sinを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1352件
In a pre-via type dual damascene method, a via hole 10 and a wiring groove 13 are formed, and then an SiN film 8, the exposed part of an SiC film 5 and the exposed part of an SiC film 3 are removed by etching.例文帳に追加
先ビア方式のデュアルダマシン法において、ビアホール10及び配線溝13を形成した後、SiN膜8、SiC膜5の露出部及びSiC膜3の露出部をエッチングにより除去する。 - 特許庁
When the input signal SIN is at e.g. logical 'H', the saturation current of the FET 22 flows to ground GND via the gate and the source of the FET 22 and also flows to a resistor 21.例文帳に追加
ここで、入力信号S_INが例えば“H”のとき、FET22の飽和電流が該FET22のゲート及びソースを介してグランドGNDに流れるが、この飽和電流は抵抗21にも流れる。 - 特許庁
Humidity absorption preventing layers 41, 42 of the double-layer structure of SiN/TiN are formed on the coating films 18, 19 formed on the resonator end surfaces 16, 17 of the nitride semiconductor laser element 10.例文帳に追加
窒化物半導体レーザ素子10の共振器端面16、17上に形成されたコート膜18、19上に、SiN/TiNの2層構造の吸湿防止層41、42を形成する。 - 特許庁
To early detect disconnection in a rotation angle detection system for determining the presence or absence of disconnection based on output signals (a SIN signal and a COS signal) of a resolver for detecting a rotation angle of a motor.例文帳に追加
モータの回転角を検出するレゾルバの出力信号(SIN信号とCOS信号)に基づいて断線の有無を判定するシステムにおいて、断線を早期に検出できるようにする。 - 特許庁
Since the polysilicon layer between the SiN sidewalls is made into silicide, the gate insulating film is prevented from being damaged and the insulating withstand pressure defect of the gate electrode is prevented like a conventional case when the electrode is made into silicide.例文帳に追加
SiNサイドウォールの間のポリシリコン層をシリサイド化しているので、シリサイド化に際して、従来のように、ゲート絶縁膜が損傷を受け、ゲート電極の絶縁耐圧不良が生じようなことはない。 - 特許庁
Since cos(x) and sin(x) are signals showing the displacement x, a scale relative to a head part, namely, relative displacement information in the X-axis direction of a moving body can be acquired from the values.例文帳に追加
このcos(x)、sin(x)は、変位xを表す信号であるので、これらの値から、ヘッド部に対するスケール、すなわち移動体のX軸方向の相対変位情報を取得することができる。 - 特許庁
The gate electrode 12 is formed as a structure of a polysilicon layer 24 and WSi layer 26 laminated thereon having a sidewall 28 made of an insulating film such as SiN, etc.例文帳に追加
ゲート電極は、ポリシリコン層24とポリシリコン層24上に積層されたWSi層26の積層構造として形成され、側面にSiN等の絶縁膜からなるサイドウォール28を備えている。 - 特許庁
A contact hole is formed in a gate insulating film 12 formed of SiO_2 and a laminated inter-layer insulating film 13 formed on SiN thereupon by etching using buffer hydrofluoric acid.例文帳に追加
SiO_2により構成されたゲート絶縁膜12およびその上に積層され、SiNにより構成された層間絶縁膜13に、緩衝フッ酸を用いたエッチングによりコンタクトホールを形成する。 - 特許庁
Furthermore, the method comprises a process of etching a SiN film selectively, by using a mixed solution of H2SO4 and H2O or this mixed solution added with a very small amount of hydrofluoric acid.例文帳に追加
さらに、H_2SO_4とH_2Oとの混合液、またはこの混合液に微量のフッ酸を添加したエッチング液を用い、SiN膜を選択的にエッチングする工程を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
Thereafter, the photo resist is removed and oxidizing treatment is carried out under a state that the SiN layer 15 formed on the transfer electrode remains as it is to form an oxide layer in a region corresponding to a light-receiving section.例文帳に追加
その後、フォトレジストを除去し、転送電極上に形成したSiN層15を残した状態のままで酸化処理を行なって受光部に対応する領域に酸化物層を形成する。 - 特許庁
Then, etching is conducted up to the etching stopper film, SiN film so that an SiON film with an desirable even thickness is formed on the fuse.例文帳に追加
ヒューズを覆ってSiON膜、SiN膜、SiO_2膜をこの順序で形成した後、エッチングストッパ膜であるSiN膜までエッチングすることにより、ヒューズ上に均一で所望の膜厚のSiON膜を形成する。 - 特許庁
The second nitride film 6 is composed of SiN similarly to the first nitride film 4 and formed to cover the side face of the copper interconnection 5 and to touch the first nitride film 4 across the adjoining copper interconnections 5.例文帳に追加
第2窒化膜6は、第1窒化膜4と同じSiNからなり、銅配線5の側面を覆うとともに、隣接する銅配線5間にわたって第1窒化膜4と接触するように形成されている。 - 特許庁
A modulation circuit PCM within an integrated circuit IC1 to which a standard power VD1 (e.g., 5V) is supplied, performs PWM modulation on an input signal SIN and outputs a pulse signal SP1.例文帳に追加
標準電源VD1(例えば5V)が供給された集積回路IC1内の変調回路PCMは、入力信号SINをPWM変調してパルス信号SP1を出力する。 - 特許庁
A precursor film 304 with an a-Si layer or a fine crystal p-Si layer is formed on a glass substrate 301 having a foundation layer with stacked SiN 302 and SiO_2 film 303, and then implantation is performed there.例文帳に追加
SiN302とSiO_2膜303を積層した下地層を有するガラス基板301にa−Si層または微粒結晶p−Si層のプリカーサ膜304を成膜し、これにインプラを行う。 - 特許庁
By this operation, a microwave plasma treatment device 100 is capable of generating a good quality SiN film stably by obtaining the plasma of treatment gas by the power of the microwave introduced into the treatment vessel 10.例文帳に追加
これにより,マイクロ波プラズマ処理装置100は,処理容器10内に入射されたマイクロ波のパワーにより処理ガスをプラズマ化させて良質なSiN膜を安定的に発生させることができる。 - 特許庁
The maintenance is performed by depositing the conductive film, for example, amorphous silicon (a-Si) film or SiN film having a refractive index of at least 2.3 while there is no substrate on a substrate holder (the counter electrode) 5B.例文帳に追加
これは、基板ホルダ(対向電極)5B上に基板が無い状態で導電膜、例えばアモルファスシリコン(a−Si)膜または屈折率2.3以上のSiN膜を成膜することにより行う。 - 特許庁
Furthermore, the semiconductor device includes: an HDP oxide film 22 formed on the upper surface of the plasma SiON film 21; and a plasma SiN film 25 formed covering the HDP oxide film 22.例文帳に追加
さらに、複数の配線を覆うように、プラズマSiON膜21の上面に形成されたHDP酸化膜22と、HDP酸化膜22を覆うように形成されたプラズマSiN膜25とを備えている。 - 特許庁
The region of the N-side electrode 16 on the side of a P-side electrode 15 and the top and side of the resonator forming part excluding the P-side electrode 15 are covered with an insulating film 17 of SiN respectively.例文帳に追加
n側電極16のp側電極15側の領域、並びにp側電極15を除く共振器形成部の上面及び側面は、それぞれSiNからなる絶縁膜17に覆われている。 - 特許庁
By discretely forming the SiN buffer body, crystal growth of a low-temperature buffer layer depending on board is prevented, promoting single crystallization of a seed crystal at growing of the GaN buffer layer 16.例文帳に追加
SiNバッファ体を離散的に形成することで、低温バッファ層の基板に依存した結晶成長を阻害し、GaNバッファ層16成長時の種結晶となる単結晶化を促進する。 - 特許庁
The multiplier 123A multiplies one of the first-stage phase adjusted signals by the cosine value cos (θ), and the multiplier 123B multiplies another first-stage phase adjusted signal by the sine value sin (θ).例文帳に追加
乗算器123Aは、一方の第1位相調整済信号と余弦値cos(θ)とを乗算し、乗算器123Bは、他方の第1位相調整済信号と正弦値sin(θ)とを乗算する。 - 特許庁
Direct nitriding of a silicon oxide film which uses RLSA type plasma treating equipment is applied to side walls of the connection hole 21 and the second trench 23, and a barrier layer 25 composed of an SiN film is formed.例文帳に追加
さらに、接続孔21および第2の溝23の側壁に、RLSA型のプラズマ処理装置を用いたシリコン酸化膜の直接窒化を施し、SiN膜からなるバリヤ層25を形成する。 - 特許庁
An inorganic insulation layer 3 comprising ceramics of AlN, SiN, TiN, AL2O3, and SiO3, etc., is formed between the hole injection electrodes 2 on a substrate 1, and between the element domains on the element domains of the injection electrodes 2.例文帳に追加
基板1上のホール注入電極2間およびホール注入電極2上の素子領域間にAlN、SiN、TiN、Al_2 O_3 、SiO_2 等のセラミックスからなる無機絶縁層3が形成される。 - 特許庁
In the nitriding system 21, NH_3 gas is dissociated with the exciting energy of the UV-rays and caused to react on the silicon wafer 22 thus forming an SiN film usable as an insulation film on the surface of the silicon wafer 22.例文帳に追加
窒化装置21では、紫外線の励起エネルギによってNH_3ガスを解離してシリコンウェハ22と反応させ、シリコンウェハ22の表面に絶縁膜として使用可能なSiN膜を生成することができる。 - 特許庁
A single differential converting circuit 10 converts an oscillation signal Sin to a pair of differential signals S01 and S02, limits the level through a limiter amplifier 20 and outputs differential signals SLO and SLOB having a fixed amplitude.例文帳に追加
シングル差動変換回路10は発振信号S_inを一対の差動信号S_O1,S_O2に変換し、リミッタアンプ20によりレベルを制限し、一定の振幅を持つ差動信号S_LO,S_LOB を出力する。 - 特許庁
In the driving force control at the time of braking, a motor controller 8 computes the additional drive force of a sine waveform to output the additional drive force Sin of the computed sine waveform to a motor control unit 6 as a command value.例文帳に追加
制動時駆動力制御では、モータコントローラ8が、正弦波形の付加駆動力を算出して、算出した正弦波形の付加駆動力Sinを指令値としてモータ制御器6へ出力する。 - 特許庁
A calculation amplifier 21 inputs an input signal Sin inputted to an amplifier 15, amplifies the signal with a voltage amplifying rate G equal to a voltage amplifying rate of the amplifier 15, and generates a detection signal Sdet.例文帳に追加
演算増幅器21が、増幅器15に入力される入力信号Sinを入力し、増幅器15の電圧増幅率と等しい電圧増幅率Gで増幅して検出信号Sdetを生成する。 - 特許庁
An attitude quaternion converter 20 of an attitude signal computing unit finds a quaternion notation of an input attitude signal Sin representing an attitude of a moving body, and outputs it as an input attitude quaternion.例文帳に追加
姿勢信号演算装置において、姿勢4元数変換器20は、運動体の姿勢を表す入力姿勢信号Sinの4元数表記を求め、入力姿勢4元数として出力する。 - 特許庁
The surface of a center portion of the substrate electrode 6 opposed to the sample 20 is flat, and the electric field distribution over the substrate electrode 6 becomes uniform, and thus the etching depth of the SiN film has high uniformity in the surface.例文帳に追加
試料20に対向する基板電極6の中央部の表面は平坦であり、その基板電極6上の電界分布が均一化して、SiN膜のエッチング深さの面内均一性は高い。 - 特許庁
Each opening portion comprises a first opening portion 24a piercing the SiN layer 22 whose width is large and a second opening portion 24b piercing the Si layer 20 whose width is small and reduces continuously from the first opening portion 24a.例文帳に追加
開口部は、SiN層22する広幅の第1開口部24aと、Si層20を貫通し、開口幅が第1開口部22bより連続して縮小する縮幅の第2開口部24bとからなる。 - 特許庁
To solve the problem, the board is inserted by controlling maximum calorific value of the heater that controls the temperature in the reactive furnace to 0.75 kJ/sec to 1.5 kJ/sec, during a process for forming the SiN film.例文帳に追加
これを解決するために、SiN膜を成膜する工程にて、反応炉内温度を制御するヒーターの最大熱量を0.75kJ/sec以上、1.5kJ/sec以下に制御してボートを装入する。 - 特許庁
The smoothing layer 54 is preferably formed of SiN or SiO_2, on the other hand, the binder layer 56 is formed of an N-rich TaN compound which has an N/Ta ratio of 1 or above or an amorphous TaN compound.例文帳に追加
平滑化層54は、好ましくはSiN又はSiO_2からなり、一方、バインダ層56は、N/Taが1を超えるNリッチなTaN化合物、又は、アモルファスTaN化合物からなる。 - 特許庁
When an input signal Sin changes from a high level to a low level, the impedance of an n-type MOS transistor MN11 is decreased attended with increase in a current I3, and a voltage at an output node Nout is decreased.例文帳に追加
入力信号Sinがハイレベルからローレベルへ変化する場合、電流I3の増加に伴ってn型MOSトランジスタMN11のインピーダンスが減少し、出力ノードNoutの電圧は低下する。 - 特許庁
The membrane has an Si layer 20 having a (100) plane as its principal surface which is provided as a membrane main-body layer, an SiN layer 22 provided on the Si layer which is provided as a membrane supporting layer, and opening portions 24.例文帳に追加
メンブレンは、メンブレン本体層として設けられた(100)面を主面とするSi層20と、メンブレン支持層としてSi層上に設けられたSiN層22と、開口部24とを備える。 - 特許庁
When a radius of the inner fixed electrode 5 is made to R1, a radius of the inner rotation electrode 4 is made to R2 and the number of the inner rotation electrode is made to n, it satisfies a relationship of (R1+R2)×sin(π/n)<R2.例文帳に追加
内部固定電極5の半径をR1,内側回転電極4の半径をR2,内側回転電極の数をnとした時、(R1+R2)×sin(π/n)<R2の関係を満たすようにする。 - 特許庁
The switching control part 36 generates the control signal DB for selecting a pair of third and fourth differential amplifiers 34 and 35 in the case of the input signal Sin of a second frequency f2.例文帳に追加
また、切替制御部36は、第2の周波数f2の入力信号Sinのときには、第3及び第4差動増幅器34,35の対を選択するための制御信号DBを生成する。 - 特許庁
To secure the coherency between heat generating electronic components and a heat sink, and at the same time to separate a soldering process from a heat sink assembly one in a heat sin device used for various electronic equipment.例文帳に追加
各種電気機器に使用される放熱板装置において、発熱電子部品と放熱板の密着性を確保しつつ、半田付け工程と放熱板組み立て工程を分離すること目的とする。 - 特許庁
A clocking start signal SIN is inputted to a path switching means 2, controlled by an external/refresh operation-operation start request signal REQ (O)/(I), and connected to first or second clocking section 3, 4.例文帳に追加
計時開始信号SINが経路切り換え手段2に入力され、外部アクセス/リフレッシュ動作開始要求信号REQ(O)/(I)により制御されて第1又は第2計時部3、4に接続される。 - 特許庁
A counter part 12 counts the phase difference signal by clock signal and supplies the data corresponding to the phase difference to the next step through a numerical arithmetic part 13 as the address signal of a sin-cos table 14.例文帳に追加
計数部12は、この位相差信号をクロック信号でカウント、この位相差に対応するデータを数値演算部13を介して、次にsin−cosテーブル14のアドレス信号として供給する。 - 特許庁
The detected frequency error is given to a SIN/COS generator 62, from which correction data for correcting fixed phase errors of a symbol due to carrier frequency error and a guard interval period are generated.例文帳に追加
検出された周波数誤差はSIN/COS発生器62に入力され、キャリアの周波数誤差とガードインタバル期間とに起因するシンボルの固定位相誤差を補正する補正データが発生される。 - 特許庁
In the delay interference device 6, an interference pulse light S6a is formed from the output pulse light S3 and interference pulse light S6b of the logic opposite to that of an input pulse light SIN from the clock pulse light S10 is formed.例文帳に追加
遅延干渉器6で、出力パルス光S_3から干渉パルス光S_6aを生成すると共に、クロックパルス光S_10から入力パルス光S_INとは逆論理の干渉パルス光S_6bを生成する。 - 特許庁
The more formal name for the 'kokubunji' was 'konkomyo-shitenno-gokoku no tera' (meaning 'temples for the protection of the country by the four guardian deities of the golden light') and the more formal name for the 'kokubunniji' was 'hokke-metsuzai no tera' (meaning 'nunneries for eliminating sin by means of the Lotus Sutra'). 例文帳に追加
正式名称は、国分寺が金光明四天王護国之寺(こんこうみょうしてんのうごこくのてら)、国分尼寺が法華滅罪之寺(ほっけめつざいのてら)である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In his letter to Kimitada SANJO in 1384, Emperor Goenyu wrote '執奏之下,無沙汰者,可為公家御咎也' and lamented the situation that not to obey the bukeshisso led to court nobles' sin. 例文帳に追加
永徳元年(1384年)に後円融天皇が三条公忠に充てた書簡の中で「執奏之下、無沙汰者、可為公家御咎也」と記し、武家執奏に従わないことは公家の咎になる現状を嘆いている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
During the invasion by the Japanese navy (Jinshin waran, or Bunroku and Keicho War in Korea on Japan's side) that started in 1592, the left naval commander in Jeolla Province Yi Sun-sin organized and led the fleet consisting of Turtle ships that were reportedly invented by Yi himself. 例文帳に追加
1592年に始まる日本軍の侵攻(壬辰倭乱、日本でいう文禄・慶長の役)では全羅左水使李舜臣が自ら考案したと言われる亀甲船の艦隊を率いた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
However, the Korean navy lost naval supremacy after the west coast of Jeolla Province was conquered and Yi Sun-sin also retreated to the northern border of Jeolla Province and the Japanese navy advanced to the west coast of Jeolla Province. 例文帳に追加
しかし、日本軍により全羅道西岸が制圧されると朝鮮水軍は制海権を失い、李舜臣も全羅道北端まで後退し、日本水軍は全羅道西岸まで進出した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Shimazu clan's navy had a hard time in the Naval Battle of Noryang, but on the side of Ming and Korea, multiple top officials including the adjutant general of the navy of Ming and Yi Sun-sin, who was the Naval Commander of Three Provinces of the navy of Korea died in this war. 例文帳に追加
この露梁海戦で島津水軍は苦戦したが、明・朝鮮も明水軍の副将、や朝鮮水軍の三道水軍統制使の李舜臣を含む複数の幹部が戦死した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
The semiconductor laser element is installed between SiN layers formed on a p-type layer via a heat sink layer and a solder layer (approximately 4 μm in layer thickness), in addition to a Ti layer and Au layer.例文帳に追加
半導体レーザ素子は、p型層上に形成されたSiN膜との間に、Ti層およびAu層に加えてヒートシンク層およびはんだ層(層厚4μm程度)を介して載置されている。 - 特許庁
In a method for manufacturing a semiconductor device, the brittle BGTBAS-SiN film 11 is removed before a stage wherein the semiconductor substrate 1 is fixed or conveyed by the electrostatic chuck, vacuum chuck, etc.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は静電チャック、真空チャックなどで半導体基板1を固定もしくは搬送する工程の前に脆弱なBTBAS−SiN膜11を除去する。 - 特許庁
A first thin film 25 composed of Al, an intermediate film 26 composed of SiN and a second thin film 27 composed of Al are formed on an output surface of a solid immersion lens 15 composed of material having high refractive index.例文帳に追加
高屈折率物質からなる固浸レンズ15の出射平面に、Alからなる第1の薄膜25と、SiNからなる中間膜26と、Alからなる第2の薄膜27とを設けた。 - 特許庁
so Christ also, having been offered once to bear the sins of many, will appear a second time, without sin, to those who are eagerly waiting for him for salvation. 例文帳に追加
そのようにキリストも,多くの人たちの罪を担うためにただ一度だけささげられたのち,二度目には,罪とは関係なく,彼をひたすら待っている人たちに救いをもたらすために現われることになっています。 - 電網聖書『ヘブライ人への手紙 9:28』
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