf plate and a stay member without additionally performing complicated processing to the shelf plate even when attached to a storage shelf that has a stay member for joining an inside surface of a storage portion and a door body for closing the storage portion.例文帳に追加

収納部の内側面と収納部を閉塞する扉体とを連結するステー部材を有する収納棚に取り付けられたとしても、棚板に追加的に複雑な加工を施さずに棚板とステー部材との干渉を防ぐことができる棚受用ダボを提供する。 - 特許庁

To provide in a relatively simple way a synthetic quartz glass substrate for semiconductor having a non-penetration hole, groove or level difference which is controlled in shapes such as a size, remained thickness of bottom surface and parallelism highly accurately and stably, and is reduced a shape change of a whole substrate before and after processing.例文帳に追加

比較的簡便な方法でサイズ、底面の残し厚さ、平行度等、形状を高精度に安定的に制御され、加工を施す前後の基板全体の形状変化を抑えた、非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用合成石英ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The light reception processing section 3 and the reception side connector section 36 are mounted on the same substrate surface of the reception side substrate part 35, and the reception side substrate part 35 includes a bending portion 35X bent so that the substrate surfaces face each other at the back in the normal direction.例文帳に追加

そして、光受信処理部３及び受信側コネクタ部３６が、受信側基板部３５における同一の基板面に搭載されており、受信側基板部３５は、その法線方向において基板面が互いに背向するように折り曲げられた折り曲げ部３５Ｘを有している。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for adhesive roll cleaning which can remove simply and quickly dust adhered to the surface of a long material or an article to be conveyed when applied to target equipment, e.g. a metal foil processing apparatus or a printing apparatus.例文帳に追加

本発明は、金属箔加工装置や印刷装置等の対象設備に適用して、搬送される長尺材料や製品の表面に付着する塵埃を簡単且つ速やかに除去することが可能な粘着ロールクリーニング装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the operator adjusts a calibration plate thereafter so that it may take the selected attitude, an angle indicating an inclination of the surface of the calibration work to a plane (reference plane) intersecting perpendicularly the optical axis of a camera for a front view is calculated by processing using an image formed by this camera.例文帳に追加

この後、作業者がキャリブレーションプレートを選択した姿勢になるように調整すると、正面視用のカメラにより生成された画像を用いた処理により、このカメラの光軸に直交する平面（基準平面）に対するキャリブレーションワークの表面の傾きを示す角度が算出される。 - 特許庁

Thereafter, an upper electrode 24c is formed on the one surface side of the element formation substrate 20a, thereby a power generation part 24 is formed, and thereafter a cantilever formation substrate 20 including a frame part 21, a cantilever part 22 and a weight part 23 is formed by processing the element formation substrate 20a.例文帳に追加

その後、素子形成基板２０ａの上記一表面側に上部電極２４ｃを形成することで発電部２４を形成してから、素子形成基板２０ａを加工してフレーム部２１、カンチレバー部２２および錘部２３を有するカンチレバー形成基板２０を形成する。 - 特許庁

To provide a polymer actuator wherein it is possible to eliminate irregularity on an electrode surface as much as possible (as compared with, for example, talc processing) to achieve stable control and further reduce a sliding resistance between the polymer actuator and a vibration isolation target so that smooth and reliable response can be expected.例文帳に追加

電極表面の凹凸性を極力なくして（例えばタルク処理との比較）、安定した制御を実現することができ、しかも、ポリマーアクチュエータと制振対象物との間の摺動抵抗を小さくすることができ、スムース、かつ信頼性のある応答が期待できるポリマーアクチュエータを提供する。 - 特許庁

To secure a fail safe by breaking an oxide film and a sulphur film formed on the surface of an input contact point while electrifying an input contact point at the input processing timing of an electronic interlocking device, and surely switching to a safety side in the case wherein a failure breaks out.例文帳に追加

電子連動装置の入力処理タイミングに合わせて入力接点に電流を流すとともに入力接点の表面に形成されている酸化被膜や硫化被膜の破壊処理を行い、かつ故障が発生した場合も必ず安全側に移行してフェールセーフを確保する。 - 特許庁

To provide a visual inspection method and a device of a tire capable of performing the visual inspection of the shape of the tire in a shorter time by a processing method simpler than a conventional method and capable of detecting even the surface fine flaw of the tire.例文帳に追加

タイヤの外観形状の検査を、従来法と比較してより短時間で、かつ、簡素な処理方法により行うことができ、さらにはタイヤ表面の微小欠陥についても検出することが可能なタイヤの外観検査方法および外観検査装置を提供する。 - 特許庁

The development processing device for a planographic printing plate includes a means to receive information whether a plate material to be processed is a planographic printing plate or a key plate and a means for making the means for promoting development so that the means for promoting development in the developing tank does not contact the plate surface of the key plate.例文帳に追加

処理される版材が平版印刷版であるか捨て版であるかの情報を受信する手段と、現像槽内の現像促進手段が捨て版の版面と接触しないように現像促進手段を退避させる手段とを備えた平版印刷版用現像処理装置。 - 特許庁

To provide a method for efficiently recovering effective components and stably obtaining penetrated liquid of excellent water quality for a long period by applying reverse osmosis membrane treatment to washing water generated when metallic surface treatment of a metallic molding by a processing agent is executed.例文帳に追加

金属成型物に対して処理剤により金属表面処理を行う場合に、ここで生じる水洗水に対し、逆浸透膜処理を用いて効率よく有効成分を回収し、かつ優れた水質の透過液を長期に亘って安定して得る方法を提供する。 - 特許庁

In the laminate of the protective film formed on the wafer and the die attach film, the protective film is formed by executing plasma processing using a reactive gas to the surface of a resin film formed from a resin composition containing two or more kinds of resins of different etching rates.例文帳に追加

ウエハ上に形成された保護膜とダイアタッチフィルムとの積層体であって、前記保護膜が、エッチングレートの異なる２種以上の樹脂を含む樹脂組成物から形成される樹脂膜の表面に反応性ガスを用いたプラズマ処理を施して成ることを特徴とする積層体。 - 特許庁

To alleviate the load of chemical-mechanical polishing (CMP), enhance machining efficiency, and improve on substrate surface flatness by replacing the whole or part of substrate processing in CMP with electrochemical machining using pure water or, preferably, ultrapure water.例文帳に追加

化学機械的研磨（ＣＭＰ）による基板処理工程の一部または全部を、純水、好ましくは超純水等を用いた電解加工に置き換えることにより、化学機械的研磨（ＣＭＰ）の負荷を軽減させ、更に高効率で平坦性の高い加工を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a coating film recycling method which includes a method for properly removing a coating film formed on a surface of a magnesium alloy product, in a short period of time while attaining prolongation of life of a using processing liquid and to provide a coating film recycling system from a coated magnesium alloy product.例文帳に追加

使用する処理液の長寿命化を達成しつつ、マグネシウム合金材の表面に形成されている塗膜を短時間で適切に除去するための方法、を含む塗膜のリサイクル方法、および、被塗装マグネシウム合金材からの塗膜リサイクルシステムを提供すること。 - 特許庁

To prevent a sapphire substrate from completely peeling off a GaN layer after laser lift-off in a laser lift-off apparatus even if a work temperature somewhat rises, in laser lift-off processing for peeling off a GaN-based compound crystal layer formed on a surface of the sapphire substrate.例文帳に追加

サファイア基板の表面に形成されたＧａＮ系化合物結晶層を剥離するためのレーザリフトオフ処理において、ワークの温度が多少上昇したとしても、レーザリフトオフ装置内で、レーザリフトオフ後のサファイア基板がＧａＮ層から、完全に剥がれてしまうことがないようにすること。 - 特許庁

In the carrier, the two-component developer, the processing cartridge and the image forming apparatus 100, the coat layer is provided on the surface of a core material comprising a magnetic body.例文帳に追加

磁性体よりなるコア材表面にコート層を設け、前記コート層は、少なくとも、一般式（Ａ）の水ガラス成分、一般式（Ｂ）のポリアルキレンイミン成分および一般式（Ｃ）のリン酸二水素アルカリ金属成分の反応物を含むキャリア、これを用いた二成分現像剤、プロセスカートリッジ、および画像形成装置１００。 - 特許庁

To reduce a leakage current in a silicon substrate by forming holes by a thin nitride film having an oxide film surface nitrided without difficulty in processing nor deterioration in light collection efficiency as compared with conventional constitution and capturing interstitial Si atoms generated by ion injection into the holes.例文帳に追加

酸化膜表面が窒化された薄い窒化膜により、従来の構成に比べて加工の困難性もなく集光効率の悪化もなく、空孔を発生させ、イオン注入によって発生した格子間Ｓｉ原子を空孔に捕獲させることによりシリコン基板内のリーク電流を低減させる。 - 特許庁

In a ticket processor in which nip carrying devices arranged near a ticket receiving slot obtain a ticket and a processor performs prescribed processing, at least one between the nip carrying devices is a holding belt, and the holding belt comes into surface contact with the other nip body.例文帳に追加

チケット受け入れ口の近傍に配置したニップ搬送装置によってチケットを取り込んで処理装置によって所定の処理を行うチケット処理装置において、ニップ搬送装置の少なくとも一方が保持ベルトであって、その保持ベルトは他方のニップ体に対し面接触する。 - 特許庁

To provide an olefinic thermoplastic elastomer sheet which has rubber elasticity, flexibility, and molding and processing characteristics comparable to those of previous olefinic thermoplastic elastomers, has good mechanical characteristics and is excellent particularly in marring resistance, its manufacturing method, and a laminate having a surface layer comprising the sheet.例文帳に追加

従来のオレフィン系熱可塑性エラストマーと同様のゴム弾性、柔軟性および成形加工性を有し、しかも、機械的特性が良好で、特に耐傷付性に優れたオレフィン系熱可塑性エラストマーシートおよびその製造方法並びにこのシートよりなる表層を有する積層体を提供する。 - 特許庁

To define a reference plane and a reference coordinate system using a plurality of fixed points with excellent reproducibility by extracting points corresponding to anatomical characteristic points set on the surface of a bone, etc., from three-dimensional image data univocally in a three-dimensional image processing device.例文帳に追加

３次元画像処理装置において、骨などの表面上に設定される解剖学的な特徴点に対応する点を３次元画像データから一義的に定点として抽出し、同定点を複数用いて基準面および基準座標系を再現性良く定義することを可能にする。 - 特許庁

An organic/inorganic composite processing layer including a carboxyl group containing resin, an oxazoline group base containing resin, and a hardened material of a resin composition containing basic phosphate compound is formed on a surface of a molten aluminum plated steel plate, and a thermal fusion polyolefin resin layer is formed on it.例文帳に追加

溶融アルミニウムめっき鋼板の表面にカルボキシル基含有樹脂、オキサゾリン基含有樹脂および塩基性リン酸化合物を含有する樹脂組成物の硬化物からなる有機無機複合処理層を形成し、その上に熱融着性ポリオレフィン系樹脂層を形成する。 - 特許庁

To provide a rubber composition having excellent operability at rubber processing, and providing a pneumatic tire having excellent braking and driving performance on the icy and snowy road surface and good abrasion resistance, and to provide the pneumatic tire obtained by using the rubber composition and having the above performance.例文帳に追加

ゴム加工時の作業性に優れると共に、氷雪路面でのタイヤの制動・駆動性能（氷上性能）に優れ、耐摩耗性の良好な空気入りタイヤを与えることができるゴム組成物、並びにこのゴム組成物をトレッドに用いてなる前記の性能を有する空気入りタイヤを提供すること。 - 特許庁

The infrared irradiator is constituted of an irradiation substrate plate being a plate-shaped member made of stainless steel or Inconel of which both surfaces are subjected to ceramic processing and irradiating an irradiation object with infrared rays and the heating means arranged on the back surface side of the irradiation substrate plate to emit infrared rays.例文帳に追加

本発明の赤外線照射装置は、両面がセラミック加工されたステンレス製又はインコネル製の板状部材であり、照射対象に赤外線を照射するための照射基板と、前記照射基板の裏面側に配置され、赤外線を放射する加熱手段とを備える構成である。 - 特許庁

To provide a developing device by which a stable image free from surface staining and toner scattering is outputted even when copying processing is repeated over a long term or even when a special using state where toner consumption is low extends over a long time in a compact developing device.例文帳に追加

小型の現像装置において、長期に渡りコピープロセスが繰り返された場合、或いはトナーの消費が少ない特殊な使用状態が長期間に及んだ場合にも、地肌汚れ、トナー飛散のない安定した画像の出力が可能な現像装置を提供することである。 - 特許庁

The surface processing device 10 is equipped with: an ion implantation unit 31 and a plasma doping unit 21, and the ion implantation unit 31 is equipped with a decelerator 37 decelerating ions, a deflector 38 deflecting the decelerated ions toward a stage 4, and a bias power supply 9 guiding ions to the stage 4.例文帳に追加

イオン注入ユニット３１とプラズマドーピングユニット２１とを備えた表面処理装置１０において、イオン注入ユニット３１は、イオンを減速させる減速器３７と、減速させたイオンをステージ４側へ偏向させる偏向器３８と、イオンをステージ４へ導くためのバイアス電源９とを備える。 - 特許庁

To freely move a suction terminal in a clinic, and to prevent the aperture of an existent piping connected beforehand with the suction terminal from being exposed from a floor surface after removing the suction terminal from a conventional fixed dental treatment waste processing system.例文帳に追加

吸引端末を診療室内において自由に移動させることを可能とすると共に、これを従来の固定型の歯治療汚物処理システムから取り外した後に、その吸引端末に以前から接続されていた配管の開口が床面から露出することを防止する。 - 特許庁

At least either of the direction of the processing line and the angle of the radiation axis 24 is changed so that the ion beam-irradiated side surface 26 significantly approaches a direction toward the other side out of the first and second parts where the covering part 16 is thicker rather than a direction toward one side where the covering part 16 is thinner.例文帳に追加

イオンビーム照射側面２６が、第１及び第２の部分のうち被覆部１６の薄い一方への方向よりも、被覆部１６の厚い他方への方向に大きく接近するように、加工ラインの方向及び照射軸２４の角度の少なくとも一方を変更する。 - 特許庁

The dicing apparatus includes a rotatable blade 10 with a rotating shaft 12, which is for processing a workpiece (wafer 16), and a disk-shaped pressing portion rotatably supported at the rotating shaft 12 on both sides of the blade 10, and for rolling on the upper surface of the workpiece (wafer 16) independently together with the blade 10.例文帳に追加

ダイシング装置は、回転軸１２を有する回転可能な、ワーク（ウエハ１６）を加工するブレード１０と、ブレード１０の両側に、該回転軸１２に回転自在に軸支され、ブレード１０と独立して、ワーク（ウエハ１６）の上面を転動する円盤状の押圧部とを備えるものである。 - 特許庁

To provide a non-contact type alignment processing device capable of forming a multi-domain alignment at low cost even with a large substrate and enlarging the angle of visibility of a liquid crystal display device without using a metal mask or a photo lithography process and without a troublesome surface treatment of an alignment film.例文帳に追加

メタルマスクやフォトリソグラフィー工程を用いず、煩雑な配向膜の下地処理も行なわずに、基板が大型化しても低コストでマルチドメイン配向を形成して、液晶表示装置の視野角を拡大することができる非接触式配向処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing apparatus 1 includes a means 18 for disturbing the flow of fluid flowing along a substrate surface from an upper side to a lower side in a vertical direction when a liquid is flowed from a supply port 111 to a discharge port 112 in a state where the substrate 2 is immersed in the liquid L in a tank 11.例文帳に追加

処理装置１は、基板２が槽１１内の液体Ｌに浸漬した状態で、供給口１１１から排出口１１２へ向かって液体を流す際に、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れる流体の流れを乱す手段１８を備える。 - 特許庁

A control part 7 controls a conveyance part 6 in film type decision processing to convey a set piece film or sleeve film to an imaging part 5 first by a 1.5-frame length and controls the imaging part 5 to input digital image data of an exposure surface of the 1.5-frame length from the head of a film.例文帳に追加

制御部７は、フィルム種判別処理において、搬送部６を制御してセットされたピースフィルムあるいはスリーブフィルムを、まず１．５コマ長分撮像部５に搬送させ、撮像部５を制御し、フィルム先頭から１．５コマ長分の露光面のデジタル画像データを入力させる。 - 特許庁

To provide a decorative sheet that can be used in laminate processing on a flat substrate as a matter of course, can resist to three-dimensional formation such as wrapping process or vacuum forming process on a three-dimensional substrate, and that is made of a biomass material excellent in surface physical property such as scratch resistance.例文帳に追加

平面状基材へのラミネート加工は勿論のこと、立体形状の基材へのラッピング加工や真空成形加工等の立体成形にも耐えることができ、しかも耐傷付き性等の表面物性にも優れたバイオマス原料から構成された化粧シートを提供することにある。 - 特許庁

The device for processing a resist pattern 1 is provided with a stage 12 for mounting a substrate 10 having a patterned photoresist R disposed on a surface; an ultraviolet irradiating section 14 for projecting an ultraviolet beam to the stage 12; and an annular member 16 that surrounds the entire periphery of the substrate 10.例文帳に追加

レジストパターン処理装置１は、パターニングされたフォトレジストＲが表面に配置された基板１０を載置するためのステージ１２と、ステージ１２に向けて紫外線を照射する紫外線照射部１４と、基板１０の周囲全体を囲む環状部材１６とを備える。 - 特許庁

To provide a technique for properly determining surface defects from the spatial position coordinates of a measurement point and a reference point, after aligning the measurement point and the reference point, on the basis of sequential convergence processing for sequential convergence of the distance between the corresponding measurement point and the reference point.例文帳に追加

対応する測定点と基準点との間の距離を逐次収束させる逐次収束処理に基づいて測定点と基準点とを位置合わせしたのち、測定点と基準点との空間位置座標から適正に表面欠陥を判定する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of giving a high quality-polished surface where a metal layer is efficiently removed and the generation of defects in polishing such as a metal residue, dishing, and erosion are suppressed in manufacturing a semiconductor device formed of wiring materials such as metals of copper, copper alloy and the like.例文帳に追加

銅または銅合金等の金属を配線材料とする半導体装置の製造において、金属層が効率的に除去され、かつ金属残り、ディッシング、エロージョン等の研磨不良の発生が抑制された高品位の被研磨面を与えることができる、基板処理方法を提供する。 - 特許庁

After a metallic layer 8a, which constitutes a part of a foundation metal BLM for a CCB bump, is processed by using a resist pattern 13 as a mask, a hydrophobic fluoride layer 12 is formed by plasma processing using fluorine gas in a surface of a PIQ film 9b while leaving the resist pattern 13.例文帳に追加

ＣＣＢバンプ用の下地金属ＢＬＭの一部を構成する金属層８ａをレジストパターン１３をマスクとして加工した後、レジストパターン１３を残したままＰＩＱ膜９ｂの表面にフッ素系ガスを用いたプラズマ処理によって、疎水性のフッ化物層１２を形成する。 - 特許庁

Thus, the unacceptable internal pressure can be detected by the reduction of the liquid surface even in a case of a plastic container such as the PET bottle 2 for which the hot pack filling or the retort processing has been performed, and the internal pressure defect can be detected from the outside of the case even for a container for which the tapping inspection cannot be applied such as a plastic container.例文帳に追加

これにより、ホットパック充填やレトルトされたＰＥＴボトル２などのプラスチック容器でも、液面の低下から内圧不良であることを検出することができ、打検法が適用できないプラスチック容器などの容器でもケースの外部から内圧不良を検出することができる。 - 特許庁

This molten slag processing method and the slag receiving vessel of the molten slag are characterized by receiving the slag plural times without separating and removing each time the hardened slag sticking to a surface in the slag receiving vessel for receiving and carrying the molten slag discharged from an iron-manufacturing smelting furnace such as a blast furnace, a converter, and an electric furnace.例文帳に追加

高炉、転炉および電気炉等の製鉄精錬炉から排出される溶融スラグを受滓し運搬する受滓容器内表面に付着した固化スラグを毎回剥離除去することなく複数回受滓することを特徴とする溶融スラグの処理方法および溶融スラグの受滓容器。 - 特許庁

In this wet processing method wherein semiconductor wafers W are immersed in a process liquid, the semiconductor wafers W are immersed with their surfaces W1 facing upward, with the wafers W inclined at 3-45° or 10-20° relative to the process liquid surface H.例文帳に追加

半導体ウェーハＷを処理液に浸漬してウエット処理する方法であって、半導体ウェーハＷを処理液に浸漬する際に、半導体ウェーハＷの表面Ｗ１が上側になるようにして、処理液面Ｈに対して３°〜４５°または１０°〜２０°傾いた状態とする。 - 特許庁