「reflection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure method has a step in which leveling sensor light is made incident into an exposure region on the surface of an SOI substrate before emitting exposure light in the exposure region and a leveling correction is performed by detecting reflected light beams generated by reflection of incident light beams 4a, 4d of the leveling sensor light from the exposure region.例文帳に追加

本発明に係る露光方法は、ＳＯＩ基板の表面の露光領域に露光光を照射する前に、前記露光領域にレベリングセンサー光を入射し、その入射光４ａ，４ｄが前記露光領域で反射する反射光を検出することによりレベリング補正を行う工程を有する露光方法である。 - 特許庁

The method is characterised in that, when the shape of a film is predicted by performing a numerical simulation on the object where a film is formed or etching is performed by the deposition of moving particles, a phenomenon in which the particles are reflected by a part of the film is mathematically handled as reflection and deposition which occur at the same time.例文帳に追加

運動する粒子の付着によって成膜あるいは食刻が行われる対象について数値シミュレーションを実行して膜形状を予測する際に、上記粒子が膜部位によって反射される現象を計算上では反射と付着とが同時に起こるものとして取り扱うことを特徴としている。 - 特許庁

To perform the flaw detection or material characteristic evaluation of a specimen with high sensitivity by adopting a single-probe reflection method using one coil having an advantage for reducing a probe arrangement area and extracting an effective signal in a slow time response range even for close-distance measurement having a slow time response.例文帳に追加

探触子配置面積を小さくできる利点を有する１つのコイルを用いた１探触子反射法を採用しつつ、時間応答の遅い近距離計測でも、遅い時間応答範囲内の有効信号を抽出し、高感度で被検体の欠陥探傷あるいは材料特性評価を行えるようにする。 - 特許庁

This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.例文帳に追加

この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁

To provide a musical piece retrieval system and a musical piece retrieval method, allowing a strong reflection of taste of a user even if using a hierarchical neural network previously applied with advance learning by an evaluator so as to reduce a work amount of the user for applying learning to the hierarchical neural network.例文帳に追加

本発明は、階層型ニューラルネットワークに学習を施すためのユーザの作業量を軽減させるために予め評価者によって事前学習が施された階層型ニューラルネットワークを用いてもユーザの嗜好を強く反映させることができる楽曲検索システムおよび楽曲検索方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a UV reflecting layer having a very good UV reflection characteristic as well as a very good transparency characteristic against visible light, wherein scattering contrast is improved by scattering visible light at a degree as low as possible, a lamp having such a layer, and a method of providing such a layer for a lamp.例文帳に追加

きわめて良好なＵＶ反射特性を有し、同時に、可視光に対するきわめて良好な透過特性を有し、特に、可視光をできるだけ低い程度に散乱し、散乱コントラストを改善したＵＶ反射層と、このような層を有するランプと、このような層をランプにおいて設ける方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a multilayer coated film applicable to various kinds of industrial products in particular an outer panel of a vehicle and capable of obtaining a coated film having high brightness and high chroma saturation in highlight (near regular reflection light), high chroma saturation in shade (oblique direction), great brightness difference in the highlight and the shade, and a uniform finished design.例文帳に追加

各種工業製品、特に自動車の外板に適用できる、ハイライト（正反射光近傍）においては高明度且つ高彩度で、シェード（斜め方向）では高彩度であり、ハイライトとシェードとの明度差が大きく、仕上がり意匠が均一な塗膜が得られる複層塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an embossing roll, continuously manufacturing a member having uniform and fine projecting and recessed parts for shaping stable optical characteristic, and having optical functions of an anti-reflection film and an antiglare film, having high durability of the projecting and recessed shape, and shaping a large number of members, and also to provide an embossing roll.例文帳に追加

安定した光学特性を賦型することのできる均一で微細な凹凸を有し、反射防止フィルム、防眩フィルムなどの光学機能を有する部材を連続で製造でき、かつ、凹凸形状の耐久性が高く多くの数量を賦型できるエンボスロールの製造方法、及びエンボスロールを提供する。 - 特許庁

By using outputs of the plurality of retroreflection-time detection means, a distance calculation means (40) judges the overlapped state and the reflection intensity of the beams of reflected pulsed light on the basis of first pulse widths of the beams of reflected pulsed light, it selects a distance calculation method according to the state, and it outputs distance measured data of high reliability.例文帳に追加

この複数の再帰反射時間検出手段の出力より距離算出手段（４０）は、反射パルス光の第１のパルス幅からその反射パルスの重なりの状態や、反射強度を判定し、それぞれの状態に応じた距離算出方法を選択し、信頼性の高い測距データを出力する。 - 特許庁

To provide an ink tank, a recording apparatus, an ink residual quantity detecting system and an ink residual quantity detecting method which can detect a residual quantity of ink in an ink containing part optically with high accuracy by solving the problem of false detection of an ink residual quantity caused by irregular reflection light and scattered light generated by light from a light emitting part.例文帳に追加

発光部からの光により生じる乱反射光や散乱光によるインク残量誤検知の問題を解決し、インク収容部内のインクの残量を光学的に高精度に検知するインクタンク、記録装置、インク残量検知システムおよびインク残量検知方法を実現すること。 - 特許庁

In this method of measuring the thickness of a steel pipe 21 having the coating layer 22 on a surface by the ultrasonic wave, echoes (multiple echoes) generated multiple reflection on the steel pipe 21 are selected out of reception signals obtained by transmitting an ultrasonic pulse into the steel pipe 21, and the thickness of the steel pipe 21 is found based on intervals thereof.例文帳に追加

表面にコーティング層２２を有する鋼管２１の厚さを超音波によって測定する方法において、鋼管２１内に超音波パルスを送信して得られる受信信号の内、鋼管２１での多重反射によって生じるエコー（多重エコー）を選択し、その間隔に基づいて鋼管２１の厚さを求める。 - 特許庁

To provide a method for measuring the thickness of optical disc having rapid analysis speed and precise density, through the changes in a refractive index due to a wavelength, namely, the position of the peak value of reflection light at interference space obtained through the Fast-Fourier Transformation to a spectrum, in which the refractive index is reflected in a wavelength function.例文帳に追加

波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method has a first process to form a clad layer 12 possessing a projected part whose side surface is inclined on a surface on a base plate 10, a second process to form a reflection film 13 on the side surface of the projected part of the clad layer 12 and a third process to form the optical waveguide 14 on the projected part of the clad layer 12.例文帳に追加

この製造方法は、側面が傾斜した凸部を、表面に有するクラッド層１２を基板１０上に形成する第１の工程と、クラッド層１２の凸部の側面上に、反射膜１３を形成する第２の工程と、クラッド層１２の凸部の上に、光導波路１４を形成する第３の工程とを有する。 - 特許庁

In this polishing method for the optical connector end face polishing the optical connector end face by pushing the optical connector end face to the polisher and rubbing the end face, the polishing of the optical connector end face is performed with measuring a reflection attenuation amount by a light source, a light power meter and an optical branch device.例文帳に追加

光コネクタ端面を研磨盤に押し付けて擦り合わせることにより前記光コネクタ端面を研磨する光コネクタ端面研磨方法において、前記光コネクタ端面の研磨は、光源と光パワーメタと光分岐器とにより反射減衰量を測定しながら行なうようにしたことにある。 - 特許庁

The compensated color management system and method achieve high-quality images in a projection system using a reflection panel by correction of skew rays using a skew-ray correction structure 100 or the like including a first PBS (polarizing beam splitter) 102, a second PBS 108 and a CCSPF (compensating color selective polarization filter) 114 functioning as a half-wave retarder.例文帳に追加

第１のＰＢＳ１０２、第２のＰＢＳ１０８、及び、半波長リターダとして作用するＣＣＳＰＦ１１４を有するスキュー光線補正構造１００等を用いて、スキュー光線を補正することにより、反射パネルを用いるプロジェクションシステムにおいて、高質のイメージを実現する補償カラーマネージメントシステムおよび方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a vapor-deposited thin film by which the arrival of secondary electrons or reflection electrons occurring in the heating of a vapor depositing raw material in a crucible by an electron beam at a plastic film base material can be suppressed as possible, so that an adverse effect caused by the electrification of the film can be prevented beforehand.例文帳に追加

ルツボ内の蒸着原材料を電子ビームにより加熱するときに発生する二次電子もしくは反射電子が、プラスチックフィルム基材に到達するのを極力抑えることで、フィルム帯電による悪影響を未然に防ぐことができる蒸着薄膜の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a production method of a polymeric membrane, in which a polymeric membrane having a photonic crystal structure can be formed without containing a cholesteric liquid crystal, furthermore, the produced polymeric membrane has a Bragg reflection property without containing any liquid crystal or liquid, and the manufacturing cost is largely reduced and its applicability is expanded.例文帳に追加

コレステリック液晶を含まずにフォトニック結晶構造を有する高分子膜を形成することができ、さらに、生じた高分子膜がいかなる液晶または液体も含まずに、ブラッグ反射特性を有して、大幅な製造コストダウンを図り、その応用性を拡大する高分子膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a member having antireflection structure and its manufacturing method by which the antireflection structure can be easily formed even on the member having an opening and incident of light, reflection of that should be prevented, can be suppressed and stray light can be eliminated even on the member requiring light shielding property.例文帳に追加

開口部を有する部材であっても、この開口部を含めて部材に反射防止構造体を容易に形成でき、遮光性が要求される部材であっても反射を防止すべき光の入射を抑制して迷光を解消できる反射防止構造体を有する部材の製造方法および部材を提供する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor light emitting device for flip chip and its manufacturing method improved in a luminance characteristic and a driving voltage characteristic capable of reducing an adhesion defect and improving the luminance characteristic by improving adhesiveness between a p metal layer and a p-type nitride semiconductor layer, reflection efficiency, current diffusion efficiency, and contact resistance.例文帳に追加

pメタル層とp型窒化物半導体層間の密着性と、反射効率及び電流拡散効率と、接触抵抗とを改善することにより、輝度及び駆動電圧特性の向上されたフリップチップ用窒化物半導体発光素子及びその製造方法に関し、密着力不良を減少し、輝度特性を改善する。 - 特許庁

Further, the reflection type exposing method includes: a step of finding a numerical aperture of an illumination optical system so that an influence of a mask size error obtained from variance in measured mask size on a wafer size reaches a predetermined value; and a step of varying coherency of the illumination optical system adaptively to the obtained numerical aperture of the lighting optical system.例文帳に追加

さらに、計測されたマスク寸法のばらつきから求まるマスク寸法誤差のウエハ寸法の影響が所定の値になるように照明光学系の開口数を求めるステップと、求めた照明光学系の開口数にあうように照明光学系のコヒーレンシーを変更するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a laser beam machining tool capable of efficiently performing the reliable laser beam machining without impairing the shape accuracy and the dimensional accuracy of a machined portion by reflection of laser beams from a supporting member to support a ceramic green sheet, a laser beam machining apparatus using the tool, and a manufacturing method of a multilayer ceramic electronic component.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを支持する支持部材からのレーザ光の反射により、加工部分の形状精度や寸法精度が損なわれることがなく、効率よく信頼性の高いレーザ加工を行うことが可能なレーザ加工用治具、それを用いたレーザ加工装置、および積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for surface inspection, capable of inspecting a surface defect such as a flaw on a surface and delamination of painting with high precision and speed at a low cost with a simple structure even if an object to be measured produces rough specular reflection due to glossy painting of a vehicle and parts thereof provided.例文帳に追加

自動車やその部品などの光沢塗装が施されるなどして鏡面反射が酷い計測対象物であっても、簡単な構造により低コストで高精度かつ高速に表面の傷や塗装の剥がれなどの表面欠陥を検査することが可能な表面検査装置および表面検査方法の提供。 - 特許庁

This method of evaluating the reflection-type optical element formed with a multilayer film, has a step of calculating a phase difference between a light made incident to the multilayer film and the light reflected from the multilayer film, using standing waves, generated when the light having 2-40 nm of wavelength is made to be incident to the optical element.例文帳に追加

多層膜が形成された反射型光学素子の評価方法であって、前記光学素子に波長２乃至４０ｎｍの光を入射させた際に生じる定在波を用いて、前記多層膜へ入射する光と前記多層膜から反射する光との位相差を算出するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the image forming method, a reflection viewing type silver halide color photosensitive material is exposed using a digital image exposure device, wherein a pixel ratio (major side/minor side) of pixels to a region 10 cm away from the exposure center in the digital image exposure device is 1.00-1.03.例文帳に追加

デジタル画像露光装置を用いて、反射鑑賞型のハロゲン化銀カラー感光材料に露光する画像形成方法であって、該デジタル画像露光装置における露光中心部から１０ｃｍ離れた領域までの画素のピクセル比（長辺／短辺）が、１．００以上、１．０３以下であることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

To provide a reflective liquid crystal display medium which has satisfactory white reflectance and white balance even when a cholesteric liquid crystal is used for a liquid crystal layer and in which white balance is not lost due to a viewing angle and to provide a reflection peak wavelength setting method of the liquid crystal layer for use in the reflective liquid crystal display medium.例文帳に追加

液晶層にコレステリック液晶を用いた場合でも、良好な白反射率と白色バランスとを有し、さらには視野角により白色バランスが崩れない反射型液晶表示媒体、及び、該反射型液晶表示媒体に用いる液晶層の反射ピーク波長設定方法を提供することである。 - 特許庁

For the method of manufacturing the semiconductor element, more specifically, a technique is disclosed in which a reflection preventing film containing silicon is formed, and then, coating of a hard mask layer and an etching processes are executed only once by performing an O_2 plasma process to simplify processes, thereby reducing time and cost.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、より詳しくはシリコンが含まれた反射防止膜を形成した後、Ｏ_２プラズマ工程を行なうことによりハードマスク層のコーティング及び食刻工程は１回のみ行なうようにして工程を単純化させ、時間及び費用を低減させる技術を示す。 - 特許庁

To provide a metal blackening treatment method capable of easily forming a blackened layer for preventing the reflection of light emitted from the screen of a display and the incident light from the outside for improving the viewability of the display screen, and forming a thin blackened layer of superior adhesion at the base-metal layer interface.例文帳に追加

ディスプレイの表示面からの出射光や外部からの入射光の反射を防止して、表示画面の視認性を向上させることを目的とする黒化層の形成が容易であり、且つ基材−金属層界面の密着性に優れた薄い黒化層を形成することが可能な金属黒化処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a touch panel member having an optical adjustment layer provided for light reflection formed as the a single layer, which is capable of preventing or reducing the visibility of a patterned transparent electrode layer in the touch panel member and can be formed by a simple method of coating means as well, a manufacturing method of the touch panel member, and a coordinate detection device including the touch panel member.例文帳に追加

光反射のために設けられる光学調整層を単層とした上で、タッチパネル部材におけるパターニングされた透明電極層の視認を防止し、または低減させることができ、しかも、塗工手段という簡易な方法によっても形成可能な光学調整層を備えるタッチパネル部材、および上記タッチパネル部材の製造方法、および、上記タッチパネル部材を備える座標検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display wherein irregularities which constitute a multi-gap structure for adjusting retardation in a reflection region and a transmission region, to provide a manufacturing method of the liquid crystal display by which the liquid crystal display can be efficiently manufactured and to provide an electronic device comprising the liquid crystal display.例文帳に追加

反射領域及び透過領域のリタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成する凹凸が精度よく形成された液晶表示装置及びそのような液晶表示装置を効率的に製造することができる液晶表示装置の製造方法及びそのような液晶表示装置を含む電子機器を提供する。 - 特許庁

The concealed image or concealed information authentication method and authentication system are characterized in that an imaging apparatus images the concealed image having sensitivity to absorption or reflection in a predetermined wavelength area for n times (once or more), predetermined image correction processing is applied to image information acquired by imaging and authenticity of the acquired image is authenticated.例文帳に追加

所定の波長領域における吸収又は反射に対する感度を有する隠蔽画像を、撮像装置でｎ回（１回以上）撮像し、撮像によって取得した画像情報に対して所定の画像補正処理を行い、取得した画像の真正を認証する隠蔽画像又は隠蔽情報の認証方法及びその認証システムを提供する。 - 特許庁

To provide a measurement method for correctly reflecting the phenomenon that a reflected light uneven interference required for the quality lies within an allowable level if it is used, permanently and frequently maintaining the accuracy, preventing the reflection light uneven interference from being altered, even if an area of a to-be-inspected surface is large, and conveniently and efficiently measuring the reflected light uneven interference.例文帳に追加

使用する場合の品質として求められる、反射光干渉ムラが許容範囲内の水準であることを正しく反映し、恒常的に高頻度で精度を保つことができ、大面積の検査面であっても、その反射光干渉ムラを変質させずに簡便に効率良く測定することができる測定方法を提供する。 - 特許庁

The forming method of a laminate comprises a first process for forming an intermediate layer on a substrate and a second process for forming a metal layer, having an adhesive force between the substrate, which is smaller than that between the intermediate layer, and a reflection factor, larger than that of the intermediate layer, while the forming speed of the metal layer is increased halfway of the second process.例文帳に追加

基体上に中間層を形成する第１の工程と、前記中間層上に前記基体との密着力が前記中間層よりも小さく、反射率が前記中間層よりも大きい金属層を形成する第２の工程を有し、前記第２の工程の途中で前記金属層の形成速度を増加させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting element which can be remarkably improved in light extraction efficiency regardless of the reflection efficiency of a package, etc. when it is mounted on the package, etc. and is very suitable for mass production, and also to provide a semiconductor light emitting device using the same and a manufacturing method of the semiconductor light emitting element.例文帳に追加

パッケージ等に取り付けたれたとき、パッケージ等の反射効率に関係なく、光取り出し効率を格段に向上させることができ、かつ、量産性に優れる半導体発光素子、その半導体発光素子を備えた半導体発光装置およびその半導体発光素子を製造できる半導体発光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device, the liquid crystal display device, and electronic equipment such that patterns of a plurality of uneven parts can be formed together on a resin layer and directivity is imparted to reflected light of a reflection film formed on the resin layer to obtain brighter reflected light in the direction.例文帳に追加

樹脂層に対して複数の凹凸部のパターンを一括して形成することが可能となると共に、当該樹脂層上に形成された反射膜の反射光に指向性を付与し、その方向内で一層の明るい反射光を得ることが可能となる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

When the semiconductor multilayer reflection film is grown by alternately laminating a first semiconductor layer and a second semiconductor layer on a substrate by an organic metal vapor growth method using an apparatus in which a substrate tray mounting a substrate on a self-rotating mechanism is self-rotated in a reactor, the inclination of the growth effect distribution of the semiconductor multilayer film is set to 3 to 10 (10^-3/mol).例文帳に追加

自転機構上に基板を取り付けた基台をリアクタ内で公転させる装置を用いて、有機金属気相成長法により基板上に第１の半導体層と第２の半導体層を交互に積層して半導体多層反射膜を成長させる際、半導体多層膜の成長効率分布の傾斜を３〜１０（１０^−３／ｍｏｌ）とする。 - 特許庁

This printing method comprises a step for forming a glossy plated layer on the surface of a metal plate 5, a step for forming unevenness on the surface of the glossy plated layer so that the concentration of reflection is ≤0.7, and a step for forming the printed surface 6 by irradiating the laser beam on the surface of the plated surface with the unevenness formed thereon to melt the irradiated portion.例文帳に追加

金属板５の表面に光沢のメッキ層を形成する工程と、光沢メッキ層の表面に反射濃度を０．７以下とする凹凸に形成する工程と、その凹凸が形成されたメッキ層表面にレーザ光を照射させ、その部分を溶融して印字面６を形成する工程とからなる印字方法である。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device in which no discharge trace of a liquid crystal material is produced, no heat is produced even when exposed to intense incident light and no active element is adversely affected by light reflection or by return light and of which the display quality is stable, an easy method for manufacturing the liquid crystal device and a projection display device provided with the liquid crystal device.例文帳に追加

液晶材料の吐出痕が発生せず、強い入射光に対して発熱することなく、光の反射や戻り光に対してもアクティブ素子に影響を与えることなく、表示画質の安定した液晶装置と、容易な液晶装置の製造方法および該液晶装置を備えた投射型表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical disk has a step for laminating at least a data recording layer 7, a reflection layer 8 and a protective film 9 on each of a plurality of parts of at least one surface of one large-sized metal substrate 50 to simultaneously work a plurality of optical disk mediums and a step for simultaneously pressing the plurality of optical disk mediums to simultaneously manufacture the plurality of optical disk mediums.例文帳に追加

一枚の大型金属基板５０の少なくとも片面の複数箇所のそれぞれに、少なくともデータ記録層７、反射膜８、保護膜９を積層して複数の光ディスク媒体を同時に加工する工程と、その複数の光ディスク媒体を同時にプレス加工する工程とを備え、複数の光ディスク媒体を同時に製造する。 - 特許庁

A control part 10 achieves simultaneous setting of three functions as "RFID lock", "RFID lock-in quick release", "change of RFID lock-in quick release method", by immediately reflecting setting change of the RFID lock menu, when reflection on a system is instructed by an M function, without immediately having to change the setting at the setting change in the setting change of the RFID lock menu.例文帳に追加

制御部１０は、ＲＦＩＤロックメニューの設定変更において、設定変更時にその設定を直ちに変更することなく、Ｍ機能でシステムへの反映が指示されたときにその設定を反映させることにより、「ＲＦＩＤロック」、「ＲＦＩＤロッククイック解除」、「ＲＦＩＤロッククイック解除方法の変更」の３つの機能の同時設定を実現する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming an antireflection film made of a two-layer film of a lower layer as a reflection film and an upper layer as an interference film to an exposure light on the substrate, emitting a pattern inspecting light via the antireflection film in the case of exposing a desired pattern on a photosensitive thin film coating the antireflection film, thereby aligning a photomask with the substrate.例文帳に追加

露光光に対して下層は反射膜であり、上層は干渉膜である二層膜からなる反射防止膜を基板上に形成し、その反射防止膜上に塗布した感光性薄膜に所望のパターンを露光する際に、反射防止膜を介してパターン検出光を照射することにより、ホトマスクと基板とのアライメントを行う。 - 特許庁

To provide a cleaning method which forms a structure having an interlayer insulating film and a reflection preventing film provided on a semiconductor substrate after a heat treatment, and polishes the structure then to clean, wherein foreign matters such as particle grains and metal contaminants can be suppressed from adhering to a cleaning surface.例文帳に追加

熱処理の後に半導体基板上に設けられた層間絶縁膜および反射防止膜を有する構造を形成し、その構造を研磨した後に行う洗浄方法において、パーティクル粒子および金属汚染物質のような異物が洗浄面に付着することを抑制することが可能な洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

In a manufacturing method for an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, for forming unevenness on a surface of a pixel electrode (reflection electrode) to scatter light, convex parts 701 and 702 are formed through patterning using the same photomask as that used for forming a TFT, thereby forming unevenness on a surface of a pixel electrode 169.例文帳に追加

本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁

To provide a metallic paint composition applicable to various industrial products, especially outer plate of a car, capable of forming a paint film generally high in brightness, generating coherent color and delicate hue change in highlight (near specular reflection light) and capable of perceiving whiteness in shade (oblique direction), and to provide a method of forming a paint film capable of forming a paint film.例文帳に追加

各種工業製品、特に自動車の外板に適用できる全体に高明度で、ハイライト（正反射光近傍）において干渉色を発現して微妙な色相変化を生じ、シェード（斜め方向）では白さを知覚できる塗膜を形成可能なメタリック塗料組成物及び塗膜を形成可能な塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a film mirror that prevents deterioration of a silver reflection layer from reducing the regular reflectance, is light in weight and flexible, suppresses the manufacturing cost, enables area enlargement and mass production, has high light resistance and high weatherability, and has good regular reflectance to sunlight, to provide a method of manufacturing the film mirror, and to provide a reflecting device for solar power generation using the film mirror.例文帳に追加

銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供する。 - 特許庁