「reflection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the substrate equipped with the anti- reflection layer provides the substrate (a), deposits amorphous silicon on the substrate (b), and etches the amorphous silicon layer and the substrate with an etching solution, and removes the amorphous silicon layer with the etching solution (c).例文帳に追加

本発明のアンチリフレクション層を具える基板の製造方法は、(a) 基板を提供し、(b) 基板上にアモルファスシリコンを堆積させ、(c) エッチング液でアモルファスシリコン層及び基板をエッチングし、且つアモルファスシリコン層をエッチング液により除去することを特徴とする。 - 特許庁

This method comprises a step for directing laser beams 34 toward a layer during polishing; a step for monitoring interference signals generated due to the reflection of the beams 34 from a substrate 14; and a step for calculating a homogeneous measure from the interference signals.例文帳に追加

この方法は、：研磨中にレーザービーム３４を層へ向けるステップと；光ビーム３４の基板１４からの反射されることにより発生する干渉信号をモニタするステップと；この干渉信号から均一性の尺度を計算するステップとを備えている。 - 特許庁

To provide an electrodeposition coating method capable of achieving blackening treatment having high-quality jet-black by which sufficient adhesion and non-reflection characteristics can be obtained for alloy metal members, such as cast iron, steel, copper-based alloy, aluminum alloy, stainless steel, and brass.例文帳に追加

鋳鉄、鉄鋼、銅系合金、アルミニウム合金、ステンレス、真ちゅう等の合金金属部材に対して、十分な密着性および無反射特性を得ることができる高品質な漆黒を有する黒化処理を実現できる電着塗装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating composition capable of forming a coating film capable of being applied to various kinds of industrial product, especially an outer panel of an automobile, having high chroma as a whole and having color change from highlight (near normal reflection light) to shade (oblique direction), and a method for forming a coating film.例文帳に追加

各種工業製品、特に自動車の外板に適用できる全体に高彩度で、ハイライト（正反射光近傍）からシェード（斜め方向）に色相変化する塗膜を形成可能な塗料組成物及び塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflector for an optical encoder comprising steps of forming a base member with the injection molding of in-mold forming and transferring the reflection pattern of a reflector, and thereby capable of enhancing production efficiency at low cost.例文帳に追加

所謂インモールド成型により、射出成形で基材を形作るのと同時に、反射板の反射パターンを転写する工程を有することで、低コストで生産効率を高くすることができる光学式エンコーダ用反射板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating-state inspection method capable of acquiring accurate inspection results of a coating state of a coated object even if a viscous material includes a material with high wettability and spreadability or a material likely to cause irregular light reflection.例文帳に追加

粘性材料が濡れ広がり易い材質からなる場合や、光の反射が不順になり易い材質からなる場合であっても、塗布対象上への塗布状態の正確な検査結果を得ることができる塗布状態検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a structure material for a liquid crystal display device which is suitable to both reflection and transmission LCDs and can easily form an image structure partially varied in film thickness in an area forming one pixel of display together with high resolution.例文帳に追加

反射・透過両用ＬＣＤに好適であって、表示上一画素をなす領域内に部分的に膜厚を変化させた像構造を一括して、簡便かつ高い解像度で形成することができる液晶表示装置用構成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method, a picture is formed on a thermosensitive recording layer 4 with the heat generated by the near infrared laser irradiation on a thermally reversible recording medium 1 provided with the thermosensitive recording layer 4 containing a cholesteric liquid crystal material of which the selective reflection wavelength varies depending on the temperature.例文帳に追加

温度に依存して選択反射波長が変化するコレステリック液晶材料を含む感熱記録層４を設けた熱可逆性記録媒体１に、近赤外レーザを照射して発生する熱により該感熱記録層４に画像を形成する方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical thin film and the anti-reflection film obtained by a coating and drying process using a die on a support, the die has a heat-retaining function and the difference between the retained die temperature and a coater chamber temperature is -2°C to +2°C.例文帳に追加

支持体上にダイを用いて塗布乾燥して得られる光学薄膜の製造方法において、ダイに保温機能を有し、ダイ保温温度とコーター室温度の差を−２℃〜＋２℃とすることを特徴とする光学薄膜及び反射防止膜の製造方法。 - 特許庁

The surface cloth as a diffusion reflection layer is woven in the thickness of 150-200μm, for instance, by the density of about 100 threads/inch by using a thread where titanium oxide, a white pigment or a fluorescent dye are mixed, and surface roughness (SMD) by a KES method is set, for instance, 0.4-0.5 micron.例文帳に追加

拡散反射層としての表地は、酸化チタン、白色顔料または蛍光染料を練り込んだ糸を用い、例えば、約１００本／インチの密度で１５０〜２００μｍの厚みに製織したものであり、KES法による表面粗さ(SMD)が例えば０．４〜０．５micronである。 - 特許庁

To provide a coating method capable of making film thickness in a width direction uniform even when coating of a thin layer is performed, capable of suppressing variation in the film thickness in a longitudinal direction and capable of maintaining stable coating by suppressing generation of stripe, or the like, and to prepare an optical film and an anti-reflection film.例文帳に追加

薄層の塗布を行った場合でも、幅方向の膜厚を均一にでき、長手方向の膜厚の変動を抑制でき、スジ等の発生を抑え、安定した塗布を維持できる塗布方法、光学フィルム及び反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

The method estimates the structures which have an effect on the reflection, the transmission, or the diffraction on the calculated radio wave routes, adjusts the receiving power using the existence probability, and estimates possibility of usage of the radio wave route, and estimates usage possibility of the radio wave route by the received power after adjustment.例文帳に追加

そして算出した電波経路上にある反射、透過もしくは回折の影響を与える構造物を求め、その存在確率を用いて、受信電力を調整し、調整後の受信電力により電波経路の利用可能性を評価する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition for light reflection that has, after curing, a high reflectance of visible light to near-ultraviolet light, and excellent in heat deterioration resistance, and to provide a substrate for loading photosemiconductor device using the same, method for producing the same, and a photosemiconductor device.例文帳に追加

硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性に優れる光反射用熱硬化性樹脂組成物、およびこれを用いた光半導体素子搭載用基板とその製造方法、ならびに光半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated film improved in surface scratch resistance by enhancing the surface hardness of a low refractive index surface layer, having low reflectivity and excellent flexibility and especially suitably used as a reflection preventing film, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

表面の低屈折率層の表面硬度を高めることにより表面の耐擦傷性が改善され、さらに、低反射性でかつ可撓性に優れていて、特に反射防止フィルムとして好適に用いられる積層フィルムとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical path switching element and the optical path switching method are such that the direction of reflection of an emitted light is changed, by arranging a phase change material in a grating shape on a substrate, and subjecting crystals of the phase change material to transition into an amorphous state.例文帳に追加

基板上に相変化材料をグレーティング状に配置し、相変化材料の結晶とアモルファス状態に転移させることにより、照射される光の反射方向を変化させることを特徴とする光路切替素子及び光路切替方法である。 - 特許庁

To provide a machining method by which both of ≤100 nm flatness and ≤0.15 nm RMS (Root-Mean-Square) of surface roughness are satisfied in a Ti-doped low thermally expansive quartz glass substrate for a reflection type photomask which is used in the exposure by a short wave in UV region or below.例文帳に追加

ＵＶ領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Ｔｉドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦１００ｎｍ、表面の自乗平均平方根粗さ≦０．１５ｎｍＲＭＳを同時に満足する加工法を提供する。 - 特許庁

To provide an injection molding method by which a resin is filled up to the deep part of a nanostructure of a mold having high aspect ratio nanostructure and a molded article of a reflection preventing nanostructure having aspect ratio of ≥1 is manufactured while keeping high productivity without using a releasing agent or the like.例文帳に追加

高アスペクト比のナノ構造を持つ金型に対して、ナノ構造物の深部まで樹脂の充填を可能にし、さらに、離型剤等を使用しないで、高生産性を維持しアスペクト比１以上の反射防止ナノ構造物の成型品を製造する。 - 特許庁

The method for inspection of the appearance of chip parts (1) includes irradiating two surfaces (1c and 1d) positioning with an ridge part (1b) of the chip in between, and photographing the reflection light beam (5) reflected from the ridge part, with a camera (2) arranged facing the ridge part.例文帳に追加

チップ部品（１）の外観を検査する方法は、チップ部品の稜線部（１ｂ）を挟んで位置する２つの面（１ｃ、１ｄ）を照射し、稜線部から反射した反射光線（５）を、稜線部に対向して配置した撮像装置（２）で撮像することを含む。 - 特許庁

To provide a testing and recording device for dies and a testing and recording method for dies which can surely distinguish and view minute irregularity on a test object such as dust and blemish on a non-plane molding face of a die from a specific reflection area.例文帳に追加

金型の非平面状成形面上にあるゴミや傷等の微小凹凸検査対象を、非平面状成形面上の特定反射域と区別して確実に視認できる金型用検査記録装置及び金型の検査記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which lowering of an alignment performance due to light reflected from a reflection electrode directly below an alignment membrane is prevented, and alignment of a liquid crystal is highly accurately defined with ultraviolet ray irradiation, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

配向膜の直下にある反射電極からの反射光による配向性能の低下を防止しつつ、紫外線照射により液晶の配向を高精度に規定することができる液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this sensitivity correction method, a film carrier 106 is moved to a position at which a center C1 of a correction plate 124A with a uniform spectral reflection characteristic matches an optical axis L1, a line CCD 104 detects a transmitted light from the correction plate 124A to acquire positive film use shading data.例文帳に追加

均一な分光反射特性を持つ補正板１２４Ａの中心Ｃ１と光軸Ｌ１とを一致させる位置にフィルムキャリア１０６を移動し、補正板１２４Ａからの透過光をラインＣＣＤ１０４により検知して、ポジ用シェーディングデータを取得する。 - 特許庁

To provide the forming method of a laminate, having high characteristics and superior reflection characteristics, as well as adhesiveness under use at high temperatures in high humidities or for a long period of time, a formed laminate and a photo voltaic element which includes the laminate.例文帳に追加

高い特性をもち、高温下、多湿下、あるいは長期間にわたる使用下などにおいても優れた反射特性と密着性を有する積層体の形成方法、形成された積層体、及び該積層体を含んだ光起電力素子を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask for vapor deposition is carried out by forming photoresist films 12a, 12b through reflection preventing films 30A, 30B on both side surfaces of a metal thin film 10 and exposing them to form a pattern of the passage hole 10A-1 on the photoresist films 12a, 12b.例文帳に追加

蒸着用マスク１の製造方法では、金属薄膜１０の両面に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂを介してフォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂに通過孔１０Ａ−１のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for detecting defects on a surface of a plate which detects the defects in the plate, the minor irregularity in the plate and a region in which the linear irregularity extends regardless of a difference between reflection coefficients on the surface of the plate.例文帳に追加

本発明は、板状体の表面の反射率の差に関わらず、板状体の欠陥、微細な凹凸、凹凸がスジ状に伸びている箇所等を検出することができる板状体の表面の欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The invention includes the method for detecting the defects on the surface of the plate which irradiates the surface of the transparent or translucent plate with a light, and detects the defects by processing an image obtained by an imager for imaging the reflection light.例文帳に追加

本発明は、透明または半透明の板状体の表面に光を照射し、その反射光を撮像装置によって撮像して得られた画像を用いて画像処理を行うことで欠陥を検出する板状体の欠陥検出方法に係るものである。 - 特許庁

Further the method includes the step of forming a gold-plated layer 12 as a reflection improving layer for reflecting exposed light at the time of exposure of the resin layer 8, on a lower side of a nozzle wall forming a partition member that partitions the plurality of ink channels in the nozzle layer 9, from each other.例文帳に追加

本発明の製造方法は、樹脂層８の露光時に露光光を反射する反射向上層としての金メッキ層１２を、ノズル層９の複数のインク流路同士を仕切る部分であるノズル壁の下側に形成する工程を有する。 - 特許庁

The method of measuring the cross sectional shape of the workpiece irradiates a plurality of slit lights onto the same line of the workpiece W from positions mutually differentiating inclination angles to the workpiece, and measures the cross sectional shape of the workpiece W by properly calculating each brightness value of each reflection light from the workpiece W.例文帳に追加

複数のスリット光を、ワークに対する傾斜角度を相互に相違させた位置からワークＷの同一ライン上に照射すると共に、ワークＷからの各反射光の各輝度値を適宜演算処理してワークＷの断面形状を計測する。 - 特許庁

Also, the method for manufacturing the reflection type electrode substrate includes a process of etching the metal oxide layer by using an etchant composed of oxalic acid and a process of etching the inorganic compound layer by using an etchant composed of phosphoric acid, nitric acid and acetic acid.例文帳に追加

また、シュウ酸からなるエッチング液を用いて前記金属酸化物層をエッチングする工程と、燐酸、硝酸及び酢酸からなるエッチング液を用いて前記無機化合物層をエッチングする工程とを含む反射型電極基板の製造方法である。 - 特許庁

To provide an optical element having an antireflection film which can attain low reflection from a region of a small incident angle (0 to 25°) to a region of a large incident angle (25° or more) of the optical element, an optical system, a projection exposing device and a device manufacturing method.例文帳に追加

光学素子の入射角度の小さな領域（０〜２５°）から入射角度の大きな領域（２５°以上）に亙り低反射を達成することができる反射防止膜を有する光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する - 特許庁

This modified sol-gel process silica particles are characterized in that a ratio (A1/A2)of a peak area (A1) based on an isolated silanol group and a peak area (A2) based on a hydrogen bonded silanol group is ≥0.03 in the measurement of IR spectrum by the diffused reflection method.例文帳に追加

拡散反射法で赤外分光スペクトルを測定した際に、孤立シラノール基に基づくピーク面積（Ａ１）と水素結合したシラノール基に基づくピーク面積（Ａ２）の比（Ａ１／Ａ２）が０．０３以上であることを特徴とする改質ゾル−ゲル法シリカ粒子である。 - 特許庁

To provide a light reflecting material which is excellent in ultraviolet ray resistance and a light shielding property without spoiling characteristics of a polycarbonate resin, which has high light reflectivity and excellent durability and which is suitable for a light reflection plate of thin and large size and its peripheral parts and further to provide its manufacturing method.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂の特性を損なうことなく耐紫外線性や遮光性に優れ、光線反射率が高く、耐久性に優れ、特に薄肉・大型の光線反射板やその周辺部品として好適な光反射材及びその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting multilayered mask for defect by which even an extremely small defect that is formed on a multilayered reflection type mask and is difficult to be detected by means of a means using a visible/ ultraviolet laser can be inspected at a high speed by using a compact light source that can be utilized easily by anybody.例文帳に追加

可視・紫外レーザーを用いる手段では検出が困難な多層膜反射型マスク上の極微小欠陥を、高速で検査可能とし、かつコンパクトで誰でも簡単に利用できる光源を用いて実現することを可能とする。 - 特許庁

This method is provided with a process for manufacturing the scintillator 40 provided with predetermined-length segment columns 42 and reflection layers 60 shorter than the segment columns 42 arranged alternately with each other and a process for inserting projection parts 52 arranged in the collimator between the scintillator segment columns 42.例文帳に追加

所定の長さを有するセグメント列４２と前記セグメント列４２より短い反射層６０とが交互に配置されたシンチレータ４０を製造する工程と、コリメータに設けられた突起部５２を前記シンチレータセグメント列４２間に差し込む工程とを備えた。 - 特許庁

In the method, the change in the characteristic impedance of an incoming cable to which the NIU is connected is detected by testing a reflection signal that exists when a signal sent to a head end is not connected to a coaxial cable that is properly connected to the link.例文帳に追加

本発明は、ヘッドエンドに送信されている信号が、適正に接続された同軸ケーブルに接続されていないときに存在する反射信号をテストすることによって、ＮＩＵが接続されている来入ケーブルの変化を検出することにより、行う。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device further comprises the steps of: forming an amorphous Si layer 26 on the opposite surface side of the epitaxial semiconductor layer 4 after the etching step; and forming an anti-reflection film and a color filter on the amorphous Si layer 26 in this order.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、前記エッチングする工程の後に、前記エピタキシャル半導体層４の前記反対面側にアモルファスＳｉ層２６を形成する工程と、前記アモルファスＳｉ層の上に、反射防止膜、カラーフィルタを順に形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a solid state image sensor, and its fabrication method, in which the sensitivity does not deteriorate even in case of a high resolution solid image sensor having an inter-lens gap of 0.3 μm or less, and noise is reduced by controlling reflection light especially from the non-opening part between lenses.例文帳に追加

レンズ間ギャップが０．３μｍ以下高精細な固体撮像素子であっても感度低下のない、またマイクロレンズからの、特にレンズ間の非開口部からの反射光を抑制し、ノイズを低減させた固体撮像素子、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A SiC film 12 is formed by a chemical vapor deposition(CVD) method on a silicon carbide ceramic substrate 11 on at least the face to be used as a mirror face, and then an Al film 13 is deposited on the SiC film 12 to manufacture the optical reflection mirror for a He-Ne laser.例文帳に追加

炭化珪素系セラミック基材１１の少なくともミラー面となる面に、化学気相成長（ＣＶＤ）法によりＳｉＣ膜１２を形成し、ＳｉＣ膜１２上にＡｌ膜１３を積層してＨｅ−Ｎｅレーザ用光学反射ミラーを作製する。 - 特許庁

To provide a sound-reproducing device by which a listener can form an optimal surround sound field by easily correcting the output angle of a sound beam, according to the setting of a hearing position of the sound reproducing device, and to provide a sound beam reflection position correcting method for the sound-reproducing device.例文帳に追加

音声再生装置の聴取位置の設定に応じて、音声ビームの出力角度を聴取者が容易に補正して、最適なサラウンド音場を形成できる音声再生装置及び音声再生装置の音声ビーム反射位置補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method which can control a reflection electric power generated when an etching primary process and a deposition primary process are switched or when on and off of a high frequency electric power which is supplied to a plasma generation device or an electrode are switched.例文帳に追加

エッチング主体の工程とデポジション主体の工程を切り換えたときや、プラズマ発生装置または電極に供給する高周波電力のＯＮ／ＯＦＦを切り換えたときに発生する反射電力を抑制できるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an LED module substrate that is used for an LED module forming a light-source part by using an LED as a light source, has a structure that prevents deterioration in reflection efficiency of reflected light from a base material loaded with an LED element and further allows manufacturing of such an LED module, and its manufacturing method.例文帳に追加

ＬＥＤを光源として光源部を形成するＬＥＤモジュールに用いられるＬＥＤモジュールであって、ＬＥＤ素子を搭載する基材からの反射光の反射効率の低下の防止できる構造のＬＥＤモジュールを提供する。 - 特許庁

The reflection film is formed, by applying a conductive reflecting film composition using wet-coating method and baking the composition, wherein the conductive reflection film composition contains an organic silver solution of ≥3C, and the reflecting film is made of a baked product of organic silver.例文帳に追加

スーパーストレート型薄膜太陽電池の光電変換層１２上に成膜された透明導電膜１１ｂ上に形成される導電性反射膜１１ａにおいて、導電性反射膜が導電性反射膜用組成物を湿式塗工法を用いて塗布し、焼成することにより形成され、導電性反射膜用組成物が炭素数が３以上の有機銀溶解液を含み、反射膜が有機銀の焼成物で構成されることを特徴とする。 - 特許庁

Regarding the manufacturing method for the color filter for a liquid crystal display apparatus having at least three color pixels and having a reflection area for reflecting external light and a transmission area for transmitting light emitted from a back light source in one pixel, the reflection area of at least one color pixel is etched by exposing it to atmospheric plasma generated under atmospheric pressure or near the atmospheric pressure.例文帳に追加

少なくとも３色の画素を有し、外光を反射する反射領域と背面光源からの光を透過する透過領域を１画素内に有する液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法であって、少なくとも一色の画素の反射領域を、大気圧下もしくは大気圧近傍下で生成した大気圧プラズマに曝すことによりエッチングすることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 - 特許庁

The recognition device is provided with a reflecting position deriving device 12 for obtaining the three-dimensional spatial position information of reflection points of plural spot beams by a diffraction grating method and a related information deriving means 14 for defining plural planes including these detected reflection points, finding out respective normal vectors corresponding to these planes and finding out a vector most orthogonal to these normal vectors as a pipe axis candidate vector.例文帳に追加

回折格子手法により、複数のスポット光の反射点の３次元空間位置情報を得る反射位置導出手段１２を備えるとともに、検出される複数の反射点に関して、これらの反射点を含む複数の平面を定義するとともに、複数の平面に対する法線ベクトルを夫々もとめ、これらの法線ベクトルに対して最も直交するベクトルを管軸候補ベクトルとして求める関連情報導出手段１４を備える。 - 特許庁

Therefore the method can accurately measure the cross sectional shape of the workpiece by the other slit lights even when one slit light generates halation, and in addition, can improve the measurement precision as compared with the conventional method having measured the cross sectional shape by one slit light by properly calculating each brightness value of each reflection light from the plurality of the slit lights.例文帳に追加

これにより、１本のスリット光がハレーションを起しても、他のスリット光により正確にワークの断面形状を計測することができ、また、複数のスリット光からの各反射光の各輝度値を適宜演算処理することにより、１本のスリット光により断面形状を計測していた従来に比べて、その計測精度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a chrominance signal conversion method capable of reducing a difference generated between an XYZ chromaticity value calculated by converting RGB outputs from a sensor by a simple method and an XYZ chromaticity value calculated from a spectral reflection factor determined by Commission Internationale de I'Eclairage in the case of colormetrically measuring a test chart output from a color image forming apparatus.例文帳に追加

本発明は、カラー画像形成装置で出力するテストチャートを測色する際に、簡単な方法でセンサのＲＧＢ出力を変換して求めるＸＹＺ色度値と国際照明委員会が定める分光反射率より求めるＸＹＺ色度値の間に生じる差を低減する色信号変換方法を提供することを課題とする。 - 特許庁