「repetitive patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a motion detection method and a motion detector capable of highly accurately detecting motions even when the plural motions and repetitive patterns are present.例文帳に追加

動き検出の精度の低下を防止し、反復パターンによるエラーを低減し、複数動きの問題を低減する。 - 特許庁

Imaging one or more dot patterns can solve a lost status value by repetitive triangulation.例文帳に追加

一つ以上のドット・パターンを画像化することにより、反復三角測量法により、喪失状態値を解決することができる。 - 特許庁

Geometrical repetitive patterns 2 in a line width of 20 to 100 μm are formed of a material of superior conductivity on a film 1.例文帳に追加

フィルム１に電導性に優れた材料により２０〜１００μｍの線幅の幾何学的繰り返しパターン２を形成した。 - 特許庁

By stimulating the brain with repetitive patterns and vibrations, we have found that you can actually control a person's state of mind and implant specific thoughts.例文帳に追加

反復パターンと振動で 脳を活発化することで 精神状態と思考インプラントの 制御技術を開発したのです - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

The first and second auxiliary pattern parts 6 each include an auxiliary pattern, which is formed of a repetitive pattern of space patterns which have large line width enough not to be dissolved in the photosensitive film and formed by being bored in the light shield film, or a repetitive pattern of line patterns which are formed by leaving the light shield film.例文帳に追加

第１、第２の補助パターン部６は各々補助パターンを含み、補助パターンは感光性膜に解像しない線幅を有する、遮光膜を開孔したスペースパターンの繰り返しパターン、又は遮光膜を残したラインパターンの繰り返しパターンのいずれか一方で構成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for modeling patterns of behavior of humans or other animate objects and detecting a violation of a repetitive pattern of behavior.例文帳に追加

人間又は他の生物の行動パターンをモデル化して反復的な行動パターンの違反を検出するための方法及び装置が開示される。 - 特許庁

A chip comparison inspection for comparing patterns of two adjoining chips on an inspected object and a repetitive pattern comparison inspection for comparing same patterns with each other in the same pattern repetition part in a chip are carried out in parallel.例文帳に追加

被検査物上の隣接する２チップのパターンを比較するチップ比較検査と、チップ内の同一繰返しパターン部の同一パターンどうしを比較する繰返しパターン比較検査とを並行して実行する。 - 特許庁

These methods and apparatus facilitate writing more complex repetitive as well as non-repetitive patterns in a single exposure with a resolution which is higher than that currently available using known optical lithography alone.例文帳に追加

これらの方法および装置は、より複雑な反復的および非反復的パターンを公知の光学リソグラフィーのみを用いた場合に現在利用可能な解像度よりも高い解像度で、１回の露光によって書き込むことを容易にする。 - 特許庁

To accurately detect a signal from another cell in a radio communication system which performs communication using a plurality of channels having bands that become repetitive patterns.例文帳に追加

繰り返しパターンとなる帯域を持つ複数のチャネルを用いて通信を行う無線通信システムにおいて、他セルからの信号を精度良く検出する。 - 特許庁

If a BB1 or a BB2 is internally won, the repetition of the repetitive variations and the repetitive stops makes such bonus patterns as "red 7-red 7-red 7" for the BB1 or "blue 7-blue 7-blue 7" for the BB2 to be displayed to announce the finalization of the bonus.例文帳に追加

ＢＢ１又はＢＢ２に内部当籤していれば、この再変動、再停止の繰り返しによりボーナス図柄であるＢＢ１なら「赤７‐赤７‐赤７」、ＢＢ２なら「青７‐青７‐青７」の図柄の組み合わせが表示されてボーナス確定を報知する。 - 特許庁

The control means causes the step driving of the mask stage 5 for moving the mask by the quantity of n times the array pitch of the mask patterns to be carried out by accompanying the step driving of the exposure stage in the initial period and end period of the repetitive exposure of the exposure patterns.例文帳に追加

制御手段は、露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における露光ステージのステップ駆動に伴って、マスクをマスクパターンの配列ピッチのｎ倍の量移動させるマスクステージ５のステップ駆動を行わせる。 - 特許庁

The system enables an easily trial of varieties in putting practice patterns in a limited space and to make the practices enjoyable unless otherwise a tedious and repetitive training.例文帳に追加

これにより、狭いスペースで色々なパターンのパッティング練習が簡単にできるようになり、単純な練習の繰り返しだったパッティングの練習がより楽しめるものになる。 - 特許庁

However, an excitation X-ray 1 used as a probe should be of its beam diameter larger than the pattern dimension of the measuring object so that its irradiation range includes a number of repetitive patterns.例文帳に追加

ただし、照射範囲に多数の繰り返しパターンが含まれるように、プローブとして用いる励起Ｘ線１として、測定対象のパターン寸法よりも大きなビーム径のものを使用する。 - 特許庁

Probability distribution functions can be analyzed using known Gaussian distribution or clustering techniques to identify repetitive patterns of behavior and characteristics thereof (such as a mean and variance).例文帳に追加

確率分布関数は、反復的な行動パターン及びその特性（例えば平均及び分散）を識別するために既知のガウス分布又はクラスタリング技術を用いて分析されることができる。 - 特許庁

A capturing mechanism which detects repetitive generation of bit patterns of limited length in an applied data signal 10, and provides a triggering phenomenon for equivalent time sampling of the data signal 10.例文帳に追加

加えられたデータ信号(10)における有限長のビットパターンの反復的な発生を検出して、該データ信号(10)の等価時間サンプリングのためのトリガ事象を提供する、捕捉機構。 - 特許庁

The thick-line pattern 2C of the photomask 10 extends in parallel to the repetitive patterns 2a and 2b, and has a larger line width W1 than a line pattern 2a and a space pattern 2b.例文帳に追加

フォトマスク１０の太線パターン２ｃは、繰り返しパターン２ａ、２ｂと並走するように延び、かつラインパターン２ａおよびスペースパターン２ｂよりも太い線幅Ｗ１を有している。 - 特許庁

To provide a photomask with which fine repetitive patterns and a thick pattern can precisely be both formed and a manufacturing method of the electronic device using the same, and an electronic device.例文帳に追加

微細な繰り返しパターンと太いパターンとの双方を精度良く形成することができるフォトマスクおよびそれを用いた電子デバイスの製造方法、ならびに電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To detect defects even in incomplete unit patterns, in which parts of a pattern are absent in defect inspection for detecting defects present in the surfaces of samples, by comparing corresponding parts with one another of unit patterns which repeatedly appear in correspondence, to repeated patterns in inspection images acquired by imaging the surfaces of the samples in which the repetitive patterns are formed.例文帳に追加

繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。 - 特許庁

Since an intensity ratio of the three colors is different in each subpattern, a subpattern number of the repetitive patterns can be specified, and an absolute phase can be found from a relative phase ψ, by finding an intensity ratio of the three colors with respect to the flat pattern from reflected images of these four-in-total patterns.例文帳に追加

この合計４パターンの反射画像から３色の平坦状パターンに対する強度比を取ると、サブパターンごとに３色の強度比が異なるので、繰り返しパターンのサブパターン番号を特定でき、相対位相ψから絶対位相が求められる。 - 特許庁

The reticle is provided with marks having repetitive patterns of a period P satisfying 2λ/(NAβ)<P<16λ/(NAβ) when the numerical aperture of the projection optical system is defined as NA, a projection magnification as β and an exposure wavelength as λ.例文帳に追加

投影光学系の開口数をＮＡ、投影倍率をβ、露光波長をλとした時、周期Ｐが２λ／（ＮＡβ）＜Ｐ＜１６λ／（ＮＡβ）を満たす繰り返しパターンを有するマークをレチクルに設ける。 - 特許庁

To provide a structure of alignment marks by which the success rate of alignment for each field of view of inspection can be improved with respect to repetitive patterns in the intermediate part of a semiconductor device array by an inspection apparatus.例文帳に追加

検査装置による半導体素子アレイの中間部分の繰り返しパターンについて、検査の視野ごとのアライメント成功率を向上させることのできるアライメントマークの構造を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent panel (2) comprising at least two parallel main edges (4, 4') and having, in relief, pyramidal patterns, which are repetitive in relief, on at least one of its main surfaces.例文帳に追加

本発明は、少なくとも２つの平行な主たる縁（４、４’）を含み、且つ主表面の少なくとも１つに凹凸状で繰り返す、凹凸状をしたピラミッド型模様を有する透明パネル（２）に関する。 - 特許庁

The logic forming region and a region where a DRAM with repetitive patterns is formed are subjected to a second exposure process by the use of a photomask with a half tone part and a binary part and a 1/2 zonal lighting.例文帳に追加

ハーフトーン部とバイナリ部と有するフォトマスクおよび１／２輪帯照明を用いて、ロジック部の形成領域と、繰り返しパターン形状を有するＤＲＡＭ部の形成領域とに対して、２回目の露光を行う。 - 特許庁

To provide a rugged ornamental form which gives non-repetitive and changeful rugged patterns on a molding at a low cost and a manufacturing process of the rugged ornamental molding.例文帳に追加

成形品に形成する凹凸模様を繰り返しのない変化に飛んだものにすることができ、しかも、それを低コストで実現することができる凹凸化粧型枠及び凹凸化粧成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Step 2: Repetitive positions of periodical patterns in a mark image and intensity of periodicity (distribution of probability) at the above positions are obtained using an orthogonal conversion such as the Fourier's transformation for the normalization using the maximum and minimum values of intensity.例文帳に追加

ステップ２：フーリエ変換などの直交変換を用いて、マーク画像中の周期的パターンの繰り返し位置とその位置での周期性の強さ（確率分布）を求め、強さの最大値と最小値を用いて正規化する。 - 特許庁

The subcontrol circuit (72) thereafter performs a control to vary again the patterns displayed by the subdisplay windows (22L, 22C, and 22R) and stops the repetitive variation and turns on the subreel back lamps (112L, 112C, and 112R).例文帳に追加

また、副制御回路（７２）は、その後、サブ表示窓（２２Ｌ，２２Ｃ，２２Ｒ）により表示される図柄の再度の変動を行い、この再度の変動を停止すると共にサブリールバックランプ（１１２Ｌ，１１２Ｃ，１１２Ｒ）を点灯する制御を行う。 - 特許庁

In an another embodiment, thin fiber optical cables disposed parallel to each other on a supporting surface are used and each fiber optical cable is optically connected to only one LED of the LEDs of R, G and B in RGB repetitive patterns.例文帳に追加

別の実施形態では、支持表面に互いに平行となるように配置された薄いファイバ光ケーブルを用い、各ファイバ光ケーブルは、ＲＧＢ繰返しパターンにおけるＲ、ＧまたはＢのＬＥＤの１つにしか光学的に接続されていない。 - 特許庁

A CCD image pickup element 1 uses a color coding pattern formed by arranging the unit checkerwise patterns each of which is composed of four lines in which the picture element arrangements on the third and fourth lines in a repetitive two-line two-picture element pattern composed of Ye, Mg, Cy, and G are inverted.例文帳に追加

ＣＣＤ撮像素子１は、Ｙｅ，Ｍｇ，Ｃｙ、Ｇからなる２ライン２画素の繰り返しパターンの内の３，４ライン目の画素配置をそれぞれ逆転した計４ラインからなる市松パターンを単位とした色コーティングパターンを使っている。 - 特許庁

To provide a charged-beam exposure method by which character projection(CP) exposure can be performed even on an integrated circuit such as a logic product having a small number of repetitive patterns, an effect of improving a throughput can be obtained by performing the CP exposure, and charged-beam exposure data can be easily generated.例文帳に追加

ロジック製品のような繰り返しパターンの少ない集積回路でもキャラクタ・プロジェクション（ＣＰ）露光が行なえ、ＣＰ露光を行なうことによるスループット向上の効果が得られ、荷電ビーム露光データが容易に生成できる荷電ビーム露光方法を提供する。 - 特許庁

The pattern of the lower wiring layer Ma of the monitor mark formation region and a pattern of wiring trenches TRb (or upper wiring layer Mb) include repetitive patterns, respectively, in a rectangular region R having a breadth of 3 μm-100 μm and extend in the same direction parallel with each other.例文帳に追加

モニター用マーク形成領域の下層配線層Ｍａのパターンと配線溝ＴＲｂ（または上層配線層Ｍｂ）のパターンとは３μｍ〜１００μｍ□の広さを有する矩形領域Ｒ内において、繰り返しパターンを有しており、かつ互いに同じ方向に平行に延びている。 - 特許庁

In the unit reflection part (5), arrangement patterns of unit regions (3) are repetitively disposed and the repetitive pitches of the unit regions are integral multiple of the pitch of a pixel (4) of a liquid crystal and ≥5,000 μm.例文帳に追加

複数の単位反射部（５）を有する反射板（１）であって、前記単位反射部（５）は、単位領域（３）の配置パターンを繰り返して配置されており、前記単位領域の繰り返しピッチが液晶の画素（４）ピッチの整数倍でかつ５０００μｍ以上であることを特徴とする、反射板である。 - 特許庁

To provide a mold with fine convexo-concave patterns where production can be achieved in a simple manufacturing process with a good repeatability, and both warpage and bending due to repetitive use can be handled, and to provide methods for manufacturing the mold, transcribing a convexo-concave pattern, and manufacturing a material with concaves.例文帳に追加

簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.例文帳に追加

ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Base sequence data recorded by one base one byte is rearranged, unified sequence data (a) recorded by three bases one byte is made, and then, reference sequence data wherein the sequence of the unified sequence data is varied a little in accordance with a plurality of repetitive patterns is made, the unified sequence data is compared with the respective reference sequence data, and an overlapped partial sequence is retrieved.例文帳に追加

１塩基１バイトで記録された塩基配列データに対して、再配置を行い、３塩基１バイトで記録された統合配列データ（ａ）を作成した後、複数の反復パターンに応じて、統合配列データの配列を若干変化させた参照配列データを作成し、統合配列データと各参照配列データを比較することにより、重複する部分配列を探索する。 - 特許庁

Defects in repetitive patterns in a multilayer substrate are detected by a defect detection part provided in the defect correcting device, and when the defects detected by the defect detection part overlap with a region where an occurrence of the interlayer short-circuit defect is assumed, a control part 301 provided in the defect correcting device generates an object corresponding to a defect correction technique for the interlayer short-circuit defect.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部により多層基板における繰り返しパターン内の欠陥を検出し、欠陥検出部で検出された欠陥が層間ショート欠陥の発生が想定される領域に重なる場合、欠陥修正装置が備える制御部３０１により層間ショート欠陥用の欠陥修正手法に対応するオブジェクトを生成する。 - 特許庁