「subsequent process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a mark structure capable of being utilized as an alignment mark in subsequent processes on a semiconductor film during the same exposure process in a process for obtaining a semiconductor of a large particle size crystal phase from a semiconductor film.例文帳に追加

半導体膜から粒径の大きな結晶相の半導体を得る工程において、以降の工程で、アライメントマークとして利用可能なマーク構造を、同一の露光工程において半導体膜に形成する。 - 特許庁

A finisher body 3 as the shell of the finisher F is formed by extrusion molding from aluminum alloy, and the external surface with hairlines HL is subjected to an anodic oxidation coating process and a subsequent coloring process.例文帳に追加

フィニッシャーＦの外殻をなすフィニッシャー本体３をアルミニウム合金の押出し成形により形成して、そのヘアラインＨＬを有する外表面に陽極酸化皮膜処理と、その後の着色処理を施した。 - 特許庁

To provide a reflectively backed photosensitive element which reduces small defects, enhances production yield in patterning process and in subsequent process of the reflectively backed photosensitive resin layer, and improves reliability of parts.例文帳に追加

微小欠陥を低減させ、反射下地感光性樹脂層のパターニング工程やその後工程での製造歩留りを向上させ、部品の信頼性を向上することができる反射下地感光性エレメントを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can reduce the number of times of exposure processing in an element isolation process applying CMP and subsequent process of poly-Si deposition.例文帳に追加

ＣＭＰを適用した素子分離工程ならびにその後のｐｏｌｙ−Ｓｉデポジションまでの工程における露光工程の回数を低減することを可能とする半導体装置の製造方法を実現することにある。 - 特許庁

To provide a method for operating a thermal treatment apparatus which restricts germanium contamination in a subsequent deposition process when, after a germanium-containing thin film is deposited, a thin film deposition process where germanium could be a contaminant follows.例文帳に追加

ゲルマニウムを含む薄膜の成膜処理をした後に、ゲルマニウムが汚染物質となる薄膜を成膜処理する場合に、後の成膜処理におけるゲルマニウム汚染を抑える熱処理装置の運転方法を提供する。 - 特許庁

External auditors should note that if they, as is generally expected, have already identified significant subsequent events in the process of the Financial Statement Audit, they may accordingly use such audit evidence obtained in the Financial Statement Audit with respect to the significant subsequent events. 例文帳に追加

ただし、監査人は、財務諸表監査の実施過程において、重要な後発事象の把握を行っていると考えられ、その場合には、財務諸表監査の実施過程で得られた重要な後発事象に関する監査証拠を、適宜、利用することに留意する。 - 金融庁

To suppress transfer failure in subsequent recording cycles by reducing temperature differences that are different in locations of an intermediate transfer medium generated in a heating process.例文帳に追加

加熱プロセスで生じる中間転写体の場所によって異なる温度差を減らすことで、以降の記録サイクルにおいて転写不良が発生することを抑制する。 - 特許庁

The process comprises the syntheses of a single-stranded RNA, a single-stranded DNA and a double-stranded DNA, and the subsequent detection of an objective nucleic acid sequence by using an electrochemilumiluminescent labeled binding species.例文帳に追加

本方法は一本鎖ＲＮＡ、一本鎖ＤＮＡ、二本鎖ＤＮＡを合成し、次いで電気化学ルミネッセント標識結合種を用いて検出することを含む。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can control an operation of a processor in accordance with a speed of a subsequent stage process to maintain a speed of data processing properly, while reducing a consumption power.例文帳に追加

画像形成装置において、後段の処理の速度に合わせてプロセッサーの動作を制御してデータ処理の速度を適切にしつつ消費電力を低減させる。 - 特許庁

To perform an electric conduction inspection just after a flexible wiring board is connected with a plasma display panel without lighting up the plasma display panel to send only passed items to a subsequent process.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにフレキシブル配線基板を接続した後、プラズマディスプレイパネルを点灯することなく、導通検査を直ちにおこない、良品のみを後工程に流す。 - 特許庁

After that, a subsequent manufacturing process, where the light-emitting diode chip is cut for producing a plurality of light-emitting diode sticks, is performed to form a plurality of light-emitting diode devices.例文帳に追加

その後更に、発光ダイオードチップをカットして複数の発光ダイオードスティックを作った後続の製造工程を行い複数の発光ダイオードデバイスを形成する。 - 特許庁

The thin layer also protects the low dielectric constant film from the subsequent wet cleaning process and penetration by a precursor of a layer subsequently laminated on the low dielectric constant film 102.例文帳に追加

薄層は、また、続いての湿式洗浄プロセスと、低誘電率膜上に続いて堆積される層の前駆物質による浸透から低誘電率膜を保護する。 - 特許庁

In this case, for subsequent data, a setting means skips setting of the processing conditions which a printing means uses for the printing process performed based on the print setting information.例文帳に追加

この場合、後続のデータについては、設定手段が印刷設定情報を基に行う印刷手段が印刷処理で使用する処理条件の設定が省略される。 - 特許庁

To solve so-called "processing failures" in case such processing failures occur during an image display processing process without making a frame itself in a non-display state and to prevent subsequent processing failures from occurring.例文帳に追加

画像表示処理中にいわゆる「処理落ち」が発生した場合に、フレーム自体を非表示とすることなくこれを解消させるとともに以後の処理落ちを予防する。 - 特許庁

To collect articles to facilitate subsequent work, when pushing out the plurality of articles individually held in buckets of a bucket conveyor and sending the articles to the next process.例文帳に追加

バケットコンベアのバケットに個別保持された物品を複数個ずつ押し出して次工程へ送り出すに際し、次の作業がやりやすい形に物品をまとめられるようにする。 - 特許庁

Clearly, it only makes sense to start it in the parent process of your X session if you want to use the set of decrypted private keys in all subsequent X applications.例文帳に追加

その通り、すべてのその後のXアプリケーションで解読された秘密鍵のセットを使用したいと思う場合にだけ、それはXセッションの親プロセスで起動するという意味になります。 - Gentoo Linux

A silane passivation process, carried out in-situ together with the formation of a subsequent dielectric film, converts the exposed Cu surfaces of the Cu interconnect structure, to copper silicide.例文帳に追加

その後の誘電体フィルムの形成とともに原位置に実行されるシラン・パッシベーション・プロセスは、Ｃｕ相互接続構造の露出したＣｕ表面をケイ化銅に転化する。 - 特許庁

The manufacturing device of a semiconductor device curvedly molds outer leads 12 of a lead frame subsequent to a sealing process at one stroke and has a metal mold to be cut.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造装置は、封止工程後のリードフレームのアウターリード１２を、１ストロークで曲げ成形し、かつ、切断する金型を有する。 - 特許庁

For each prescribed cycle, the adder 74 adds a deflection detected signal and the integral value subsequent to the centering process to store the added value in the integral register 75 as a new integral value.例文帳に追加

加算器７４は、振れ検出信号とセンタリング処理後の積分値とを規定周期毎に加算して、この値を新たな積分値として積分レジスタ７５に記憶させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an image sensor which can prevent damage on hard micro lenses in a subsequent process such as packaging and bumping by forming the lenses with an inorganic matter.例文帳に追加

無機物でハードマイクロレンズを形成することで、後続のパッケージング及びバンピングなどの工程によるマイクロレンズの損傷を防止できるイメージセンサの製造方法とする。 - 特許庁

In a subsequent heating processing process, the crystalline semiconductor film, where the occurrence of crystal core can be suppressed and crystal particles with large particle sizes are gathered can be obtained.例文帳に追加

その後の加熱処理工程において、結晶核の発生を抑制することができ、粒径の大きな結晶粒が集まった結晶質半導体膜を得ることができる。 - 特許庁

By performing the heat aging at a stage of a completed product, a frequency change upon flow soldering at a subsequent process is made small, and a frequency is promptly made stable.例文帳に追加

完成品の段階で熱エージングを実施することで、後工程でフロー半田を行う際の周波数変化を小さくし、かつ周波数を素早く安定させる。 - 特許庁

An identification part 2 identifies the object displayed on the display screen to judge a characteristic point marking an outline of the object so that it is a target of a subsequent process.例文帳に追加

識別部２は、表示画面上に表示されているオブジェクトを識別して該オブジェクトの輪郭を画する特徴点をこの後の処理の対象とするよう判断する。 - 特許庁

In the same process as this cutting process or in a subsequent process to this, a part of the front and rear faces 40b, 40b side continuing from the cutting face 40a out of the electrolyte membrane 21 is exposed to the front and rear face 40b, 40b side by removing the catalyst layer 42 formed on that one part.例文帳に追加

この膜切断工程と同時あるいはそれよりも後の工程で、電解質膜２１のうちその切断面４０ａに連なる表裏面４０ｂ，４０ｂ側の一部を、該一部の上に形成された触媒層４２を除去することにより、表裏面４０ｂ，４０ｂ側に露出させる。 - 特許庁

When starting the jackpot game, the main CPU, in a subsequent interrupt handling, interrupts to count variation times in the process of the special symbols 1 and the process of the special symbols 2 while executes the process during varying the special symbols even in the interruption.例文帳に追加

そして、メインＣＰＵは、大当り遊技を開始させた場合に、以降のタイマ割込み処理では特別図柄１処理と、前記特別図柄２処理において変動時間のカウントを中断させる一方で、当該中断中であっても特別図柄変動中処理は実行させる。 - 特許庁

To provide a recording medium cartridge in which the information about the manufacturing process, process trace in the future, countermeasures against claims, etc., are made available by making the state during the produc tion of the recording medium cartridge recordable and recording the detailed information on the subsequent manufacturing process.例文帳に追加

記録媒体カートリッジの生産時の状況を記録可能とし、その後の生産工程の詳細の情報を記録しておくことにより、生産工程内においてはもちろんのこと、後日の工程追跡，クレーム対策などにもこの情報を利用可能とする記録媒体カートリッジを提供すること。 - 特許庁

A top face and a side face of a light semitransmitting film 2 comprising a material containing at least silicon atoms and nitrogen atoms deposited on a transparent substrate 3 is subjected to a contact process with silylation agent and a subsequent oxidation process to form a modified layer 5 in the manufacturing process of a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの製造過程において、透明基板３上に設けられた珪素原子と窒素原子を少なくとも含む材料からなる光半透過膜２の上面や側断面に対し、シリル化剤による接触処理およびそれに続く酸化処理を施して変質層５を形成する。 - 特許庁

The methane fermentation method of organic waste includes: a process of treating the organic waste A with subcritical water in a closed treatment container 22; a subsequent process of evacuating and dehydrating subcritical water treated material in the compressed state to obtain dehydrated material; and a process of charging the dehydrated material C into a methane fermentation tank 23 to perform methane fermentation.例文帳に追加

有機性廃棄物Ａを密閉された処理容器２２中で亜臨界水により処理した後、加圧状態である亜臨界水処理物を減圧させることで脱水させて脱水処理物を得、この脱水処理物Ｃをメタン発酵処理槽２３に投入してメタン発酵させる。 - 特許庁

Thus, in the subsequent process to the patterning process, the two-dimensional bar codes 21, 22 are imaged, the manufacturing conditions are read from the obtained image, and the manufacturing process is performed according to the read manufacturing conditions, so that a mistake in setting the manufacturing conditions by a worker is reduced.例文帳に追加

これにより、パターニング工程の後の工程では、二次元バーコード２１、２２を撮像し、得られた画像から製造条件を読み出し、読み出した製造条件に従って製造工程を実施することができ、作業者による製造条件の設定ミスを低減すること可能になる。 - 特許庁

The method for producing the propolis preparation, comprising a process for mixing a propolis solution with a chitosan solution in the presence of a surfactant to prepare the mixture liquid, a process for adding the mixture to an oil phase to form the emulsion, and a subsequent process for distilling away the solvents from the emulsion.例文帳に追加

このプロポリス製剤の製造は、プロポリス溶液とキトサン溶液とを界面活性剤の存在下で混合して混合液を調製する工程、その混合液を油相に添加してエマルジョンを形成する工程、そのエマルジョンから溶媒を留去する工程を順に経て行われる。 - 特許庁

To provide a coating and developing device which calculates a first time period (PCD time period), etc. from completion of the coating process of a resist by a coating unit to start of a heating process by a first heating unit in a subsequent process, without processing a substrate actually, and can predict variations of a circuit line width, etc.例文帳に追加

実際に塗布、現像装置にて基板を処理することなく、塗布ユニットでのレジストの塗布処理が終了してから次工程の第１の加熱ユニットにて加熱処理が開始されるまでの第１の時間（ＰＣＤ時間）時間等を演算して、回路線幅等のバラツキを予測すること。 - 特許庁

To reduce the amount of an alkali required in a subsequent dehydrochlorination process and the amount of water and a salt formed in the dehydrochlorination process by efficiently recovering hydrogen chloride from the resulting reaction mixture in the process of producing dichlorohydrin by way of chlorinating glycerin.例文帳に追加

本発明はグリセリンを塩素化することによるジクロロヒドリンの製造において、得られる反応混合物から塩化水素を効率的に回収することにより、その後の脱塩化水素化工程で必要となる塩基の量、更に脱塩化水素化工程で生成する水、塩の量を低減させることである。 - 特許庁

Next, the decryptor module outputs a decrypted code CD2[2] by performing a two-stage pipeline process to CD'2, and the decryptor module outputs a decrypted code CD3[3] by performing a three-stage pipeline process to CD'3 (and subsequent codes).例文帳に追加

次いで、ＣＤ’２に対しては、２段分のパイプライン処理を行って復号化コードＣＤ２［２］を出力し、ＣＤ’３（それ以降も同様）に対しては、３段分のパイプライン処理を行って復号化コードＣＤ３［３］を出力する。 - 特許庁

This allows prevention of the malfunction due to the increasing discharge voltage, assessment of the malfunction due to the increasing discharge voltage in the manufacturing process, and prevention of transfer of a defective into a subsequent process.例文帳に追加

これによって放電電圧の上昇による不具合を防止し、また、製造工程中において放電電圧上昇による不具合を評価することが出来、不良品が後工程に流れることを防止することが出来る。 - 特許庁

To provide a device and a method for removing a semiconductor wafer projection even if it is formed in an outer peripheral portion, wherein the projection is removed so as not to cause any obstacle to a subsequent process such as an expanding process.例文帳に追加

外縁部に凸部を有するウェハであっても、この凸部を除去することで、後に行われるエキスパンド工程等で支障を来たさないようにできる半導体ウェハの凸部除去装置および除去方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a beveling method that can prevent chipping arising on or near the crossed line of the rear and side of a GaP wafer in a beveling process and reduces GaP wafer cracks in the beveling process and the subsequent.例文帳に追加

ベベリング工程で、ＧａＰウェーハの裏面と側面との交線の上に、あるいはその近辺に発生するチッピングが防止でき、従って、ベベリング工程以後の工程におけるＧａＰウェーハの割れを低減できるベベリング方法を提供する。 - 特許庁

The transition determination processing part 104 specifies a process that is pre-assumed to be underway and a subsequent process, and determines the transition of the processes based on increase/decrease of access number for the access destinations corresponding to the processes.例文帳に追加

移行判定処理部１０４は、進行中であると予め仮定された工程およびその次に開始される工程を特定し、これらの工程に対応するアクセス先のアクセス数の増減に基づいて、工程の移行を判定する。 - 特許庁

To provide a mask for conductive film patterning, by which the process can be shortened, appearance defects such as flaw, blot and spark mark can be prevented, productivity can be greatly improved, and accordingly, usability in the subsequent process and durability during use can be improved remarkably.例文帳に追加

工程を短かくでき、キズ、滲み、スパーク跡などの外観欠点がなく、生産性が著しく優れ、したがって後工程での使い易さや、使用時の耐久性を著しく改良した導電膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁

Its method includes a process to expose a portion of the base semiconductor layer removed by etching a portion of an uppermost layer of the semiconductor layers, and a subsequent process to grow a semiconductor on the exposed portion of the base layer.例文帳に追加

その方法は、半導体層の最上部層の一部分をエッチング除去して、ベース半導体層の一部分を露出させる工程と、次いでベース層の露出させた部分上に半導体を成長させる工程とを含む。 - 特許庁

When the data for use in the positioning process are received from a base station 200 in the execution of the positioning process of the GPS receiver 100 alone, the GPS receiver 100 discriminates the data for use in the positioning from the received data according to the progress condition of the process until then, and performs the subsequent positioning process using the discriminated data.例文帳に追加

ＧＰＳ受信機１００単独による測位処理の実行中に、基地局２００から測位処理に用いられるデータを受信した場合、ＧＰＳ受信機１００では、それまでの処理の進行状況に応じて、受信したデータの中から測位に用いるデータを判別し、この判別したデータを用いてその後の測位処理を行う。 - 特許庁

To make magnetic elements among resin magnetic materials comprising a rotating body portion anisotropic so as to place them in uniform alignment in predetermined direction, and allow them to be magnetized in subsequent magnetizing process.例文帳に追加

回転本体部を構成する樹脂磁性材料中の磁性体を所定方向に均一に整列させるよう異方化し、後の着磁工程において効率的に着磁可能とする。 - 特許庁

By forming the mask layer 53 using the exposure mask 30, the inversion pattern in the inversion gate layer 32 which is obtained in a subsequent process also has curved portions in corners 32e.例文帳に追加

この露光マスク３０を用いてマスク層５３を形成すると、後の工程において得られる反転ゲート層３２における反転パターンの角部３２ｅも曲部を有することとなる。 - 特許庁

To provide a thermopile infrared sensor capable of detecting a defect in a wafered condition such as short-circuiting of a wiring to prevent delivery to a subsequent process, and a method of inspecting with the sensor.例文帳に追加

配線のショート等の不良をウェハ状態で検出して後工程に流出することを防ぐことができるサーモパイル式赤外線センサおよびその検査方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of dislocation between a crease and a processed position even if there are various kinds of sheet sizes when sheet position references between a subsequent folding process and a creasing device are different.例文帳に追加

後工程である折り処理での用紙位置基準と筋付け装置の用紙位置基準が異なる場合、用紙サイズにバラつきがあっても、筋と折り処理位置のズレの発生を防ぐ。 - 特許庁

To solve the problem easy to generate bench cut of a subsequent pixel electrode and contact unstability in a contact forming process in five mask processes and four mask processes, when using an aluminum layer for source/drain wiring.例文帳に追加

ソース・ドレイン配線にアルミニウム層を用いると、５枚マスク・プロセスと４枚マスク・プロセスにおいてコンタクト形成工程では後続の絵素電極の段切れやコンタクト不安定が発生し易い。 - 特許庁