「shot pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Resist patterns corresponding to at least two exposure shots are extracted, and the resist pattern corresponding to at least one shot is compared with a master pattern as an inspection reference so as to inspect whether a defect is present in the resist pattern or not and to extract a defective portion.例文帳に追加

ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。 - 特許庁

That is, optimal exposures for a logic pattern and a DRAM pattern are averaged for target dimensions, or an optimal exposure amount E of small exposure latitude in a shot is determined through weighting the logic pattern.例文帳に追加

すなわち、ターゲット寸法に対するＬｏｇｉｃパターン、ＤＲＡＭパターンのそれぞれの最適露光量Ｅ_1 、Ｅ_2 の平均をとったり、露光裕度の小さいＬｏｇｉｃパターンに重みを付けてショット内の最適露光量Ｅを決定する。 - 特許庁

The controller 2 executes a first step of making the controlled device 1 project the metal wiring mask pattern 31 and the identification mask pattern 32 onto a resist film 81, formed on the wafer 7 for each shot, and a second step of making the controlled device 1 project the metal wiring mask pattern 41 and the identification mask pattern 42 onto a resist film 82, formed on the wafer 7 in every shot.例文帳に追加

制御装置２は、被制御装置１に、ウエハ７上に形成されたレジスト膜８１に金属配線マスクパターン３１と識別マスクパターン３２とをショット毎に投影させる第１ステップと、被制御装置１に、ウエハ７上に形成されたレジスト膜８２に金属配線マスクパターン４１と識別マスクパターン４２とをショット毎に投影させる第２ステップとを実行する。 - 特許庁

While a game ball is detected by a shot ball detecting switch, ordinary display is performed on a special pattern display device 32 (figure 9 (A)).例文帳に追加

発射球検出スイッチが遊技球を検出しているときには、特別図柄表示装置３２に通常の表示が行われる（図９（Ａ））。 - 特許庁

When a wafer is exposed to a mask pattern through a plurality of exposure shots, a correction exposure amount in each exposure shot is found based upon a previously measured pattern size distribution in each exposure shot after etching, exposure is carried out with respective correction exposure amounts in the respective exposure shots, and the exposed wafer is etched to form the pattern on the wafer.例文帳に追加

ウェハ上にマスクパタンを複数の露光ショットにより露光する際に、予め測定されたエッチング後の各露光ショット内のパタン寸法分布に基づき、各露光ショット内の補正露光量を求め、各露光ショットにおいて、それぞれの補正露光量で露光し、露光されたウェハをエッチングすることにより、ウェハにパタンを形成する。 - 特許庁

As to the pattern transferred to each shot region of a wafer 12, the regularity of the arrangement based on the scanning direction is detected, and the position of each pattern is detected based on the detected regularity.例文帳に追加

ウエハ１２の各ショット領域に転写されているパターンについて、スキャン方向に基づく配列の規則性を検出し、検出された規則性に基づいて、各パターンの位置を検出する。 - 特許庁

A molten metal material 22 is injected in the recessed parts 21a, which are formed on the profile surfaces of the mold rough material of a first sector 20 molded by a first shot by die casting, by a second shot so as to leave a processing flange for processing a tread pattern.例文帳に追加

ダイカスト鋳造により第１ショットで成形した第１セクター２０のモールド粗材のプロファイル面２１の凹部２１ａに、トレッドパターンを加工するための加工代を残して溶融金属材料２２を第２ショットする。 - 特許庁

While the game ball is not detected by the shot ball detecting switch, noise is displayed all over a display screen of the special pattern display device 32 (figure 9 (B)).例文帳に追加

発射球検出スイッチが遊技球を検出していないときには、特別図柄表示装置３２の表示画面全体にノイズが表示される（図９（Ｂ））。 - 特許庁

An image of one pattern of the relative position detection object is extracted from the actually shot image based on design information and is assumed to be a template.例文帳に追加

実際に撮像した画像から設計情報に基づいて相対位置検出対象の一方のパターンの画像を抽出しこれをテンプレートとする。 - 特許庁

A calculation section 25a calculates the product of the area (S_N) and exposure time (t_N) of an N-th shot at a predetermined unit obtained from pattern drawing data.例文帳に追加

描画データから得られた所定単位におけるＮ番目のショットの面積（Ｓ_Ｎ）と照射時間（ｔ_Ｎ）の積を演算部２５ａにて演算する。 - 特許庁

One shot-form of exposure treatment is made to be rectangular, and one dimension is made (a)times as long as a chip pattern dimension (however, (a) is a positive integer of 2 or larger).例文帳に追加

露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、その一方の寸法をチップパターンの寸法のａ倍（ただし、ａは２以上の正の整数）とする。 - 特許庁

When game balls are being continuously shot to a game board 14, special pattern variation time (time required from the start of varying display to the stationary display of stationary patterns) by a special pattern display device 32 is shorter than when game balls are not being continuously shot to the game board 14.例文帳に追加

遊技球が遊技盤１４へ継続的に発射されているときには、遊技球が遊技盤１４へ継続的に発射されていないときに比べて、特別図柄表示装置３２による特別図柄の変動時間（変動表示開始から停止図柄が停止表示されるまでに要する時間）が短縮時間分だけ短縮される。 - 特許庁

Pattern exposure is made onto a wafer with a ground pattern on the surface and a wafer without any ground pattern on the surface while increasing the exposure energy by a certain amount each time for each shot, thus manufacturing a wafer for inspection that is an exposure running wafer (S13).例文帳に追加

表面に下地パタンを有するウェハ上および表面に下地パタンを有しないウェハ上のそれぞれに、１ショット毎に露光量を一定量ずつ増加させながらパタンの露光を行うことによって、exposure runningウェハである検査用ウェハを作製する（Ｓ１３）。 - 特許庁

The control section controls the resin feeding mechanism so that the resin is supplied to a shot region to be imprinted and at least part of a region on the envelopment member facing a pattern region, in case when the pattern region of the mold to conduct imprint treatment protrudes from periphery of the substrate resulting in protrusion of the pattern region from the shot region to be imprinted.例文帳に追加

制御部は、インプリント処理を行う型のパターン領域が基板の外周からはみ出すために、パターン領域がインプリント処理を行うべきショット領域からはみ出す場合に、インプリント処理を行うべきショット領域と、包囲部材の上の領域のうちパターン領域に対向する部分の少なくとも一部とに、樹脂が供給されるように樹脂供給機構を制御する。 - 特許庁

The measurement method is to measure a position coordinate of a pattern of each shot when forming a series of patterns by exposing the same pattern on a substrate in a plurality of consecutive shots.例文帳に追加

さらに、この計測方法によって、所定の電気的特性を有するパターン形成方法、半導体装置の製造方法、並びにパターンのつなぎ目部分での表示ムラの防止を可能とする電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The iris photographing device 200 extracts a ring-shaped characteristic pattern part from an image captured via the wide-angle shot and performs magnification imaging of the characteristic pattern for photographing the iris periphery part X1.例文帳に追加

アイリス撮影装置２００は、広角撮影して得た画像中からリング状の特徴パターンのところを抽出し、その特徴パターンのところを拡大撮影することによって、アイリス周辺部Ｘ１を撮影する。 - 特許庁

On the other hand, an imaging portion 602 shoots an image including the irradiation pattern produced by the emitted pattern lights, and an image processing portion 603 detects a fault on the surface of the inspection object on the basis of changes of the shape of the irradiation pattern included in the shot image.例文帳に追加

一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

Of the wiring patterns 5 and 7, the wiring pattern 7a, in the scribe region 6 to be connected to the wiring pattern 5a in the chip region 4 across over the portion between shot regions, is formed with an overlap wiring portion OL to be connected, while it overlaps the wiring pattern 5a.例文帳に追加

それら各配線パターン５，７のうち、ショット領域間を跨ぐ態様でチップ領域４内の配線パターン５ａに対して接続されるスクライブ領域６内の配線パターン７ａには、同配線パターン５ａとオーバーラップして接続されるオーバーラップ配線部ＯＬが形成されている。 - 特許庁

To obtain an apparatus and method of exposure and a method for manufacturing a device, which can align a pattern image with a shot region on a substrate with higher accuracy.例文帳に追加

基板上のショット領域に対してより高精度にパターン像を重ねあわせることができる露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently perform exposure for eliminating an unnecessary pattern at a peripheral part of a substrate even when there are many devices in one shot area on the substrate.例文帳に追加

基板上の１つのショット領域内のデバイスの個数が多いような場合でも、その基板の周辺部の不要なパターンを消すための露光を効率的に行う。 - 特許庁

To enhance the vertical resolution by increasing the number of signal output lines of each image pattern without increasing a drive frequency in the case of high speed shot including smear detection.例文帳に追加

スミア検出を含む高速度撮影に際して、駆動周波数の高速化を伴うことなく、各画面の信号出力ライン数を増加させ垂直解像度を高める。 - 特許庁

To provide a forming method of resist pattern wherein generation of defective profile, and the generation of dimension and profile difference in a wafer surface and/or in a shot can be controlled in an oil immersion exposing method.例文帳に追加

液浸露光法において、不良形状、ウェハ面内及び／或いはショット内における寸法・形状差を抑制し得るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the substrate pattern is formed on the glass substrate according to the reticle data 11 and the exposure data 12, an exposure area for each shot on the glass substrate is computed by OR operation.例文帳に追加

レチクルデータ11および露光用データ12によりガラス基板上に基板パターンを形成した際に、ガラス基板上の各ショット毎の露光領域をＯＲ演算する。 - 特許庁

The projected pattern images of respective shot regions are measured by a photoelectric detector 51 and converted into image pickup signals through photoelectric conversion and the signals are transmitted to a main control system 70.例文帳に追加

光電検出装置５１により露光されたパターン像を各ショット領域毎に計測し、撮像信号に光電変換して主制御系７０に送る。 - 特許庁

Game balls shot into the game region 1 of the pachinko machine flow down not only on both sides of the special pattern display section 2 but also through the passages 4.例文帳に追加

そして、パチンコ機は、遊技領域１に打ち込まれた遊技球を、特別図柄表示部２の両脇ばかりでなく、通路４，４からも流下させるようになっている。 - 特許庁

To satisfactorily maintain the connecting accuracy between complementarily divided areas even when, for example, a shot rotation in substrate pattern occurs and, in addition, to suppress the deterioration of yield as much as possible at the time of forming a pattern through complementary division.例文帳に追加

相補分割によるパターン形成を行う場合に、例えば下地ショット回転が発生しても、相補分割領域間でのつなぎ精度を良好に保つことができ、しかも収率悪化を極力抑制できるようにする。 - 特許庁

A correcting time for a shot time of the electron beam is obtained on a line width correction volume (loading correction volume) obtained through a conversion formula of the ratio of a pattern area rate to the line width correction volume previously obtained on the basis of the calculated area of the pattern.例文帳に追加

計算されたパターン面積に基づき、あらかじめ求めてあるパターン面積率対線幅補正量の換算式によって求めた線幅補正量(ローディング補正量)から、電子ビームのショット時間の補正時間を求める。 - 特許庁

The out-of-focusing of the projection optical system is set as the function of a deflecting amount and the position of the pattern in a one-shot exposed area and the energy profiles DR(x) and E(x) formed on the sensitive substrate, when exposure is made by using a primary reticle pattern are calculated.例文帳に追加

投影光学系のボケを偏向量と一括露光領域内におけるパターン位置の関数として設定し、一次レチクルパターンにより露光した場合の感応基板上でのエネルギープロファイルDR(x)、E(x)を計算する。 - 特許庁

To provide a system such that when a shape of a shot during exposure is distorted as a circuit pattern becomes finer, a decrease in throughput during wafer inspection with an electron microscope and a decrease in automation rate are recognized, and a position correcting operation for the shot distortion is carried out.例文帳に追加

回路パターンの微細化に伴い、露光の際のショットの形状の歪みがある場合には、電子顕微鏡によるウェーハ検査時のスループットの低下や自動化率の低下が認められ、ショット歪みに対する位置補正動作を実行する方式を提供する。 - 特許庁

An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.例文帳に追加

このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of correcting the pattern size and the position accurately by preventing deviation of the shot position even if the shot size is corrected additionally by gain, and to provide a highly accurate photomask by using that method and device.例文帳に追加

ゲインよるショットサイズの追加補正を行なっても、ショット位置にずれが生じず、パターンサイズと位置を精度良く補正できる方法および装置を提供することを目的とし、上記方法および装置を用いることにより、高精度のフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

A first identification mark is formed at the leading part of the ground of the metal pattern layer obtained from the first shot S1, a second identification mark is formed at the rear part of the ground obtained from the n-th shot Sn, and surfaces of the shielding material area between the two identification marks are counted to grasp the number of surfaces.例文帳に追加

第１ショット部Ｓ１から得られる金属パターン層のアース部の先頭部に第１識別マークが形成され、第ｎショット部Ｓｎから得られるアース部の後尾部に第２識別マークが形成されるようにし、２つの識別マークの間のシールド材領域をカウントして面数を把握する。 - 特許庁

In a slot machine 1, when the special favor is awarded by a game processing (S7) and when win is earned by an image acquisition lottery processing (S6), by the operation of a screen shot operation part 210 in an image acquisition processing (S9), a screen shot pattern 115 is generated from a lower liquid crystal display 4.例文帳に追加

スロットマシン１において、ゲーム処理（Ｓ７）で特典が付与され、画像取得抽選処理（Ｓ６）に当選すると、画像取得処理（Ｓ９）でスクリーンショット操作部２１０の操作を行うことで、下部液晶ディスプレイ４に基づくスクリーンショット図柄１１５が生成される。 - 特許庁

In a split type mold for vulcanizing and molding a tire, since the sipe casting part, which flies out of a pattern core of a second shot at the time of second shot casting, interferes with a first piece block 3a when a piece 3 equipped with a sipe 6 is produced, an escape groove 6a is required in the first piece block 3a.例文帳に追加

分割型のタイヤ加硫成形用金型において、サイプ６を備えたピース３を製作する場合、第２ショット鋳造時に第２ショットのパターン入れ子から飛び出したサイプ鋳込み部が第１ピースブロック３ａに干渉するので第１ピースブロック３ａに逃がし溝６ａが必要となる。 - 特許庁

A main control system 24 finds out the appropriate movement speed of the pattern of a reticle R to be transferred to a shot area on a wafer W according to the synchronous movement direction SD of each of shot areas that is set on the wafer W, and it outputs the result to driving control units 35 and 41 and sets it.例文帳に追加

主制御系２４は、ウェハＷに設定された各ショット領域の同期移動方向ＳＤにおける大きさに応じてレチクルＲのパターンをウェハＷ上のショット領域に転写する際の最適な移動速度を求め、駆動制御ユニット３５，４１に出力して設定する。 - 特許庁

Subsequently the two display panels 1, 2 are superposed on each other, and then a pattern generated by superposition of the alignment patterns (superposition pattern) is shot with a camera 16 located on the outside of the moving range of the display panel 1 while making the one display panel 2 move.例文帳に追加

その後、２枚の表示パネル１，２を重ね合わせた後、一方の表示パネル２を移動させながらアライメントパターンの重なりによって生じるパターン（重なりパターン）を、表示パネル１の移動範囲の外側に配置したカメラ１６で撮影する。 - 特許庁

The hard particles are projected from the shot blast device through the through-hole of the masking hole made to closely adhere to the outer peripheral surface of the cylindrical member, thereby forming recessed parts of a pattern conformable to the pattern of the through-holes in the outer peripheral surface of the cylindrical member.例文帳に追加

そして、円筒部材の外周表面に密着したマスキングフィルムの透孔を通じて、ショットブラスト装置から硬質粒子を投射することにより、円筒部材の外周表面に透孔のパターンに合致したパターンで凹部を形成する。 - 特許庁

The apparatus comprises means 13 to 17 which capture a diffraction image of a substrate comprising different shot areas, each having repetition patterns transferred thereto and a means 17 which calculates fluctuations in linewidth of the repetition patterns transferred to the different shot areas by comparing the brightness information of each part corresponding to each repetition pattern with respect to the different shot areas in the diffraction image.例文帳に追加

異なるショット領域のそれぞれに繰り返しパターンが転写されている基板の回折画像を取り込む手段１３〜１７と、回折画像の異なるショット領域について、それぞれの繰り返しパターンに対応する部分の輝度情報を比較することにより、異なるショット領域に転写された繰り返しパターンの線幅変動を算出する手段１７とを備える。 - 特許庁

So, even if a camera shake occurs, the distance between a characteristic part (main object) and the fixed pattern noise on each of the continuously shot images can vary.例文帳に追加

よって、手ぶれが発生した場合においても、連写撮影された各画像上で特徴部分（主要被写体）と固定パターンノイズとの距離を互いに異なるものにすることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor chip capable of manufacturing a semiconductor chip of an N×N shot size without forming marks in a main pattern region.例文帳に追加

本発明は、メインパターン領域内にマーク類を形成することなく、Ｎ×Ｎショットのサイズの半導体チップを製造することが可能な、半導体チップの製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

As a result, the overlap parts of all the adjacent four shot regions are prevented from changing suddenly in a cumulative light exposure, that is, a pattern can be prevented from suddenly changing in line width.例文帳に追加

この結果、隣接４ショット領域の全域で重ね合せ部分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の急激な変化の発生を防止することができる。 - 特許庁

A pattern writing controller 145 displays an image at a specified position on the screen according to the time shown by its photographed date and time, based on information showing the shot date and time of the picture.例文帳に追加

描画制御部１４５は、画像の撮影日時を示す情報に基づいて、その撮影日時により示される時刻によって特定される画面上の位置に、画像を表示させる。 - 特許庁

When the same pattern is continuously generated by repeatedly and intermittently emitting light from a light source to a micromirror device at least twice, until the frequency of light emission reaches a preset predetermined frequency, the same pattern information as the pattern information transmitted immediately with a preset timing from emission of light of one shot from the light source to emission of light of next shot is transmitted to the micromirror device.例文帳に追加

マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 - 特許庁

The area irradiated with the specific wavelength light is extracted from a plurality of shot frames, the predetermined pattern series is generated from the modulation state of the extracted specific wavelength light irradiation area, the control information is generated from the generated predetermined pattern series, and a display means for displaying the shot frames is controlled according to the control information.例文帳に追加

また、撮影された複数のフレームより特定波長光が照射された領域を抽出し、抽出された特定波長光照射領域について、その変調状態から前記所定のパターン系列を生成し、生成された所定のパターン系列より制御情報を生成し、その制御情報に基づいて、撮影されたフレームを表示する表示手段を制御する。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing device and a method which are maintenance-free and capable of forming an optional pattern by each shot and drawing it on a specimen at a high speed without providing a stencil on which a cell pattern is previously formed in the optical path of an electron beam.例文帳に追加

予めセルパターン形成されたステンシルを電子ビームの光路中に設置することなく、任意のビームパターンをショットの都度に成形して、高速にメンテナンスフリーで試料上に描画することが可能な電子ビーム描画装置及び方法を提供すること。 - 特許庁