「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(139ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus which is capable of quick processing without pollution in an apparatus main body by avoiding blowout of toner clouds from a cleaner housing when separating a cleaner blade or a seal from an image carrier surface, to prevent the toner from leaking out of the cleaner housing.例文帳に追加

担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などする際にトナークラウドがクリーナハウジングから噴出することを回避することにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを防止して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供することを目的。 - 特許庁

A CPU 50 performs control for making the speaker array 40 perform acoustic playback by a designated directivity pattern in mirror-surface symmetry with respect to a virtual plane including an axis going perpendicularly through the center of the speaker array 40 according to a signal processing control program 61.例文帳に追加

ＣＰＵ５０は、信号処理制御プログラム６１に従い、指定された指向性パターンであって、スピーカアレイ４０の中心を垂直に貫く軸を含む仮想平面について鏡面対称な指向性パターンでの音響再生をスピーカアレイ４０に行わせる制御を行う。 - 特許庁

The means is to spray heated and vaporized functional water, which is ozone water obtained by forcing ozone gas be contained in deionized water, or which is ozone water obtained by electrolyzing deionized water onto the substrate after the dry etching, and to execute plasma processing to remove the photoresist film on the substrate surface.例文帳に追加

その手段は機能水としてオゾンガスを超純水に含有させて成るオゾン水や超純水を電気分解して得たオゾン水を用い、加熱・水蒸気化したものを前記ドライエッチング後の基板に噴霧、プラズマ処理することで、基板表面のフォトレジスト膜を除去するものである。 - 特許庁

The apparatus includes a reactive species generator adapted to generate a reactive gas species for chemically etching the accumulated material from chamber components, and a processing chamber having at least one component with a mirror polished surface which is exposed to the reactive species.例文帳に追加

本装置は、蓄積した物質をチャンバ構成要素から化学的にエッチングする反応性ガス化学種を生成するように適合した反応性化学種発生器、及び反応性化学種に曝露される鏡面研磨面をもつ少なくとも１つの構成要素を有する処理チャンバを含んでいる。 - 特許庁

The electrochemical device has had its active material constituting polarizable electrode layers 12, 22 of a cathode 10 and an anode 20 subjected to esterification processing, which resulted in a hydroxyl group or a carboxyl group present on the surface of the active material being replaced with an amino group having an alkyl chain.例文帳に追加

この電気化学デバイスは、正極１０及び負極２０の分極性電極層１２，２２を構成する活物質がエステル化処理され、エステル化処理により活物質の表面に存在する水酸基やカルボキシル基がアルキル鎖を有するアミノ基によって置換されている。 - 特許庁

The member for the semiconductor manufacturing apparatus incorporated in the semiconductor manufacturing apparatus for processing a semiconductor wafer is made of a porous alumina substrate with a surface layer having a porosity of 20-60% and the depth of a pore of 10-100 μm.例文帳に追加

半導体ウエハを処理する半導体製造装置に配置される半導体製造装置用部材において、表層が２０％〜６０％の気孔率を持ち、気孔の深さが１０μｍ〜１００μｍの多孔質のアルミナ基材であることを特徴とする半導体製造装置用部材。 - 特許庁

The spool valve is manufactured by overaging processing the base material made of aluminum alloy containing no free-cutting component, cutting it into a specified shape, coating and baking a solid lubrication component on the base material front surface, and forming a solid lubrication coating.例文帳に追加

このスプール弁は、(a) 快削成分を含有しないアルミニウム合金からなる基材を過時効処理し、(b) 所定の形状に切削加工し、次いで(c) 基材表面に固体潤滑剤組成物のコーティング・焼付けを行って固体潤滑膜を形成することにより製造される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is capable of quick processing without pollution in an apparatus main body by reducing toner clouds staying in a cleaner housing to avoid blowout of large quantities of floating toner from the cleaner housing when separating a cleaner blade or a seal from an image carrier surface.例文帳に追加

クリーナハウジング内に滞留するトナークラウドを少なくすることにより、担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などする際にクリーナハウジングから多量の浮遊トナーが噴き出すことを回避して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is capable of quick processing without pollution in an apparatus main body by reducing toner clouds staying in a cleaner housing to avoid blowout of floating toner of large quantities of toner clouds from the cleaner housing when separating a cleaner blade or a seal from an image carrier surface.例文帳に追加

クリーナハウジング内に滞留するトナークラウドを少なくすることにより、担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などする際にクリーナハウジングから多量のトナークラウドの浮遊トナーが噴き出すことを回避して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To implement stable processing, for example when a palladium surface is coated with a chemical solution, by adjusting the level of wettability appropriately and suppressing the rate of change of the wettability with the passage of time to a regular value or below in a palladium film taken from a palladium film roll.例文帳に追加

パラジウムフィルムロールから採取したパラジウムフィルムにおいて、濡れ性を適度なレベルとすると共に、濡れ性の経時による変化率を一定の値以下に抑え、パラジウム表面に薬液を塗工するなどの加工を行う際に、安定した加工が実施できることを目的とする。 - 特許庁

Processing with identifiers not of curved-surface patches whose edges are composed of parametric curves but of primitive patches having linear boundaries can reduce calculation cost for rendering to display and edit an image processed by fast vectorization with as little loss of image quality as possible.例文帳に追加

エッジがパラメトリック曲線で構成される曲面パッチではなく、直線境界を有するプリミティブパッチの識別子を用いて処理するので、レンダリングに係る計算コストを低減し、画質をできるだけ損なうことなく高速にベクトル化された画像を表示し編集することができる。 - 特許庁

The titanium oxide photocatalyst covered with the porous silica coating is provided by processing the surface of titanium oxide particles with a compound having a polar group, thereafter coating it with a silane-based compound, then forming pores by removing the compound having the polar group.例文帳に追加

本発明の多孔性シリカ被膜被覆酸化チタン光触媒は、酸化チタン粒子表面を、極性基を有する化合物で処理した後、シラン系化合物でコーティング処理し、次いで前記極性基を有する化合物を除去して孔を形成することにより得られる。 - 特許庁

After a tooth-formed cylindrical gear is subjected to surface hardening, the gear whose tooth form are provided by hard finishing using a CBN grinding wheel or honing using an internal gear type grinding wheel is subjected to shot peening processing and gyro-grinding or honing-grinding.例文帳に追加

歯形形成した円筒歯車を表面硬化処理して後、ＣＢＮ砥石を用いたハードフィニッシング加工あるいは内歯車形砥石を用いたホーニング加工で歯面形状を整えた歯車に対して、ショットピーニング処理とジャイロ研磨処理あるいはホーニング研磨処理を行う。 - 特許庁

Stored corner shapes are refined to corner shapes to be deleted (S16), refined features or surface elements are deleted from the three-dimensional shape information (S18), and projection processing is performed on the basis of the three-dimensional shape information after the deletion (S20) to obtain two-dimensional shape information.例文帳に追加

蓄積されたコーナ形状から削除対象とするコーナ形状を絞り込み（Ｓ１６）、絞り込まれたフィーチャあるいは面要素を３次元形状情報から削除し（Ｓ１８）、削除後の３次元形状情報を基に投影処理を行って（Ｓ２０）、２次元形状情報を得る。 - 特許庁

In the thermal processing space 111, partitioning plates 170 are disposed in surplus spaces 111b between both end portions of the rotor 120 and furnace core flange portions 116 and 118 of the furnace core pipe 110, thereby preventing exhaust gas 6c which is gas after reacting with a film surface from flowing into the surplus spaces 111b.例文帳に追加

熱処理空間１１１内に、回転体１２０の両端部と、炉芯管１１０の炉芯フランジ部１１６、１１８との間の余剰空間１１１ｂに仕切板１７０を配置して、余剰空間１１１ｂに、膜面と反応した後のガスである排気ガス６ｃが流れないようにした。 - 特許庁

It becomes possible to easily administrate the etching time and to realize processing of the silicon substrate 108, resulting small load to the human body and the environment by applying a voltage such that the silicon substrate 101 is removed only in the vicinity of the counter electrode 108, and an oxide film is not formed on the surface of the silicon substrate 101.例文帳に追加

このシリコン基板１０１が対極１０８近傍においてのみ除去され、かつ、シリコン基板１０１表面に酸化膜を形成しない電圧を印加することにより、エッチング時間の管理が容易で、人体および環境への負荷が小さいシリコン基板１０１の加工が可能になる。 - 特許庁

To realize excellent magnetic signal read out characteristics by preventing to sustain an injury in processing of facing surface of a medium by making resistance of a conductive layer of a magnetroresistive (MR) effect element small enough to pass a current for detection of a magnetic signal.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子に対して磁気的信号検出用の電流を流すための導電層の抵抗を十分小さくしながら、媒体対向面の加工の際に導電層が損傷を受けることを防止して、良好な磁気的信号読み出し特性を実現する。 - 特許庁

A cleaning method of a substrate processing apparatus comprises a step for conveying a cleaning member having a contamination collection capability which is different from contamination collection capability by mirror surface conveyance of a silicon wafer, and a step for performing mirror side conveyance of a silicon wafer, after the transfer of the cleaning member.例文帳に追加

本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、シリコンウェハのミラー面搬送による異物捕集能力とは異なる異物捕集能力を有するクリーニング部材を搬送すること、および、該クリーニング部材の搬送の後、シリコンウェハのミラー面搬送を行うことを含む。 - 特許庁

To provide an electrophotographic apparatus in which a silicon oxide film generated on the surface of an electrophotographic photoreceptor by malfunction of the image forming apparatus and a rapid change of ambient surroundings can be detected even on a minor level and processing on the film can be performed.例文帳に追加

画像形成装置の異常や周辺環境の急激な変化によって電子写真感光体表面に発生する酸化ケイ素膜について、軽微なレベルでも検知可能で、その処理を施すことができる電子写真装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an optical compensation film that is a cellulose ester film for a TN type liquid crystal display having neither gradation, nor inversion, nor blackout, nor white spot, and also having superior viewing angle characteristics, by tilting an optical axis from a film surface normal direction by rolling processing.例文帳に追加

本発明の目的は、光学軸をフィルム面法線方向から圧延処理によって傾斜させることにより、階調反転、黒つぶれ、白抜けがなく、視野角特性に優れたＴＮ型液晶装置用のセルロースエステルフィルムである光学補償フィルムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a non-slip sheet for a tatami backing which prevents loss of a slip resistance due to flattening of a resin film surface due to temperature increase at moisture adjustment processing of an insulation board used for a tatami core material and has good projection abrasion and slip resistances.例文帳に追加

畳芯材に用いられるインシュレーションボードの水分調整加工時の温度上昇により樹脂フィルム表面が平滑化して防滑性を喪失することのない、耐突起物擦傷性及び防滑性にすぐれた畳裏貼り用滑り止めシートを提供すること。 - 特許庁

The simulation step includes correction processing for correcting a calculated stress based on a preliminarily set characteristic curve indicating a stress and a volume strain in plastic deformation, when the road surface forming subject model is judged to be under the plastic deformation and a load-applied condition.例文帳に追加

このシミュレーションステップは、路面形成物モデルが塑性変形かつ荷重負荷状態にあると判断された場合、計算された応力を、予め設定された塑性変形時における応力と体積歪との関係を示す特性曲線に基づいて修正する修正処理を含む。 - 特許庁

The method for processing the plant comprises forming a film of a liquid coating material containing a hydrolyzable organometallic compound and a reaction catalyst on the surface of the plant and carrying out hydrolysis and dehydration condensation of the organometallic compound in the presence of the reaction catalyst and water at ≤60°C to vitrify the film.例文帳に追加

植物の表面に、加水分解可能な有機金属化合物と、反応触媒とを含む液状のコーティング材の膜を形成し、前記有機金属化合物を、前記反応触媒および水の存在下でかつ６０℃以下の温度で、加水分解、脱水縮合させて、ガラス化させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having satisfactory sensitivity and superior in development stability, and to further provide a photosensitive composition and a photosensitive lithographic printing plate material that is free of surface soiling, after passage of time in storage and superior in processing stability.例文帳に追加

本発明の目的は十分な感度を有し、かつ現像安定性に優れた感光性組成物を提供することであり、更に保存経時後の地汚れの発生のない処理安定性に優れた感光性組成物及び感光性平版印刷版材料を提供することにある。 - 特許庁

The silicon processing method includes: forming a mask pattern on a single-crystal silicon substrate 100 of which principal surface is (100) an equivalent face 103 or (110) an equivalent face; and applying crystal anisotropic etching to form a structure comprising (111) an equivalent face and having width W1 and length L1.例文帳に追加

シリコンの加工方法で、主面が（１００）等価面１０３或いは（１１０）等価面である単結晶シリコン基板１００上に、マスクパターンを形成し、結晶異方性エッチングを施して、（１１１）等価面で構成され幅Ｗ１と長さＬ１を有する構造体を形成する。 - 特許庁

To provide an image processor for obtaining an image by which a user effectively observes a surface on an object from a plurality of photographic images of the object taken by changing the irradiating direction of light, and to provide an image processing system and a control program.例文帳に追加

光線の照射方向を変えて対象物を撮影した複数の撮影画像から、当該対象物上の表面をユーザに効果的に観察させることが可能な画像を取得することができる画像処理装置、画像処理システム及び制御プログラムを提供する。 - 特許庁

To solve problems in on-chip processing relating to extended geometrical primitives such as a re-divided surface patch, a NURBS patch and an adjoining triangle, which are used as input information in an algorithm to be used in three-dimensional computer graphics or the like.例文帳に追加

本発明は，３次元コンピュータグラフィックスにおいて用いられるアルゴリズムなどにおける入力情報として用いられる，再分割表面パッチや，NURBSパッチ，隣接する三角形など，拡張された幾何学的プリミティブに関するチップ上のプロセッシングに関する問題を解決することを目的とする。 - 特許庁

The bio-implant manufacturing method includes: a process 1 for manufacturing the base material having the porous layer on the front surface; and a process 2 for hydrothermally processing the base material obtained in the process 1 in a water solution containing at least calcium ion of 3.75 mM and at least phosphoric acid ion of 1.5 mM.例文帳に追加

表面に多孔質層を有する基材を製造する工程１と、工程１で得られた基材を、少なくとも３．７５ｍＭのカルシウムイオン及び少なくとも１．５ｍＭのリン酸イオンを含む水溶液中にて水熱処理する工程２と、を含む生体インプラントの製造方法。 - 特許庁

To provide a resist removing method and which uniformly removes a resist on a substrate surface at a high efficiency and suppresses the consumption of ozone-containing water to the minimum, thereby processing cheaply, and also to provide a resist remover the most suitable for this method.例文帳に追加

基板表面のレジストを高効率にかつ均一に除去することができるとともに、オゾン水の使用量を最小量に抑えることができるため、安価に処理を行うことができのレジスト除去方法、及び、該レジスト除去方法に最適なレジスト除去装を提供する。 - 特許庁

The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of performing polymer solution processing to the solid layer; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.例文帳に追加

基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層をポリマー溶液処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁

The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of performing chemical processing to the solid layer; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.例文帳に追加

基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層を化学薬品処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁

This is a paper tube for winding shaft core formed by winding a stencil paper for paper tube in a spiral form and in a layer form, and at least the surface layer of the above paper tube is formed of a paper applying at least one sort of processing agent, and the roll form scroll is made by using this paper tube.例文帳に追加

紙管用原紙を螺旋状、且つ層状に巻回して形成された巻取り軸芯用紙管であって、該紙管の少なくとも最表層が少なくとも１種の処理剤が塗布された紙で形成された巻き取り軸芯用紙管、及び該紙管を用いたロール状巻物。 - 特許庁

The substrate chemical processor is provided with a spin chuck 13 for rotating a wafer W by holding the same, nozzles 14A to 14C for discharging the plurality of kinds of chemicals to the front surface of the wafer W, and a processing cup 12 provided surrounding the spin chuck 13 to collect the chemicals splashed from the wafer W.例文帳に追加

基板薬液処理装置は、ウエハＷを保持しながら回転させるスピンチャック１３と、ウエハＷの表面に複数種類の薬液を吐出するノズル１４Ａ〜１４Ｃと、スピンチャック１３を取り囲み且つウエハＷから飛散した薬液を回収する処理カップ１２とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for obtaining an optical lens having high precision in appearance quality, optical precision and dimensional precision, etc., which can remove surely a processing level difference caused by a backlash or the like which is formed near an inflection point of a machined surface of an optical lens machined by a NC control curve generator by polishing.例文帳に追加

ＮＣ制御によるカーブジェネレータによって切削加工された光学レンズの切削面の変曲点近傍に生成されるバックラッシュ等による加工段差を研磨によって確実に取り除くことができ、外観品質、光学精度、寸法精度等の高精度な光学レンズを得る。 - 特許庁

The method for producing a sheet includes a process for rotating a pair of rolls 2 and 3 equipped with mutually meshing toothed grooves 20 and 30 on the peripheral surface parts so as to follow the directions of revolving shafts, feeding a base sheet 10 to meshed parts between them and subjecting the substrate sheet 10 to stretch processing.例文帳に追加

本発明のシートの製造方法は、互いに噛み合う歯溝２０、３０が回転軸方向に沿うように周面部に設けられた一対のロール２、３を回転させ、それらの噛み合い部分に基材シート１０を供給し、基材シート１０に延伸加工を施す工程を具備している。 - 特許庁

The adhesive processing sheet is provided with an adhesive layer on one surface of a support body which is not lower than 15N/mm^2 and not greater than 250N/mm^2 in bending modulus when a slender sheet with a width of 20mm is bent at 3.0mm of a radius of curvature.例文帳に追加

加工用粘着シートは、支持体の一方の面に粘着剤層を有する加工用粘着シートであって、この支持体は、幅２０ｍｍの細長いシートを曲率半径３．０ｍｍで曲げた時の曲げ弾性率が１５Ｎ／ｍｍ^２以上、２５０Ｎ／ｍｍ^２以下である。 - 特許庁

This paper package 9 has the identification mark 31 composed of a plurality of areas on the surface of a package material 8 and having a light nonreflecting processing part 31d or a first hole 31e punched for acquiring the reflection of light by paper 7 in each area.例文帳に追加

用紙パッケージ９は、パッケージ材８の表面には複数の領域からなると共に、各領域には光の無反射処理部３１ｄか、用紙７による光の反射を取得するために穿孔された第一穴部３１ｅを備えた識別マーク３１が設けられている。 - 特許庁

This protective sheet for processing a semiconductor wafer comprises a pressure-sensitive adhesive sheet made by laminating a radiation- curable pressure-sensitive adhesive layer on a base film, wherein the base film surface in contact with the pressure-sensitive adhesive layer has an average roughness Ra (μm) greater than 0.01.例文帳に追加

基材フィルム上に放射線硬化型粘着層が積層されている半導体ウエハ加工用粘着シートにおいて、前記基材フィルムの放射線硬化型粘着層と接着する面の平均粗さＲａ（μｍ）が、０．０１＜Ｒａであることを特徴とする半導体ウエハ加工用保護シート。 - 特許庁

The control means acquires an exposure image of the imaging element in a state wherein the main reflecting surface 61 is moved to a mirror-up position and an eye piece shutter of the finder optical system is opened, and performs detection processing for detecting a defective pixel of the imaging element 7 based upon the exposure image.例文帳に追加

制御手段は、主反射面がミラーアップ位置に移動され且つファインダ光学系のアイピースシャッタが開放された状態において撮像素子による露光画像を取得し、当該露光画像に基づき撮像素子の欠陥画素を検出する検出処理を実行する。 - 特許庁

To provide an electronic part such as a BGA chip, for example, which does not contain Pb causing an environmental problem and in which an electrical contact area is formed by surface processing using alloy series containing Sn and Ag and the contact resistance of the electrical contact area is small, and a method of manufacturing the part.例文帳に追加

環境上の問題となるPbを含有せず、SnとAgを含有する合金系の表面処理によって電子部品の電気接触部を形成するとともに、この電気接触部の接触抵抗が小さい、例えばBGAチップのような電子部品及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

A substrate processing device has a transfer roller 6 of the substrate 3 substantially in the horizontal direction, an air knife nozzle 3 for flowing mixed gas containing water soluble organic solvent at the concentration range of 0.05% to 90% under the substrate vapor pressure on the surface of the substrate 3 after washing transferred substantially in the horizontal direction.例文帳に追加

基板３を略水平方向に搬送用ローラ６と、略水平方向に搬送される洗浄後の基板３表面に、水溶性有機溶剤を飽和蒸気圧の０．０５％〜９０％の濃度範囲で含む混合気体を狭い空間から吹き付けるエアナイフノズル３を有する。 - 特許庁

To provide an LED indicator which contrives optimization for application by optionally selecting the number and shape of hood and attaching the same to a main body of the LED indicator and enables more effectively to prevent the reflection of solar light also by making the crimp processing of the upper surface of the hood satisfactory.例文帳に追加

廂の個数や形状を任意に選択してＬＥＤ表示器の本体に取付けて用途に対する最適化を図るとともに廂の上面のシボ加工も良好にして太陽光の反射がより効果的に防止できるＬＥＤ表示器を提供すること。 - 特許庁

To obtain color paper which does not cause surface stain, unevenness in processing and the deterioration of photographic characteristics (lowering of the color density and color mixture) due to the inclusion of a bleach fixing solution in a color developing solution and gives a print of satisfactory quality even when development time is considerably shortened.例文帳に追加

現像時間を大幅に短縮しても、白地汚れ、処理むら及び漂白定着液のカラー現像液への混入による写真特性の低下（発色濃度、混色など）がなく、十分な品質のプリントが得られるカラーペーパー及びその現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoelement of light weight in which installation to a heat source etc. which has unevenness on the surface is easy, processing is easy, neither rare element nor toxic element is necessarily included, practically sufficient voltage and/or practically sufficient current are securable, and which is tough to vibration and thermal stress.例文帳に追加

その表面に凹凸がある熱源等への設置が容易であり、軽量かつ加工が容易で、希少元素や毒性元素を必ずしも含まず、実用上十分な電圧及び／又は電流を確保することができ、振動や熱応力に対して強い熱電素子を提供すること。 - 特許庁

The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加

非晶質シリコン膜１２ａは、フォトリソグラフィ処理でＷａの３倍の幅寸法４５ｎｍでパターニングされるが、スリミング技術で３０ｎｍに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜１５に変質させ、これによって寸法がＷａである１５ｎｍに形成される。 - 特許庁