「surface defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a fixing device, and the like, capable of preventing generation of a high temperature region on the surface of a pressure roll so as to restrain image defect and image gloss fluctuation in the heat pressure fixing system.例文帳に追加

熱圧力定着方式において、加圧ロールの表面に高温領域の発生を防ぎ、画像欠陥や画像Ｇｌｏｓｓ変動が抑制された定着装置等を提供する。 - 特許庁

To discover properly an irregularity defect or the like generated on the surface of an inspection object having roughness in the degree of visible light, and to apply the method suitably to a manufacture line of a steel plate.例文帳に追加

可視光程度の粗度を有する被検査体の表面に生じた凹凸欠陥等を適切に発見することができ、鋼板の製造ライン上において好適に適用すること。 - 特許庁

In the constitution, an AE sensor body 21 for detecting acoustic energy generated when pressurized gas sealed by contacting a detection surface 21a to a vessel surface 1a leaks from a small defect, and a holding means 22 to 25 for holding the AE sensor body 21 and uniformly contacting the detection surface 21a to the vessel surface 1a are provided.例文帳に追加

検出面２１ａを容器表面１ａに接触させて封入した加圧気体が微細欠陥から漏洩するときに発生する音響エネルギを検出するＡＥセンサ本体２１と、ＡＥセンサ本体２１を保持し、検出面２１ａを容器表面１ａに均一に接触させる保持手段２２〜２５とを備えた構成としたものである。 - 特許庁

This device is equipped with a surface light source 10 for performing light irradiation flatly onto an inspection object painted surface, an avalanche multiplication type imaging camera 21 as the image sensor entered by the regularly reflected light from the inspection object painted surface, and an image processing device 20 for inspecting existence of a defect on the painted surface by image processing for detecting a level change of the image signal.例文帳に追加

検査対象塗面を面状に光照射する面光源１０と、検査対象塗面での正反射光を入射させるイメージセンサとしてのアバランシェ増倍型撮像カメラ２１と、その画像信号のレベル変化を検出する画像処理により、塗面の欠陥の有無を検査する画像処理装置２０とを備える。 - 特許庁

In the method, a fluorinating agent is allowed to be contact with the surface of the glass substrate in a gas phase, thereby, fluorine atoms are introduced to the surface layer including the surface of the glass substrate, thereafter, laser beams of the wavelength region having absorption for glass material constituting the glass substrate and, thereby, the surface of the glass substrate having a concave defect is smoothened.例文帳に追加

気相中でガラス基板表面にフッ素化剤を接触させることにより、該ガラス基板表面を含む表層にフッ素原子を導入した後、該ガラス基板を構成するガラス材料に対して吸収を有する波長域のレーザ光を該ガラス基板表面に照射することにより、凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法。 - 特許庁

To provide a welding structure which prevents the generation of a welding defect even when a certain degree of deviation of a position where the welding is required with respect to a welding torch happens in the axial direction in a welding structure for welding the external peripheral part of an annular body abutting along a spherical surface or a conical surface in a circumferential direction with respect to the spherical surface or the conical surface.例文帳に追加

球面もしくは円錐面に沿って当接する環状体外周縁部を球面もしくは円錐面に対し円周方向に溶接するための溶接構造において、溶接トーチに対する溶接必要位置に軸方向に多少のずれが発生しても、溶接不良の発生を防止することができる溶接構造の提供。 - 特許庁

To provide an easily introducible image input method and its device eliminating the existence of a moving mechanism, improving the speed of response and reducing power consumption, and a surface defect detecting device for detecting minute irregularities on a surface.例文帳に追加

移動機構を廃し、応答速度向上および消費電力の削減を行ない、また、容易に導入可能な画像入力方法およびその装置、さらには表面の微小凹凸を検出可能な表面欠陥検出装置を提供すること。 - 特許庁

To clean the surface of a photoreceptor by making good use of the operation of the photoreceptor and an intermediate transfer body, and also, to prevent the defect of image quality due to a scratch on the surface of the photoreceptor even when the operation is performed, regarding the electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成装置において、感光体と中間転写体の動作を利用して感光体表面の清浄化を行いつつ、その場合であっても感光体表面のスクラッチによる画質欠陥発生を未然に防ぐ。 - 特許庁

To provide a surface layer part property measuring method for accurately detecting/discriminating defects doing harm after processes from inspection onward (after rolling and plating processes, for example), a surface layer defect determination method using the same, and a metallic band manufacturing method.例文帳に追加

検査以降の工程後(例えば、冷延、鍍金工程後)に有害となる欠陥を正確に検出・弁別する表層部性状測定方法及びそれを用いた表層欠陥判定方法、並びに金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁

The part of the defect 3 is removed by wet polishing, thereafter, the removed part is recoated with a coating material same as that of the coating layer 2, and subsequently, the recoated part is finished into a smooth surface equal to the circumference surface by wet polishing.例文帳に追加

上記欠陥３部分を湿式研磨により除去し、その後に上記除去部分を上記コーティング層２と同一の塗料で再コーティングし、その後に上記再コーティング部分を湿式研磨により周囲と面一な滑面に仕上げる。 - 特許庁

To provide an instrument panel capable of improving the rigidity of an upper panel using a simple structure without causing an appearance defect, such as a "sink" resulting from defective molding, on the upper panel's surface serving as a design surface of the instrument panel.例文帳に追加

本発明は、インストルメントパネルの意匠面となるアッパパネル表面に成形不良による「ひけ」などの外観不良を生じることがなく、簡単な構造でアッパパネルの剛性を高くすることができるインストルメントパネルを提供することを課題とする。 - 特許庁

When the steel is continuously cast, the surface wave motion of the molten steel in the inner part of the mold generated by the vertical vibration of the mold is restrained by impressing molten steel with the amplitude modulation magnetic field to the molten steel and thus, the striped defect on the surface of the cast slab is restrained.例文帳に追加

鋼を連続鋳造するに際し、鋳型の上下振動に伴い発生する鋳型内部の溶鋼の表面波動を、溶鋼に振幅変調磁場を印加することにより抑制し、それにより鋳片表面の縞欠陥を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for producing a substrate of semiconductor device, and a substrate of semiconductor device, having a flat surface between a region having an SOI structure and a region having no SOI structure in which crystal defect is suppressed on the surface.例文帳に追加

表面の結晶に欠陥が少なく、かつSOIの構造を有する領域とSOIの構造を有しない領域との間に段差がない平坦な表面を有する半導体装置用基板の製造方法および半導体装置用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic filter producing method capable of forming a uniform defect-free ceramic porous film on the surface of a porous base material while preventing the closure of the pores of the base material and capable of ensuring the adhesion strength of the surface of the base material and the porous film.例文帳に追加

多孔質基材の細孔の閉塞を防止しつつ、基材表面に均一で欠陥がない多孔質膜を形成することができ、かつ、基材表面と多孔質膜との密着強度が担保できるセラミックフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for inspecting a defect of a steel plate surface, capable of detecting a defective part (abnormal part), while suppressing over-detection/un-detection, when inspecting a steel plate as a subject having large variations in a surface property, including a color tone.例文帳に追加

色調まで含め、表面性状変動が大きい鋼板を検査対象にして、過検出・未検出を抑えた、欠陥部（異常部）の検出を行うことができる、鋼板表面欠陥検査方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a thermo-conductive sheet that has flexibility, can follow a special shape of an uneven surface, a bending surface or the like and can secure high thermal conductivity without any defect attributable to addition of a thermoconductive filling material.例文帳に追加

柔軟性があり、凹凸や曲面等の特殊な形状にも追従可能であり、しかも熱伝導性充填材の添加に原因した欠陥を伴うことなく高い熱伝導率を保証することができる熱伝導性シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁

The wafer appearance inspection device 201 includes: a measuring stage 205; a monitor camera 203 for imaging a surface shape of a wafer 204 placed on the stage; and a control computer 202 for executing detection processing of surface shape defect of the wafer 204.例文帳に追加

ウェーハ外観検査装置２０１は、測定ステージ２０５と、その上に載置されたウェーハ２０４の表面形状を撮像するモニタカメラ２０３と、ウェーハ２０４の表面形状欠陥の検出処理を実行する制御用コンピュータ２０２を備える。 - 特許庁

To realize grounding of high reliability without continuity defect even in the case that the outside surface of the end part of a photoreceptor is worn due to contact with a photoreceptor support part with respect to a base body of the photoreceptor body made of resin of which a conductive layer is formed on the surface.例文帳に追加

表面に導電性層が形成された樹脂製の基体について、感光体の端部の外側表面が感光体支持部と接触して摩耗した場合でも、導通不良を生ずることなく、信頼性の高い接地を可能とする。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus making highly accurate surface defect inspections without being affected by white defects constantly generating prescribed luminance or greater or white defects having variable luminance and gradually increasing luminance.例文帳に追加

恒常的に所定以上の輝度を発生する白傷ばかりでなく、輝度が変動したり、徐々に輝度が大きくなったりする白傷の影響を受けることなく、精度の高い表面欠陥検査を行うことができるような表面検査装置を提供する。 - 特許庁

Deterioration in characteristics due to a defect of implantation of a conductive material into a through hole is improved by tapering a through hole, penetrating the substrate along the thickness, for leading the light receiving surface-side electrode of the solar cell out to the reverse surface side.例文帳に追加

太陽電池セルの受光面側電極を裏面側に引き出すための基板を厚さ方向に貫通する貫通孔にテーパー形状を設けることで、導電材料の貫通孔への注入不良による特性の劣化を改善できる。 - 特許庁

To provide an inexpensive surface protective film which is excellent in the ability to protect an adherend (especially an optical sheet) and capable of carrying out an inspection of a defect on the adherend (in particular, the optical sheet) in high resolution, at the state that a surface-protective film (a pressure-sensitive adhesive sheet) is adhered to the adherend.例文帳に追加

被着体（特に光学シート）の保護性能に優れ、表面保護フィルム（粘着シート）を貼付した状態で、被着体（特に光学シート）の欠陥検査を精度良く行うことのできる安価な表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

When the steel is continuously cast, the surface wave motion of the molten steel in the inner part of the mold generated by the vertical oscillation of the mold is restrained by impressing the amplitude modulated magnetic field to the molten steel and, in this way, the banded defect on the surface of the cast slab is restrained.例文帳に追加

鋼を連続鋳造するに際し、鋳型の上下振動に伴い発生する鋳型内部の溶鋼の表面波動を、溶鋼に振幅変調磁場を印加することにより抑制し、それにより鋳片表面の縞欠陥を抑制する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁

An elastic wave having an optional wavelength is input onto a surface of the concrete structure, and a thickness of a concrete and the internal defect are separately determined to conduct the measurement, using a fact that a generation time of a characteristic frequency generated by multi-reflection of the wave between a bottom of the concrete or the internal defect and a measuring surface is periodical or non-periodical.例文帳に追加

コンクリート構造物の表面に任意の波長を持つ弾性波を入力し、この波動がコンクリートの底面あるいは内部欠陥と測定表面との間で多重反射波することによって生じる特性周波数の発生時刻が周期的あるいは非周期的であることにより、コンクリートの厚さ及び内部欠陥を分離判別して測定する。 - 特許庁

A surface defect inspection device includes a differential interference image acquisition part 2 containing a differential interference optical system for forming a differential interference optical image of the workpiece 1 and a photographing part for acquiring a differential interference image by photographing the differential interference optical image, and a processing part 3 for processing the differential interference image and detecting the defect on the surface of the workpiece.例文帳に追加

表面欠陥検査装置は、被検査物１の微分干渉光学像を形成する微分干渉光学系と前記微分干渉光学像を撮像して微分干渉画像を得る撮像部とを有する微分干渉画像取得部２と、前記微分干渉画像を処理して、被検査物１の表面における欠陥を検出する処理部３と、を備える。 - 特許庁

The image processing means generates added image data including information of wavelengths and signal intensity by additionally processing the signals of respective wavelengths correspondingly to the incident positions on the detection surface, determines whether or not a defect exists on the pattern to be inspected based on the added image data, and when determining the existence of a defect, detects the position of the defect in a direction vertical to the substrate.例文帳に追加

前記画像処理手段は、前記波長毎の信号を前記検出面の入射位置に対応付けて加算処理して波長および信号強度の情報を含む加算画像データを生成し、該加算画像データに基づいて検査対象のパターンにおける欠陥の有無を判定し、欠陥が有ると判定した場合に前記基体に垂直な方向における前記欠陥の位置を検出する。 - 特許庁

The semiconductor crystal wafer has this mirror surface defect by moving outward and linearly etched, after polishing liquid which is left at the center part of a sticking plate and not sufficiently diluted is mounted on the semiconductor crystal wafer surface with a centrifugal force, after the polishing liquid on the semiconductor crystal wafer surface is exchanged with pure water.例文帳に追加

この鏡面欠陥は半導体結晶ウェハ表面の研磨液が純水に交換された後、貼付けプレートの中心部に残留した、十分に希釈されていない研磨液が遠心力によって半導体結晶ウェハ表面に載った後、外側に移動してライン状にエッチングされることにより発生する。 - 特許庁

To provide a method of carrying out surface adjustment by uniformly introducing a defect in a catalyst carrying body face made of a carbon plate with high crystallinity, and of making a failure part on a surface of this surface-adjusted plate-shape carrying body uniformly carry metal catalyst particles when fabricating a plate electrode material of a fuel cell.例文帳に追加

燃料電池の板状電極材を作製する際、結晶性が高い炭素板製の触媒担持体面に、欠損を均一に導入して表面調整を行い、かつ、この表面調整された板状担持体の表面の欠損部に金属触媒粒子を均一に担持させる方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the light-transmitting member is a method for producing a light-transmitting member by treating a raw light-transmitting member made of molten quartz glass and comprises subjecting the surface layer of the raw light-transmitting member to an oxygen-defect reduction treatment comprising a surface layer removal treatment or a surface heat treatment.例文帳に追加

光透過部材の製造方法は、溶融石英ガラスよりなる光透過部材用原材を処理することにより光透過部材を製造する方法であって、光透過部材用原材の表面層に対して、表面層除去処理または表面加熱処理からなる酸素欠陥低減化処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

The image processing inspection part 50 composes a composite image by synthesizing an image of dicing line, which divides a circuit pattern at the surface of the wafer, into an image of rear surface of the wafer imaged by the rear surface imaging device 130 and detects the position of the defect based on the composite image with corresponding to the position of each circuit pattern.例文帳に追加

画像処理検査部５０は、ウエハの表面において回路のパターンを分割するダイシングラインの画像を裏面撮像装置１３０により撮像されたウエハ裏面画像に合成して合成画像を生成し、この合成画像に基づいて欠陥の位置を各回路パターン位置と対応させて検出する。 - 特許庁

At the surface heating step S10, a temperature of the semiconductor substrate 12 at the depth 50 after the implantation step S8 is kept to be lower than a hydrogen ion outward-diffusion temperature, whereby the surface 12b of the semiconductor substrate 12 is heated until a temperature of the surface 12b of the semiconductor substrate 12 reaches a crystal defect disappearing temperature or higher.例文帳に追加

表面加熱工程Ｓ１０は、注入工程Ｓ８後の前記深さ５０の半導体基板１２の温度を水素イオン外方拡散温度未満に維持しながら、半導体基板１２の表面１２ｂの温度が結晶欠陥消滅温度以上に昇温するまで半導体基板１２の表面１２ｂを加熱する。 - 特許庁

This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.例文帳に追加

欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁

The surface defect inspection device for the band like body is provided with a lighting system 10 radiating a linear light 12 crossing the band like body 1 on the surface of the moving band like body 1, and the time delay integration type video camera 20 carrying out image pickup of a reflected image of the linear light 12 reflected by the band like body surface.例文帳に追加

帯状体の表面欠陥検査装置は、移動する帯状体１の表面に帯状体１を横切る線状光１２を照射する照明装置１０と、帯状体面で反射された線状光１２の反射像を撮像する時間遅延積分型ビデオカメラ２０とを備えている。 - 特許庁

To provide a device and method for surface inspection, capable of inspecting a surface defect such as a flaw on a surface and delamination of painting with high precision and speed at a low cost with a simple structure even if an object to be measured produces rough specular reflection due to glossy painting of a vehicle and parts thereof provided.例文帳に追加

自動車やその部品などの光沢塗装が施されるなどして鏡面反射が酷い計測対象物であっても、簡単な構造により低コストで高精度かつ高速に表面の傷や塗装の剥がれなどの表面欠陥を検査することが可能な表面検査装置および表面検査方法の提供。 - 特許庁

The coating method comprises the steps of: applying a primer coating to a surface of the object to be coated having a base metal defect; then applying a protrusion/recess pattern coating onto the coated surface using a pigmented coating (A); and further applying a multi-color pattern coating in spots onto the coated surface using two or more colors of pigmented coatings (B).例文帳に追加

素地欠陥を有する被塗物の表面に、プライマー塗装を行い、次いでその塗面上に着色塗料（Ａ）を用いた凹凸模様塗装を行い、さらにその上に２色以上の着色塗料（Ｂ）を用いた斑点状の多色模様塗装を行なうことを特徴とする塗装方法。 - 特許庁

In dry etching employing a resist pattern 13 for patterning a silicon nitride film 12 and a silicon oxide film 11, a defect introduced into a silicon substrate 10 at the time of growth to cause a conical pattern defect is removed by digging down the surface of an isolation trench forming region on a silicon substrate at the time of overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for highly precisely detecting a defect of a rotor-shaped measuring object having a surface with high reflectivity on the basis of a two dimensional image by photographing light reflected from the measuring object by irradiating a slit laser beam or the like to the rotor-shaped measuring object.例文帳に追加

本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。 - 特許庁

A haze region is formed at least in a part of the main surface of the semiconductor wafer, and when the defect measurement is carried out in the haze region, the threshold value Vref2 of the scattered light intensity for distinguishing the crystal defect measurement point is set higher than the average scattered light intensity level of the entire haze region.例文帳に追加

半導体ウェーハは、主表面の少なくとも一部にヘイズ領域が形成されているものであり、該ヘイズ領域における欠陥測定を行なう際に、結晶欠陥測定点を識別するための散乱光強度の閾値Ｖref２を、ヘイズ領域全体の平均的な散乱光強度レベルよりも高く設定する。 - 特許庁

To provide a lens defect inspection device capable of forming many parallel light sources having prescribed angles by the use of an illumination means comprising surface illuminations and a louver layer, setting most suitably a focus position of an imaging means, imaging accurately a defect on a lens appearance by the imaging means, and automating inspection.例文帳に追加

面照明とルーバー層からなる照明手段の使用により所定の角度を持った平行光源を多数形成できると共に、撮像手段のフォーカス位置を最適に設定し、レンズの外観上の欠陥を撮像手段で精度良く撮像して検査の自動化を図ることが可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

While the main surface of the semiconductor wafer is scanned by a light beam, the intensity of scattered light from the respective measurement points by the light beam is measured, the measurement point with the intensity of scattered light set above a predetermined threshold value is distinguished as a crystal defect measurement point, and thus the defect measurement is carried out.例文帳に追加

半導体ウェーハの主表面を光ビームにて走査しつつ、該光ビームによる個々の測定点からの散乱光強度を測定し、該散乱光強度が予め定められた閾値以上となっている測定点を結晶欠陥測定点として識別することにより欠陥測定を行なう。 - 特許庁

To solve a problem that, in a conventional technology, any technology of detecting very small weld defect of the size of around 50 μm in a vicinity of a surface of a tubular body which is generated in a weld part of an electric resistance welded steel tube has not been established yet, and a status in which the electric resistance welded steel tube having such very small weld defect is mixed in products can be hardly prevented.例文帳に追加

従来技術では、電縫鋼管溶接部に稀に発生する管体表面近傍の５０μｍ前後の微小な溶接欠陥を検出する技術は確立されておらず、かかる微小な溶接欠陥を有する電縫鋼管が製品の中に稀に混入する事態を防ぎ難い。 - 特許庁

To provide a nitrogen-doped silicone single crystal from any part of which is obtained a sliced wafer having a reduced variations in the non-defect region on its surface and in the density of the residual defect after annealing regardless of the doped nitrogen concentration on the silicon single crystal and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン単結晶にドープされた窒素濃度に影響されることなく、シリコン単結晶の各部位からスライスされたシリコン単結晶ウエーハにおけるアニール後の残留欠陥密度及び表層の無欠陥領域のばらつきが緩和された窒素ドープしたシリコン単結晶及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the end face defects of the metal ring 2 are inspected by a defect inspection section 15, an angle to the surface to be inspected at least in first and second waveguides included in the defect inspection section 15 is continuously changed in a prescribed range (θ1 to θ5) by an angle changing means.例文帳に追加

欠陥検査部１５によって金属リング２の端面欠陥が検査する際に、角度変更手段により、前記欠陥検査部１５に含まれる少なくとも前記第一の導光路及び第二の導光路の前記被検査面に対する角度を所定の範囲（θ１〜θ５）で連続的に変更操作する。 - 特許庁