「processing surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(136ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in rigidity, heat resistance, chemical resistance, surface appearance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.例文帳に追加

薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、剛性、耐熱性、耐薬品性、表面外観、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in surface appearance, rigidity, heat resistance, chemical resistance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.例文帳に追加

薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、表面外観、剛性、耐熱性、耐薬品性、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus so that a position of a substrate can be accurately detected without obstruction by the upper electrode inside a chamber, and capable of effectively removing particles and deposits that are present not only on upper and lower edges and a side surface of the substrate but also on an entire backside of the substrate.例文帳に追加

チャンバー内部の上部電極の妨げなしに基板の位置を正確に知ることができ、また、基板の上下エッジ及び側面だけではなく基板の背面の全体に存在するパーチクルと堆積物を効率よく除去することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To realize a flaw kind discriminating method in a disk surface inspecting apparatus constituted so as to be capable of accurately discriminating a flaw kind by properly selecting the signal obtained from a photodetector detecting regularly reflected light or scattered light to perform the processing corresponding to this signal.例文帳に追加

正反射光や散乱光を検出する受光素子から得られた信号を適切に選択し、その信号に応じた処理を行うことにより、各種の欠陥種類を正確に判別できるようにしたディスク表面検査装置における欠陥種類の判別方法の提供。 - 特許庁

To provide an occlusion processing method in a local region division type free visual point video generation method for preventing any mesh-shaped noise from being generated in a generated free visual point image even when the surface of an object exists on the boundary line of two adjacent local regions.例文帳に追加

被写体の表面が隣接する２個の局所領域の境界線上にある場合であっても、生成された自由視点画像に網目状の雑音が生じないようにする局所領域分割型自由視点映像生成方式におけるオクルージョン処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a genuineness and spuriousness discrimination label in which a variation in color is visually recognized only when a genuineness and spuriousness discrimination is made by making a surface layer have a different color tone from a luminous body and applying a special print processing thereto and which therefore is difficult to be imitated and has easiness of the discrimination.例文帳に追加

本発明は、表層を蓄光体と異なる色調として特殊印刷処理をすることにより真偽判別時にのみ、色調の変化形態が視認でき得る模倣を困難とした判別の容易性のある真偽判別ラベルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A single-crystal Si substrate 10 subjected to plasma processing for surface activation is bonded to a quartz substrate 20 at low temperature, external impact is given to it, and a silicon film is mechanically peeled from the bulk of a single-crystal silicon, thus obtaining a semiconductor substrate (SOI substrate) with a silicon film (SOI film) 12.例文帳に追加

プラズマ処理して表面活性化させた単結晶Ｓｉ基板１０と石英基板２０を低温で貼り合わせ、これに外部衝撃を付与して単結晶シリコンのバルクからシリコン膜を機械的に剥離してシリコン膜（ＳＯＩ膜）１２を備えた半導体基板（ＳＯＩ基板）を得る。 - 特許庁

A CPU 31 performs deconvolution processing using the reflected wave from a reference member 10 to correct the reflected wave from the living body tissue 8 and separates the reflected wave from the surface of the living body tissue 8 and the reflected wave from the back of the living body tissue 8 from the corrected reflected wave in a time region.例文帳に追加

ＣＰＵ３１は、リファレンス部材１０からの反射波を用いてデコンボリューション処理を行うことで生体組織８からの反射波を補正し、補正した反射波から生体組織８の表面での反射波及び裏面での反射波を時間領域で分離する。 - 特許庁

To provide a pavement reproducing construction method by present position processing capable of constructing a pavement body superior in durability at a present position by eliminating the need of paving a surface layer used for a paving mixture or the like and a reproducing pavement body constructed by the pavement reproducing construction method.例文帳に追加

舗装用混合物などを用いた表層を舗設する必要がなく、しかも、耐久性に優れた舗装体を、現位置にて構築することができる、現位置処理による舗装再生工法、並びにそのような舗装再生工法によって構築される再生舗装体を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a wafer processing apparatus which includes a device region where plural devices are formed on a front surface and a peripheral surplus region surrounding the device region and properly position a wafer in which a circular concave portion is formed at a backside corresponding to the device region at a position engaging with a chuck table.例文帳に追加

表面に複数のデバイスが形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを有しデバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成されたウエーハを、チャックテーブルと嵌合する位置に適正に位置付け可能なウエーハの加工装置を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the embossed sheet 60 by applying emboss processing to a thermoplastic resin sheet 50 on the metal endless belt 14 trained over a plurality of rolls 11,12, a heat-resistant easy peel resin layer having an uneven embossed pattern is applied to the surface of the metal endless belt 14.例文帳に追加

複数のロール１１、１２に巻装された金属製エンドレスベルト１４上で熱可塑性樹脂シート５０にエンボス加工を施すエンボスシート６０の製造方法において、金属製エンドレスベルト１４の表面に、凹凸のエンボスパターンを有する耐熱性、易剥離性樹脂層をコーティングする。 - 特許庁

The audio processing means detects a tapping sound signal generated by tapping the surface of the touch screen display, which is included in the input audio signal, and corrects the input audio signal in order to reduce the influence of the detected tapping sound signal on the input audio signal.例文帳に追加

音声処理手段は、入力音声信号内に含まれる、タッチスクリーンディスプレイ上をタップすることによって発生するタップ音信号を検出し、検出されたタップ音信号による入力音声信号への影響を軽減するために入力音声信号を補正する。 - 特許庁

This processing release paper comprises a laminate which is composed of a substrate and the releasing resin layer adhered to at least one of both the surfaces of the substrate, wherein the substrate has a surface resistivity (Ω) and/or a volume resistivity (Ω.cm) of 0.1×1010 to 6.0×1010.例文帳に追加

工程剥離紙を、基体と、この基体の少なくとも一方の面に設けられた離型性樹脂層との積層体からなる構成とし、基体を表面抵抗値（Ω）および／または体積抵抗値（Ω・ｃｍ）が０．１×１０^10〜６．０×１０^10の範囲内のものとする。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

To prevent high-temperature offset caused by a deviation in temperature change between the surface temperature of a fixing roller center part and a detection temperature by a thermistor when a fixing device is made in a fixing processing state from a standby state, as for the fixing device incorporating a main heater and a sub heater, and provided with the thermistor arranged in a non-paper passing area.例文帳に追加

メインヒータとサブヒータとを内蔵し、サーミスタを非通紙領域に設けた定着装置において、待機状態から定着処理状態になったときに生じる、定着ローラ中央部の表面温度とサーミスタの検知温度との温度変化のズレに起因する高温オフセットを防止する。 - 特許庁

To provide a power cord with antistatic function, which is excellent in wear resistance, can ensure the insulating property of an electric connecting terminal such as a plug without special insulating processing of the electric connecting terminal, and further can prevent the surface of the terminal or cord from being charged as much as possible.例文帳に追加

耐摩耗性に優れ、またプラグ等の電気接続端子を特別に絶縁加工することなく、電気接続端子の絶縁性を確保でき、しかも端子やコードの表面が帯電することを極力抑えることができる帯電防止機能付き電源コードを提供する。 - 特許庁

To provide an outside corner column imparting continuity to the pattern of the right and left plate pieces 1a, 1a by making a chamfered part 8 in the apex part 3 of the outside corner column A1 inconspicuous as much as possible and forming the similar image with the image (S, D) generating in the surface pattern in the chamfering processing part 8.例文帳に追加

出隅柱Ａ１の頂角部３における面取り加工部８をできるだけ目立たなくし、かつ面取り加工部８に表面柄部に生じる陰影（Ｓ，Ｄ）と同様な陰影が形成されるようにして、左右の板片１ａ，１ａの柄模様に連続性を持たせる。 - 特許庁

A packing bag 11 for sealing up a several kinds of liquids is equipped with a base 12 and liquid housing parts 15, 16 provided at the surface and the reverse side of the base 12 for housing one of these several kinds of liquids in cavities which are formed by processing films 13, 14.例文帳に追加

複数種類の液体を密閉封入する包装袋１１は、基材１２と、この基材１２の表裏面に設けられ、フィルム１３，１４を加工して形成される凹部に前記複数種類の液体のいずれかが収容される液体収容部１５、１６とを備えている。 - 特許庁

There is provided an adhesive tape 100 for semiconductor wafer processing, which has adhesive force of less than 20 cN/25 mm when the adhesive tape is attached to a background surface of the semiconductor wafer within 1 min after the backgrinding and is then left for 14 days and is irradiated with light.例文帳に追加

本発明に係る半導体ウエハ加工用粘着テープ１００では、半導体ウエハが、バックグラインド後１分以内に、バックグラインドされた面で貼り付けられた後１４日間放置されてから光が照射されたときの粘着力が、２０ｃＮ／２５ｍｍ未満である。 - 特許庁

In this synthetic aperture radar loaded on a flying object and having an interferometric function, the altitude of an observation point is determined by interferometric processing, and a true antenna incident angle is determined by using the altitude information, to thereby correct an antenna gain, and to correct the antenna pattern by the change of the ground surface altitude.例文帳に追加

飛翔体に搭載され、インターフェロメトリ機能を有した合成開口レーダーにおいて、インターフェロメトリ処理によって観測点の高度を求め、その高度情報を用いて真のアンテナ入射角を求めることで、アンテナゲインの補正を行って、地表面高度の変化によるアンテナパターンを補正する。 - 特許庁

The manufacturing method of a light emitting element mounting wiring board 1 on which a light emitting element is mounted includes a bonding process of bonding a substrate part 2 on which the light emitting element is provided and an aluminum reflecting plate 3 undergoing mirror surface processing via a bonding sheet 5.例文帳に追加

発光素子が搭載される発光素子搭載用配線板１の製造方法であって、前記発光素子が設けられる基板部２と、鏡面加工されたアルミニウムからなる反射板３とを、接着シート５を介して接着する接着工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Before the edge coating film 34 or an edge reinforcing protection film 35 is formed on the resonator edge faces 13, 14, the plasma processing is performed on the front surface of the nitride semiconductor laser bar 10 including at least the resonator edge faces 13, 14, through the use of nitride gas or the mixed gas of the nitride gas with noble gas.例文帳に追加

共振器端面１３、１４上に端面コート膜３４または端面強化保護膜３５を形成する前に、少なくとも共振器端面１３、１４を含む窒化物半導体レーザバー１０の表面を窒素ガスまたは窒素ガスと希ガスの混合ガスによってプラズマ処理する。 - 特許庁

The protecting layer 21 blocks the surface processing agent from contacting with moisture in the air, maintains the coating effect thereof (effect for bonding the metal material 11 and the resin 14), and can maintain the firm waterproofness for a long time in the bonding face 26 of the metal material 11 and the resin 14.例文帳に追加

保護層２１が、表面処理剤の、大気中の水分との接触を遮断し、その塗布効果（金属材１１と樹脂１４とを固着させる効果）を保持させ、金属材１１と樹脂１４との接合面２６において強固な防水性を長期間保持可能とした。 - 特許庁

Before developer is discharged onto an exposed resist film formed on a surface of the substrate W from a developer discharge nozzle 28, and the resist film is developed; solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from a liquid discharge nozzle 30 as pre-wetting liquid, and a pre-wetting processing is performed.例文帳に追加

現像液吐出ノズル２８から基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜上へ現像液を吐出してレジスト膜を現像処理する前に、液体吐出ノズル３０からプリウェット液として界面活性剤を含む溶液をレジスト膜上へ吐出してプリウェット処理する。 - 特許庁

To provide a rotary compressor with high performance and reliability wherein lubricating oil is supplied to the contact portion between the vane and the outer peripheral surface of the eccentric roller without leading to increased processing cost while solving the problem of insufficient lubricating oil due to over supply of lubricating oil.例文帳に追加

加工コストの上昇を招来することなくベーンと偏心ローラー外周面との接触部に潤滑油が供給され、且つ、潤滑油の供給過多による潤滑油不足の不都合が解消された、性能及び信頼性の高いロータリー圧縮機を提供する。 - 特許庁

To provide a permanent protection hard mask for protecting the dielectric characteristics of a main dielectric layer that has undesired low permittivity of a semiconductor device due to undesired increase in permittivity, undesired increase in current leakage, and a low device yield caused by surface scratch, when a continuous treatment processing is conducted.例文帳に追加

誘電率の不所望な増大による半導体デバイスの不所望な低誘電率，不所望な電流漏洩の増大，および連続処理工程の際の表面スクラッチによる低いデバイス歩留まりを有する主誘電体層の誘電体特性を保護する永久的保護ハードマスクを提供する。 - 特許庁

An organic/inorganic composite processing layer including a carboxyl group containing resin, an oxazoline group base containing resin, and a hardened material of a resin composition containing basic phosphate compound is formed on a surface of a zinc-base plated steel plate, and a thermal fusion polyolefin resin layer is formed on it.例文帳に追加

亜鉛系めっき鋼板の表面にカルボキシル基含有樹脂、オキサゾリン基含有樹脂および塩基性リン酸化合物を含有する樹脂組成物の硬化物からなる有機無機複合処理層を形成し、その上に熱融着性ポリオレフィン系樹脂層を形成する。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film capable of suppressing both of the defect of bright spots due to the surface precipitation of an oligomer at the time of heating processing and a rise in haze, more detailed, a laminated polyester film usable even in an optical use.例文帳に追加

加熱加工時のオリゴマーの表面析出による輝点欠点とヘイズ上昇の両方を抑制する事のできる積層ポリエステルフィルムを提供することが課題であり、更に詳しくは、光学用途にも使用可能な積層ポリエステルフィルムを提供する事が課題である。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process of forming a dielectric film 5 including any of titanium, strontium, and barium as a constituent element on a substrate 1, a process of exposing the dielectric film 5 to the plasma of gas for etching including coloring, and a process of processing the plasma-exposed surface of the dielectric film 5 with oxidizing gas.例文帳に追加

基板１上にチタン、ストロンチウム及びバリウムのいずれかを構成元素として含む誘電体膜５を形成する工程、この誘電体膜５を塩素を含むエッチング用ガスのプラズマに曝す工程、誘電体膜５のプラズマ暴露面を酸化性ガスで処理する工程、を備える。 - 特許庁

In that case, in the range defined by a distance α, the correcting processing is applied to increase the opacity gradually from the operation start point, so that while imaging of the placenta 10 is avoided as much as possible, the surface of the embryo 12 can be displayed more clearly.例文帳に追加

その場合において、距離αで定義される範囲においては演算開始点から徐々にオパシティが大きくなるように補正処理が適用されており、その結果、胎盤１０の画像化をできる限り回避しつつ胎児１２の表面をより明瞭に表示することが可能となる。 - 特許庁

Since an antistatic function is obtained by electrostatic plantation processing for the surface of the base member 1a, the generation of static electricity is suppressed even if friction is caused between the placed record disk 2 and the mat by scratch performance operation or the like, the sticking of dust to the record disk 2 is suppressed.例文帳に追加

ベース部材１ａ面への静電植毛処理により帯電防止機能が得られることから、スクラッチパフォーマンス操作等により、載置されたレコード盤２との間にたとえ摩擦が生じたとしても、静電気発生は抑制され、レコード盤２へのごみ付着は軽減される。 - 特許庁

To provide droplet discharge apparatus or the like using a work processing apparatus capable of increasing or decreasing the diameter of the functional droplet landed on a work compared to that fixed by the liquid quantity of the functional droplet and the contact angle with the work surface.例文帳に追加

ワークに着弾させた機能液滴の着弾径を、機能液滴の液量およびワーク表面との接触角によって決められる着弾径と比べて、大きくおよび／または小さくすることができるワーク処理装置を用いた液滴吐出方法等を提供することを課題とする。 - 特許庁

For the configuration of the processing equipment, the local exhaust device 4 can relatively surface from a support base 2 by the injection of a gas for surfacing to the support base 2, and the gas for surfacing is injected through a restrictor ventilation means 13 provided inside the local exhaust device 4.例文帳に追加

加工装置の構成を、局所排気装置４が、支持台２に対する浮上用ガスの噴射によって支持台２から相対的に浮上可能とされ、浮上用ガスの噴射が、局所排気装置４内に設けられた絞り通気手段１３を介してなされる構成とする。 - 特許庁

Since an insulation film containing hydrogenation polysiloxane is employed as the interlayer insulation film 103 and etching is carried out using etching gas containing at least fluorocarbon gas and oxidation based gas, such a structure as the deterioration layer 105 of hydrogenation polysiloxane on the processing surface is thick at the upper part and thin at the lower part is obtained.例文帳に追加

水素化ポリシロキサンを含む絶縁膜を層間絶縁膜１０３として用い、エッチングガスとしてフロロカーボンガスと酸化系ガスを少なくとも含むエッチングにより加工するため、水素化ポリシロキサンの加工面での変質層１０５が上部で厚く、下部で薄い構造が得られる。 - 特許庁

The coupling member 16 includes a mechanism for correcting the bending of the susceptor support shaft, so that a processing gas flow, between a susceptor ring and the susceptor, can be reduced in being disturbed by correcting the eccentricity and the inclination of the upper surface of the susceptor, and hence the planarity of an epitaxial film can be improved.例文帳に追加

連結部材１６は、サセプタ支持軸の曲がりを補正する機構を有するため、サセプタ上面の偏芯と傾きを補正することで、サセプタリングとサセプタとの間での処理ガス流れの乱れを低減することができ、エピタキシャル膜の平坦度を向上させることができる。 - 特許庁

A tight attachment part 1a with the side face Ta of the processing tool T is formed nearer the rear of the body 1 having a through hole H, and a set screw 2 is provided to work to the tight attachment part 1a, and in the front part of the body 1, an abutting piece 3 for the surface Wa to be processed of a work W is provided.例文帳に追加

貫通孔Ｈを有する本体１の後部寄りに、加工具Ｔの側面部Ｔａとの密着部１ａを設けると共に、この密着部１ａへの押圧ネジ２を設け、本体１の前部に、被加工物Ｗの被加工面Ｗａとの当接体３を設けたものとしている。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing copolymer which can be melt-processed at a relatively low processing temperature, has a high light transmittance and a low refractive index, and exhibits by itself good adhesive properties to various substrates without requiring a surface treatment, the use of adhesives, or the like.例文帳に追加

比較的低い加工温度で溶融加工することができ、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁

The correspondence information processing apparatus acquires a presently opened page surface of a notebook 101 determined by a control part 100 as information of a recording range and a display range presently displayed on a display apparatus 90 to generate correspondence information for associating these information.例文帳に追加

対応情報処理装置では、記録範囲の情報である制御部１００で判断されたノート１０１の現在開いているページ面と、表示装置９０において現在表示されている表示範囲とが取得されて、これらの情報を対応付ける対応情報が生成される。 - 特許庁

An image pickup element 12, an image processing circuit 13 and a distance detection circuit 19 detect the state of the monitor range 46 at that time, and only in an effective area 41 which is determined to be uniform by a uniform surface determining part 38, the image to be projected is reduced and projected.例文帳に追加

このときモニタ範囲４６の状態が、撮像素子１２、画像処理回路１３及び距離検出回路１９によって検出されて、均一面判定部３８で均一であると判定された有効エリア４１にのみ、上記投影する画像が縮小されて投影される。 - 特許庁

When the magnetic disk glass substrate having the texture on the surface thereof, together with its atmosphere, is housed in a housing container, the atmosphere is subjected to processing for removing at least an acid substance and/or an organic substance, and the magnetic disk glass substrate, together with the atmosphere, is housed in the housing container.例文帳に追加

表面にテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板を雰囲気とともに収納容器に収納するにあたり、雰囲気を少なくとも酸性物質及び／又は有機物質を除去する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する。 - 特許庁

The read section is configured by integrally assembling a plurality of readout units 22 in a planar shape, and each of the readout units is formed in a rectangular shape, forms a plurality of pads on its front surface, includes a plurality of processing circuits and through-via-holes inside and includes a plurality of pads on its rear face.例文帳に追加

読み出し部は、複数の読み出しユニット２２を平面状に一体に組み立てて構成され、各読み出しユニットは、それぞれ、矩形形状に形成され、表面に複数パッドを形成し、内部に複数の処理回路部や貫通ビアを備え、裏面に複数のパッドを備える。 - 特許庁

The sheet-shaped fire-resistant covering material 1 covers a surface of an object, for ensuring the fire resistance of the object, and it is formed of a thermally expansive fire-resistant sheet 2 which is molded by processing like a papermaking way an aqueous solution containing an inorganic fiber material and an inorganic thermally expansive admixture.例文帳に追加

対象物の耐火性を確保するために対象物の表面に被覆させるシート状の耐火被覆材１であって、無機質の繊維材と無機質の熱膨張性混和材とを含有する水溶液を抄いて成形される熱膨張性耐火シート２からなる。 - 特許庁

The wafer processing method has: setting a UV curing type protective tape on the front surface of a wafer; cutting a boundary portion between a device region and an outer circumference excessive region of the wafer into a ring by using a cutting blade; and separating the outer circumference excessive region as an auxiliary ring from the device region.例文帳に追加

ウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に紫外線硬化型保護テープを貼付してから、ウエーハのデバイス領域と外周余剰領域の境界部を切削ブレードでリング状に切削して外周余剰領域を補助リングとしてデバイス領域から分離する。 - 特許庁

A main controller 91 carries out control via an image forming processing controller 93 so that one of two divided images, which are obtained by dividing a point image group indicating preliminarily-defined information, is formed on a surface of a printing paper, and that the other is formed on a backside of the printing paper.例文帳に追加

メインコントローラ９１により、予め定められた情報を示す点画像群が２つに分割された分割画像の一方が印刷用紙の表面に形成され、他方が当該印刷用紙の裏面に形成されるように画像形成処理制御部９３を介して制御する。 - 特許庁

A plurality of covered electrodes 3, arranged while facing each other, form a space as the discharge space 4, and a heat sink 6 is arranged on an outer surface of the covered electrode 3, in the plasma processing apparatus A, wherein a positioning hole B communicating with the covered electrodes 3 and the heat sink 6 is bored.例文帳に追加

対向配置した複数の被覆電極３によって形成される空間を放電空間４とし、被覆電極３の外面に放熱器６を配設したプラズマ処理装置Ａにおいて、被覆電極３及び放熱器６に連通する位置決め用孔Ｂを穿孔した。 - 特許庁