「subsequent process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a single-crystal 3C-SiC substrate with which it is possible to greatly reduce surface defects generated during epitaxial growth process and thereby simplify subsequent steps while ensuring quality as a semiconductor device.例文帳に追加

エピタキシャル成長過程において発生する表面欠陥を大幅に減少させることができ、後工程を簡略化しながら半導体デバイスとしての品質を確保できる単結晶３Ｃ−ＳｉＣ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor element in which the process time can be shortened by performing a series of pretreatment steps for depositing a subsequent film after making contact holes on a semiconductor substrate in a clustered plasma system.例文帳に追加

半導体基板上にコンタクトホールを形成した後、後続膜を蒸着するまでの一連の前処理工程をクラスター化されたプラズマ装置で行うことによって工程時間を短縮できる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent composition for a silicon wafer, having good cleaning performance to coolants, abrasive-grains or silicon powders and also being capable of making a wafer surface allowing formation of good texture in a subsequent etching process.例文帳に追加

クーラント、砥粒、あるいはシリコン粉に対する優れた洗浄性能を有し、かつ、その後のエッチング工程において良好なテクスチャーを形成することができるウェハ表面を作り上げることができるシリコンウェハ用表面処理剤組成物を提供する。 - 特許庁

A load reducing means to reduce the load added to the carrying of the image recording mediums is provided on a carrying means for carrying the image recording mediums from this surface treatment device to a subsequent process to be accompanied by fluctuation of the carrying load of the image recording mediums.例文帳に追加

表面処理装置から、媒体搬送の負荷変動を伴う次工程に画像記録媒体を搬送する搬送手段に、画像記録媒体の搬送にかかる負荷を軽減する負荷軽減手段を設けることにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A strip-shaped tread rubber 1 extruded from an extruder 11 and also cut in a prescribed measure without being cooled forcibly is pressed against pins 3 on a heat-resistant tray 2 with the pins 3, in a state of the pins being made to stick into it, and supplied to a subsequent process.例文帳に追加

押出機１１から押出するとともに、強制冷却することなく定尺切断した帯状トレッドゴム１を、針３付き耐熱性のトレー２上の針３に食い込ませた状態で押し付けて、次工程へと供給する。 - 特許庁

A plurality of works W_1 are retained by a concave recessed plate 1 and brought into contact with a fine grinding tool 3 to perform direct fine grinding, by which the grinding generation of a concave spherical face and the subsequent fine grinding of the spherical face are carried out by one process.例文帳に追加

ワークＷ_1 を複数個凹形状のリセス皿１に保持させて精研削工具３に当接し、直接精研削加工を行なうことで、凹形状球面の研削創成と、これに続く球面の精研削加工を一工程で行なう。 - 特許庁

Furthermore, a pressure information in the arc-chamber 12a during a conduction heating is measured by an ion gage provided in a chamber which is arranged in a subsequent process of the ion source and connected with the arc-chamber 12a, and a conduction heating and degassing status is monitored.例文帳に追加

又、通電加熱中のアークチャンバ１２ａ内の圧力の情報を、イオン源の後工程に配置される、アークチャンバ１２ａと連通するチャンバに設けられるイオンゲージを用いて計測することにより、通電加熱、デガス状態を監視する。 - 特許庁

To enable prevention of damage due to MAP (magnesium ammonium phosphate) scale deposition in a digestion tank or a digested sludge transfer pipe, and improvement of phosphorus recovery rate in the subsequent phosphorus recovery process by controlling a pH value during digestion treatment.例文帳に追加

消化処理におけるｐＨ値を制御することによって、消化槽あるいは消化汚泥移送管のＭＡＰスケール析出による被害をこうむることなく、また、後段のりん回収工程におけるりん回収率を向上させることができる。 - 特許庁

To heighten the efficiency of business by easily executing a series of process creation of a bill for payment asked for purchasing of a product and its subsequent maintenance services to confirmation of following payment to the bill.例文帳に追加

製品の購入からその後の保守サービスに対して発生する請求について、その請求に対する請求書の作成からその後の請求書に対する入金の確認までの一連の処理を容易に実行でき、事業の効率化を図る。 - 特許庁

An amorphous semiconductor film is once molten and when performing crystallization in a subsequent process, a magnetic field is applied to the surface or zone of the molten film with the principal aim of controlling the Marangoni convection in a surface of the molten film.例文帳に追加

非晶質半導体膜を一旦溶融して、その後の冷却過程で結晶化するに際し、その溶融表面のマランゴニ対流を制御することを主たる目的として、溶融表面又は溶融帯に磁場を印加することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which can transform an electrical signal including any of a linear region and a logarithmic region into a signal which can be easily processed in a processing circuit in the subsequent stage, without providing a circuit for performing an operation process separately.例文帳に追加

演算処理を行う回路を別途設けることなく、線形領域及び対数領域のいずれをも含む電気信号を後段の処理回路において処理が容易な信号に変換することを可能とする撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing agent for an elastic fiber, capable of reducing a scattered amount of the processing agent, when the elastic fiber is oiled by the processing agent or in a subsequent process, and capable of decreasing a difference of an amount of the processing agent adhered to an outer layer of a cheese from an amount adhered to an inner layer thereof.例文帳に追加

弾性繊維に処理剤をオイリングする際、もしくはその後の工程における、油剤の飛散量を減少させることを可能とし、チーズの外層と内層での油剤の付着量の差が小さい油剤を提供する。 - 特許庁

The rice polishing apparatus comprising a rice polisher and an elevator that vertically conveys rice particles discharged from the rice polisher to a subsequent process is characterized by having a residual-rice discharger disposed in the bottom section of the elevator and activated and controlled by a controlling unit so as to pneumatically discharge residual rice from the elevator.例文帳に追加

精米機から排出された米粒を後工程に垂直搬送する昇降機の底部に、空気を用いて残留米を機外に排出するように制御部によって駆動制御される残米排出装置を配設する。 - 特許庁

More specifically, it is possible to reduce HCB content to several hundreds ppm (one company actually reduced it to 500-900ppm) by controlling temperatures in the manufacturing process, and a further reduction by the subsequent adoption of recrystallization refinement is considered to make it possible to further lower HCB concentration to at least 200ppm or less. 例文帳に追加

すなわち、まず、製造プロセスの温度管理等で数百 ppm（ある社の実績で 500～900ppm）程度まで低下が可能であり、さらに、その後の再結晶精製により低減化を行うことにより、少なくとも 200ppm以下は達成可能と考えられる。 - 経済産業省

To provide a method for manufacturing semiconductor devices by which harmful effects due to residues of deteriorated layer formed in a metal film during a wet etching process on subsequent processes and on device characteristics can be reduced, and high-quality semiconductor devices can be stably manufactured when it has a process for wet etching the metal film and a process for dry etching the metal film afterward.例文帳に追加

金属膜をウエットエッチングする工程と、この後、この金属膜をドライエッチングする工程を有する場合において、ウエットエッチング工程において金属膜に形成された変質層の残渣に起因する以後の工程に与える悪影響及びデバイス特性に与える悪影響を軽減することができ、良質な半導体装置を安定的に製造することのできる半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable effectively preventing mutual diffusion in the components between the gate electrodes of n- and p-type transistors in a gate electrode formation process and the subsequent heat treatment process for the method for manufacturing the semiconductor device having a wiring layer substituted for metal and metal silicide.例文帳に追加

金属や金属シリサイドに置換した配線層を有する半導体装置の製造方法に関し、ゲート電極形成過程及びその後の熱処理工程において、Ｎ型トランジスタのゲート電極とＰ型トランジスタのゲート電極との間における構成材料の相互拡散を効果的に防止しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer and a production method thereof capable of effectively inhibiting diffusion of heavy metal from a back face of the silicon wafer to a device active region while keeping a good deflective strength by applying predetermined surface treatment during a subsequent process of a semiconductor device process for forming a device structure to provide a gettering sink layer.例文帳に追加

デバイス構造を形成した半導体デバイスプロセスの後工程において、所定の表面処理を施して、ゲッタリングシンク層を設けることにより、良好な抗折強度を維持しつつ、シリコンウェーハ裏面からデバイス活性領域への重金属の拡散を有効に抑制することができる、シリコンウェーハ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method and apparatus for monitoring during a dynamic process determine when effective measurements of thermal effusivity and/or thermal conductivity are made during a part of a cycle during a calibration stage, then measure thermal effusivity and/or thermal conductivity during a subsequent dynamic process in dependence upon a time delay value and a measurement duration value until a desired value is obtained.例文帳に追加

動的プロセス中にモニタする方法及び装置は、熱浸透率及び／又は熱伝導率の効率的な測定が較正段階のサイクルの一部でいつ行われたかを判定し、所望の値が獲得されるまで時間遅延値及び測定持続値に基づいて次の動的プロセス中に熱透過率及び／又は熱伝導率を測定する。 - 特許庁

To reliably discriminate a main surface of a magnetic disk substrate, where a defect is detected in a magnetic recording layer in the defect inspection of a process for manufacturing the magnetic disk substrate, in a subsequent film-forming process, and to reduce costs by preventing the use of an expensive material for a substrate surface obviously not to be used as a recording surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。 - 特許庁

The method for bonding by an epoxy adhesive film includes a heating process wherein the film is sandwiched between the two bondable surfaces of object bodies and then subjected to heating or heating and pressing and a subsequent removing process wherein the part of the film not requiring bonding and/or the part of the film melted and forced out of the bonded surfaces are subjected to etching.例文帳に追加

エポキシ接着フィルムを被着体の二つの接着面間に挟み、加熱または加熱および加圧する加熱工程と、前記加熱工程の後に、エポキシ接着フィルムのうち接着が不要な部分および溶融して接着面からはみ出した部分の少なくとも一方をエッチングする除去工程とを含むエポキシ接着フィルムによる接着方法。 - 特許庁

When a request for reading or writing of data to or from a memory of a process cartridge by each of colors arises, a CPU of a color image forming apparatus system body tries subsequent accesses to the process cartridges (S1) to acquire the usage counts of the cartridges and performs setting of communication sequences in order from the cartridges of the higher usage counts by comparing the acquired frequencies (S2).例文帳に追加

カラー画像形成装置系本体のＣＰＵは色ごとのプロセスカートリッジのメモリに対するデータ読み取りまたは書き込み要求が発生すると、プロセスカートリッジに順次アクセスし（Ｓ１）、当該カートリッジの使用回数を取得し、取得した回数の比較を行って使用回数の多いカートリッジから順番に通信順の設定を行う（Ｓ２）。 - 特許庁

Fabrication process is simplified by forming a Co silicide layer 20 simultaneously on the surface of the gate electrode 7B, source, and drain (n^+-type semiconductor region 16) of an MISFET constituting a logic LSI, and on the surface of a polysilicon film 7 becoming the gate electrode of an MISFET for selecting the memory cell of a DRAM in a subsequent process.例文帳に追加

ロジックＬＳＩを構成するＭＩＳＦＥＴのゲート電極７Ｂ、ソース、ドレイン（ｎ^＋型半導体領域１６）のそれぞれの表面と、後の工程でＤＲＡＭのメモリセル選択用ＭＩＳＦＥＴのゲート電極となる多結晶シリコン膜７の表面とにＣｏシリサイド層２０を同時に形成することによって、製造プロセスの簡略化を実現する。 - 特許庁

To improve throughput and reduce costs by preventing a qualified wafer from being erroneously determined to be unacceptable, when it is determined whether or not the wafer can be forwarded to a subsequent process based on the results of measurements made as to a resist pattern formed during a lithography process.例文帳に追加

リソグラフィ処理により形成されたレジストパターンについての測定結果に基づいて次の工程に進めてよいか否かの合否判定を行う際に、品質的に問題ないウェーハを不合格と判定することを防止して、スループットの向上とコストの低下を実現する半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for cleaning a needle capable of enhancing drying by blowing a cleaning solution adhered to the needle 2 without using a contact material and the like and preventing the cleaning solution from contaminating a sample solution when sucking it at a subsequent process.例文帳に追加

ニードル２に付着した洗浄液を接触物質等を用いることなく吹き飛ばして乾燥を促進させることができ、次工程における吸入時に洗浄液が試液内に混入してしまうことを防止することができるニードル洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The wafer identification information is acquired by detecting the displacement amount in the reference layer when the correction amount is determined through wafer alignment treatment in the exposure process for forming the patterns of the first hierarchy and the subsequent on the wafer, and by being based on the detected result.例文帳に追加

ウエハ識別情報は、ウエハ上に形成される第一階層以降のパターンを形成する露光工程において、前記ウエハの位置合わせ処理で補正量を求める際に、基準層でのずらし量を検出し、検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

The rim cross section of a substrate cell is segmented into a first part where a cut line physically formed along the rim of the substrate cell is smoothened by a subsequent chemical polishing process and a second part that continues from the first part in the thickness direction to form a glass cut face.例文帳に追加

基板セルの周縁断面は、基板セルの周縁に沿って物理的に形成された切断線がその後の化学研磨処理によって滑面化された第１部と、第１部から板厚方向に連続してガラス割断面を形成する第２部とに区分される。 - 特許庁

When the finalizing process is executed on information recorded in a user data area of the recording medium, in a case where the amount of information recorded in the user data area is less than a predetermined value, dummy information is recorded subsequent to the recorded area such that its amount becomes the predetermined value or more.例文帳に追加

記録媒体のユーザデータエリアに記録された情報に対してファイナライズ処理を行う際に、ユーザデータエリアに記録されている情報量が、所定値を満たない場合には、所定値以上にするために、記録された領域に続いてダミー情報を記録する。 - 特許庁

To provide a quality control device for an envelope bag-making machine, which is capable of obtaining data for specifying factors of causing poor quality of envelopes, and further capable of notifying a subsequent process of the fact that the operation associated with the poor quality is caused in the envelope bag-making machine.例文帳に追加

封筒の品質不良の発生要因を特定するためのデータを得ることができ，更に，品質不良につながる動作が封筒製袋機で発生したことを後工程に通達することのできる封筒製袋機の品質管理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which reduces the fatigue due to the exposure to a large quantity of light and reduces the difference in chargeability of the photoreceptor between the first rotation of the photoreceptor conductor and the second and subsequent rotations even after repeated use and can form a good image from its first rotation, image-forming equipment, and a process cartridge.例文帳に追加

大光量露光による疲労が少なく、繰り返し使用後も感光体１回転目と２回転目以降の帯電性の差が少なく、一回転目から良好な画像を形成できる電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To process a perforating blade, a lead crease (cutlery where blades and scribe lines are repeated with a constant pitch) or a nick (a part where paper is not intentionally cut when cutting it is formed and cutting parts are temporarily connected and are cut in a subsequent step) at a Thomson blade with arbitrary depth and width.例文帳に追加

トムソン刃にミシン刃、リ−ド罫（刃と罫線が一定ピッチで繰り返されている刃物）あるいは、ニック（紙を切断時にわざと切断しない部分を作って一時的に切断部をつないでおいて後の行程で切断するもの）を任意の深さと幅で加工する。 - 特許庁

To provide a composition for metal surface treatment capable of depositing a surface-treated coating film having storage property, excellent corrosion resistance, and excellent deposition property on a coating film to be formed by the subsequent coating process, and a base metal having the surface-treated coating film.例文帳に追加

貯蔵性に優れ、そして耐食性に優れ且つ後の塗装工程によって形成される塗膜との付着性にも優れた表面処理皮膜を形成できる金属表面処理用組成物、並びに表面処理皮膜を有する金属基材を提供すること。 - 特許庁

To provide a pretreatment operating mechanism that is constituted by a simple mechanism, can efficiently weigh and store specimens, and can easily move specimen to a subsequent reaction process for making the specimen react with a reagent, and to provide a specimen storage cassette used for it.例文帳に追加

簡便な機構で構成して効率よく検体の秤量と保管ができ、かつ、次工程である検体を試薬と反応させる反応工程へ、検体の移設を容易におこなうことができる前処理操作機構とそれに用いる検体保管カセットとを提供する。 - 特許庁

And further, in the subsequent reaction process, the nucleic acid is released from the phase without complexity again and the nucleic acid is used, e.g., for restriction digestion, RT, PCR, or RT-PCR or in another analytical or enzymatic reaction.例文帳に追加

更に、その後の反応段階において、複雑さなしにこの相から核酸を再度リリースし、例えば、制限分解、ＲＴ、ＰＣＴ若しくはＲＴ−ＰＣＲのために、又は他のいずれかの上述した分析的-若しくは酵素的反応において核酸を使用する。 - 特許庁

According to the experiment of the inventors, it is found if the thick-film resistor 6 is fired at a temperature higher than the temperature of firing a glass insulating layer 2 which is formed thereon in contact therewith, this enables decrease of the change in the resistance in a subsequent high-temperature process of firing the glass insulating layers 2 to 4.例文帳に追加

本発明者らの実験によれば、厚膜抵抗６をそれに接するガラス絶縁層２よりも高温で焼成すれば、その後のガラス絶縁層２〜４の焼成などの高温工程による抵抗値変動を低減できることがわかった。 - 特許庁

To provide a dosage distributor capable of adjusting dosage material in a dosage distributing unit for a subsequent distribution process, specifically loosening the dosage material for prevention of clogging of the dosage distributing unit.例文帳に追加

分配工程の前に、分配工程のために、投与量分配ユニット内の投与材料を調整する能力を有し、具体的には投与材料をほぐし、それにより投与量分配ユニットの目詰まりを防止する能力を備える投与量分配装置を提供する - 特許庁

In this way, the ultraviolet backside irradiation step 22 in which the ultraviolet rays irradiation is applied from the glass surface GL of the array substrate AR is provided subsequent to the alignment layer forming step 21, thereby hybrid alignment and bend alignment are formed within a pixel without complicating the manufacturing process.例文帳に追加

このように、配向膜形成工程２１の後にアレイ基板ＡＲのガラス面ＧＬより紫外線照射を行うＵＶ裏面照射工程２２を具備することで、製造プロセスを複雑化させることなく画素内にハイブリッド配向とベンド配向を形成する。 - 特許庁

Accordingly, by forming the barrier metal film from a substance having large oxidation resistance, the oxidation of the barrier metal film during subsequent heat treatment process in the semiconductor device is prevented in an oxygen environment, and deterioration properties of the gate electrode and current leakage phenomenon are prevented.例文帳に追加

従って、バリア金属膜を耐酸化性の大きい物質で形成することで、酸素雰囲気の中で半導体装置の後続熱処理工程中のバリア金属膜の酸化を防止し、ゲート電極の劣化特性及び電流漏れ現象を防止することができる。 - 特許庁

In the subsequent burning process for removing resin from a sealing seal layer, water and organic matters attracted on the protective layer can simultaneously be detached and removed, and a panel having less impurity gas in the panel's inner space after sealing can be manufactured.例文帳に追加

その後の、封着シール層からの樹脂除去を目的とした焼成工程において同時に保護層に吸着していた水および有機物を脱離除去することができ、封着後のパネル内部空間に不純物ガスの少ないパネルを製造することができる。 - 特許庁

In molding pressure, predetermined high pressure is lowered to predetermined pressure exceeding contact pressure on the way of a molding process and the pressure lowering timing is set to a point of time when the resin melted in the prepreg comes to have no flowability substantially by subsequent heat curing.例文帳に追加

成形の圧力は、所定の高圧を成形工程の途中で接触圧を越えた所定圧力へ下げ、その圧力を下げるタイミングを、プリプレグ中の溶融した樹脂がその後の熱硬化で実質的に流動性をもたなくなる時点に設定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing efficiently a stable quality laser element, by preventing effectively chipping and the chip damage in a periphery of a cutting portion, preventing sticking of burrs and shavings at a divided portion and performing a subsequent smooth handling process of the laser element.例文帳に追加

切削部周辺でのチッピング及びチップの破損を有効に防止し、分割部分でのバリや削りくずの付着を防止し、その後のレーザ素子のハンドリングプロセスを円滑に行わせ、安定した品質のレーザ素子を効率的に製造する方法を提供することができる。 - 特許庁

A motor current necessary for reaching the preset torque immediately before screwing the implant or the implant base using the handpiece 1 for surgical use is measured, and the motor current is limited to that value in the subsequent screwing process by controlling a motor.例文帳に追加

外科用ハンド・ピース１を使ってインプラントないしはインプラント土台をねじ込む直前に、プリセットしたトルクに達するために必要なモータ電流を測定し、モータ制御により、あとに続くねじ込み過程でモータ電流をこの値に制限することを特徴とする。 - 特許庁

The thermal transfer printing method is designed to print images on plastic films and includes a management image printing process to print desired images and print a management image to manage images printed on the plastic films in the subsequent processes.例文帳に追加

プラスチックフィルムに画像を印刷する熱転写印刷方法であって、熱転写印刷方法には所望の画像を印刷するとともに、後工程においてプラスチックフィルムに印刷された画像を管理するための管理画像を印刷する管理画像印刷工程が含まれる。 - 特許庁

To provide an improved silver-barium lead alloy for use in the manufacture of a lead-acid battery positive grids, that improves ordinary temperature aging process required to attain hardness and strength required during pasting, hardening and subsequent processings of the battery grid.例文帳に追加

ペースト付け、硬化、およびバッテリ・グリッドの以後の加工中に必要とされる硬度および強度に達するのに必要な常温時効プロセスを改善する、鉛電池正極グリッドの製造に使用される改良された銀−バリウム鉛合金を提供すること。 - 特許庁

To select an implementation system for synchronously inputting and processing results of a plurality of preceding processes having mutually asynchronous relationship by one subsequent process from a plurality of implementation systems, and to automatically implement the selected implementation system in a reconfigurable circuit.例文帳に追加

互いに非同期の関係にある複数の前段処理の処理結果を１つの後段処理が同期的に入力して処理するための実装方式を、複数の実装方式の中から選択して自動的に再構成可能回路に実装できるようにする。 - 特許庁

To form highly precise shearing blank whose chamfering is performed in both the sides and whose sheared face is beautiful by previously forming and also curing a chamfering groove on the outer circumference of the shearing portion of a raw material, and by shearing its chamfering groove portion with a shearing device in a subsequent process.例文帳に追加

素材の剪断部外周に予め面取り溝を形成すると共に硬化させ、その面取り溝部分を後工程で剪断装置により剪断することにより、剪断面が美麗で、両端に面取りが施された高精度な剪断ブランクの形成を可能にすること。 - 特許庁