「surface defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a device for inspecting surface defects in cylindrical work and its device capable of performing reliable inspection by a simple inexpensive constitution.例文帳に追加

簡素かつ安価な構成で確実な検査ができる円筒状ワークの表面欠陥検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask which suppresses generation of incremental defects on its surface, and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

フォトマスクの表面に成長性欠陥が発生することを抑制するフォトマスク及びフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a plate-like item of an optical acrylic resin having a plate thickness of at least 10 mm which hardly suffers from a transmission loss and has no surface defects.例文帳に追加

透過損失が少なく、表面欠陥の無い、板厚１０ｍｍ以上の光学用アクリル樹脂板状物を製造する。 - 特許庁

Because the droplets are not spread even when coming into contact with the surface of the nozzle, liquid retaining in the tip of the nozzle is prevented and discharge defects do not occur.例文帳に追加

液滴がノズルの表面に接触しても拡がらないので、ノズル先端に液溜まりが生じず、吐出不良が生じない。 - 特許庁

Whereby the searching adapted to the actual manufacturing line such that only the defect of the front surface 1a is regarded as no-good, only the defect of the rear surface is regarded as no-good, and each of the defects of the front surface 1a and the rear surface 1b is totalized, can be performed.例文帳に追加

これにより、表面１ａの欠陥のみを不良とする、裏面１ｂの欠陥のみを不良とする、表面１ａの欠陥、裏面１ｂの欠陥それぞれの集計をするといった、実際の製造ラインに即した検査が可能となる。 - 特許庁

The recess and/or projection has a side surface shaped to have a first angled surface (22) and a second angled surface (23), or first and second tilt angles θ_1 and θ_2, such that crystal defects do not are not generated in semiconductor layers (11 and 13).例文帳に追加

凹部及／又は凸部は半導体層（１１、１３）に結晶欠陥を発生させないように、第１の傾斜面（２２）、第２の傾斜面（２３）、又は第１，２の傾斜角θ_１、θ_２を有する側面形状とする。 - 特許庁

METHOD, SENSOR AND APPARATUS FOR DETECTION OF SURFACE SHAPE, METHOD AND APPARATUS FOR DISCRIMINATION OF COIN, METHOD AND APPARATUS FOR DETECTION OF SURFACE DEFECTS AND VISUALIZATION APPARATUS FOR SURFACE SHAPE例文帳に追加

表面形状検出方法、表面形状検出センサ、表面形状検出装置、硬貨識別方法、硬貨識別装置、表面欠陥検査方法、表面欠陥検査装置および表面形状可視化装置 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a uniform green sheet wherein though it is thin layered, releasability is excellent, both of a surface and a peel surface (a rear surface) are made smooth and an inside of the green sheet is free from defects while a method for manufacturing an electronic component is provided.例文帳に追加

薄層化しても剥離性に優れ、且つグリーンシートの表面、剥離面（裏面）とも平滑にし、またグリーンシート内部にも欠陥のない均一なグリーンシートの製法および電子部品の製法を提供する。 - 特許庁

Thus, in the captured images, a contour becomes dim and an area increases in a red component for defects on the surface of the light transmission layer 102 and a contour becomes dim and an area increases in a blue component for defects on the surface of the non-light-transmission layer 101.例文帳に追加

これにより、撮像画像においては、光透過層１０２の表面上の欠陥に関しては赤色成分の方が輪郭がぼやけて面積が大きくなり、非透過層１０１の表面上の欠陥に関しては青色成分の方が輪郭がぼやけて面積が大きくなる。 - 特許庁

Further, in the resin film 11, the surface roughness of the interlayer insulating film 10 can be smoothened, the alignment defects of liquid crystal and those of liquid crystal molecules caused by non-uniform electric field can be prevented, and minute defects of the light emitting device caused by the surface roughness of the pixel electrode 12 can be suppressed.例文帳に追加

さらに、樹脂膜１１は層間絶縁膜１０の表面荒れを平坦化し、液晶分子の配向不良や不均一電界による液晶分子の配向不良を防ぎ、画素電極１２の表面荒れに起因する発光装置の微小欠陥を抑制することができる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which image defects, for example, image flow is prevented by presuming conditions that tend to cause image defects, by forming a nontransfer toner image on the surface of a photoreceptor without degrading productivity, and by exerting control so that the surface of the photoreceptor is kept appropriate.例文帳に追加

画像異常の発生しやすい状況を想定して、生産性を損なうことなく、感光体の表面に未転写トナー像を形成し、感光体の表面を適切な表面状態に維持する制御を行い、画像流れ等の画像異常が発生しない画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent defects on the surface (surface defects) such as grained surfaces/hexagonal patterns on a seamless belt made of polyimide or polyamidoimide for electrophotography, and to obtain a seamless belt made of a smooth and homogeneous polyimide or polyamidoimide film having fillers evenly dispersed without leaving air bubbles.例文帳に追加

電子写真用ポリイミドまたはポリアミドイミド製シームレスベルトにおける、ゆず肌・亀甲模様など、表面に生ずる欠陥（表面性欠陥）を防止すると同時に、充填材の分散が均一でかつ気泡の残存のない平滑で均質な膜状態のポリイミドまたはポリアミドイミド製シームレスベルト得ること。 - 特許庁

To make the occurrence of defects on the surface and in the vicinity of the surface of a wafer less likely, to reduce crystal defects and to prevent the occurrence of leak, by making metallic contaminants attach to a gettering site near the interface between an active side wafer and an insulating film, even when the metal contaminants attach to the active side of the wafer.例文帳に追加

活性側に金属汚染が付着した場合も、汚染物が活性側ウェーハと絶縁膜との界面付近のゲッタリングサイトにゲッタリングされ、表面および表面近傍に欠陥を発生しにくくし、結晶欠陥を少なくしリーク不良を発生しにくくする。 - 特許庁

To provide a hot-extrusion manufacturing method for a metallic tube, by which the generation of both of outer surface defects, a deep wrinkle and an outer surface streak, is suppressed so that the cost for removing the defects is reduced and the yield of a material is improved, and which is suitable for extruding a ferritic stainless steel tube and a two-phase stainless tube.例文帳に追加

深い縦じわと外面すじの両方の外面欠陥の発生を抑制することが可能で、その除去費用の低減と材料歩留の向上が図り得るフェライト系ステンレス鋼管や二相ステンレス鋼管の押出しに好適な熱間押出し製管方法の提供。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device, capable of improving the planarity of the recessed bottom surface of a silicon substrate, forming a highly accurate silicon uneven surface pattern, and suppressing the occurrence of pattern defects.例文帳に追加

シリコン基板の凹部底面の平坦度を改善し、精度の高いシリコン凹凸面パターンを形成可能とし、パターン不良の発生を抑制できる半導体デバイスの製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a defect inspection device capable of surely detecting unevenness due to defects at a surface of an object regardless of pattern or gloss at the surface of the object.例文帳に追加

対象物の表面の模様やツヤによらず、対象物表面の欠陥による凹凸を確実に検出する欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a glass-polishing abrasive which can give a clean ground surface with no deposits attached to the surface and with no defects such as pits and scratches and a polishing method using the same.例文帳に追加

ガラス表面に付着物がなく、かつピットやスクラッチなどの欠陥のない清浄な研磨面を得ることができるガラス研磨用研磨材およびその研磨方法を提供すること。 - 特許庁

When inspecting the surface of the sealant for defects, a light beam 3 from a light source 2 is incident into the semiconductor element 1 at an angle of 10 to 30° with respect to the upper surface of the chip, and imaging is conducted.例文帳に追加

封止体表面の欠陥を検査する時には、チップ上面に対して１０°〜３０°の角度で光源２からの光線３を半導体素子１に入射させて撮像する。 - 特許庁

To provide an inspection device, capable of surely detecting the surface defects of the inspection object at the inspecting of the internal surface of a cylinder, such as a cylinder bore of vehicle.例文帳に追加

車両のシリンダボア等の筒状内壁面を検査する際に、被検査対象の表面欠陥を確実に検出することができる検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent cleaning defects of an image carrier in an image forming device forming an image on the second surface of a transfer material obtained, after the image is formed on a first surface without stopping the transfer material.例文帳に追加

１面目に画像形成後の転写材の２面目に、転写材を停止させることなく画像を形成する画像形成装置における、像担持体のクリーニング不良を防止する。 - 特許庁

To provide surface acoustic wave elements which can be easily handled and have few defects even after they have been separated individually, to provide a method for manufacturing them, and to provide a surface acoustic wave device using the element.例文帳に追加

素子分離後の取り扱いが容易で欠陥の少ない弾性表面波素子およびその製造方法、ならびにそれを用いた弾性表面波デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment process which reduces damage to a photoresist and a substrate, in improving wettability of the surface for the purpose of eliminating defects in plating or wet etching.例文帳に追加

めっき処理やウェットエッチング処理の不良をなくすために表面の濡れ性を向上させる際に、フォトレジストおよび下地へのダメージを減らした表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To correct the shape of a metal strip even having oxide scale on the surface of a steel sheet or plate or the like after hot rolling without causing surface defects due to scale biting.例文帳に追加

熱間圧延後の鋼板など表面に酸化スケールを有する金属帯に対してもスケール噛み込みに起因する表面欠陥を発生させることなく形状矯正する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a continuously cast slab by which the generation of surface defects of a product is suppressed and the cast slab can be made into a sheet having the required level of surface quality.例文帳に追加

製品の表面欠陥発生を抑制し、要求される表面品質レベルを有する薄板とすることが可能な、連続鋳造鋳片の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser processing method capable of processing a surface to be processed of a transparent material with a high accuracy even if the transparent material has a rear surface with a large roughness or has defects therein.例文帳に追加

裏面のラフネスが大きい透明材料や、欠陥が存在する透明材料などであっても、被加工面を精度良く加工することができるレーザー加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a copper coating polyimide film substrate, which does not have a minute depression on a metal layer surface, and to decrease depressions on a metal layer surface and defects at patterning of wiring.例文帳に追加

金属層表面に微小な凹みが無い銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供し、金属層表面の凹みや配線パターニング時に欠陥を減少させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of and manufacturing equipment for a roller which prevent the scrape of a roller surface and the inside and end parts of a mold and can give easily a roller free of surface defects.例文帳に追加

ローラ表面と金型内面及び端部が擦れることを防止し、表面欠陥のないローラを容易に得ることのできるローラの製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, recombination of carriers on the uppermost surface of the lower cell 14 can be reduced, because uncombined hands existing on the uppermost surface of the cell 14 are coupled with the insulating layer 22, and as a result, lattice defects can be reduced.例文帳に追加

これにより、下部セル１４の最上面に存在する未結合手と絶縁層２２とが結合し、格子欠陥を減少でき、この部分におけるキャリアの再結合を減少できる。 - 特許庁

A laser scattering detector detects the top surface of the defect emphasis protrusion, and the type of the crystal defects is identified by the dimension information of the detected top surface.例文帳に追加

欠陥強調突起部の頂面部をレーザー散乱式検出装置にて検出し、その検出された頂面部の寸法情報により結晶欠陥の種別を識別する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a semiconductor wafer for appropriately removing projecting defects formed by stress operating on a surface when polishing the surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの表面を研磨した際に表面に作用する応力により形成された凸状の欠陥を適切に除去可能な半導体ウェハの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating surface defects inspecting illuminating method and device which projects a patterned image, which can be inspected with more uniform detection accuracy and effectively on a coating surface as an inspection object.例文帳に追加

より均一な検出精度で且つ効率良く検査可能なパターン像を、検査対象である塗装面に投影する塗装面欠陥検査用照明方法及び装置の提供。 - 特許庁

To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample with high sensitivity, by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the 0-th and higher-order diffracted lights of reflected light, arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detection optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.例文帳に追加

試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

Optical scanning equipment based on a confocal optical system inspects the surface of a wafer to be inspected as a sample, identifies the defects or contaminations on the sample surface detected by the inspection according to its type, outputs and displays the position of the identified defects or contaminations on a wafer screen corresponding to the specimen by a symbol indicative of the type of the defects or contaminations.例文帳に追加

検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにした。 - 特許庁

To provide a method by which an operator can select defects having the possibility of exerting a fatal influence upon the operation of an integrated circuit from many pieces of defect data of a wafer surface by his or her easy operation so as to display defect images of the selected defects.例文帳に追加

ウェーハ上の多数の欠陥データの中から集積回路の動作に致命的な影響を与える可能性のある欠陥を、オペレータの容易な操作で選択し、選択した欠陥の欠陥画像を表示できる方法の提供。 - 特許庁

The void aggregate defects in a silicon layer 3 is set to 1×10^4/cm^2 or more, and the interface defects 6 on the interface at least between a surface oxide film 4 and the silicon layer 3 is set to 1×10^11/cm^2 or less.例文帳に追加

シリコン層３中の空孔集合体欠陥５を１×１０^4 個／ｃｍ^2 以上にするとともに、少なくとも、表面酸化膜４／シリコン層３の界面の界面欠陥６を１×１０^11個／ｃｍ^2 以下にする。 - 特許庁

To provide an optical film sheet with a barrier film having excellent surface smoothness usable for a display element, particularly an EL element showing reduced display defects due to reduced barrier defects and to provide a display element using the same.例文帳に追加

表示素子、特にバリア欠陥低減による表示欠陥の低減されたＥＬ素子用途に適用可能な優れた表面平滑特性を持つバリア膜付き光学フィルムシートおよびこれを用いた表示素子を提供する - 特許庁

The V/III ratios at the time of growing the intermediate layer 15 and current diffusing layer 16 are set so that the number of crystal defects observed on the crystalline surface of the light emitting element may become ≤20 defects.例文帳に追加

上記中間層１５の成長時のＶ／III比および電流拡散層１６の成長時のＶ／III比を、結晶表面に観察される結晶欠陥の数が半導体発光素子１個当り２０個以下となるような値に設定する。 - 特許庁

To detect defects of an inspection object even when the defects have concave shapes or convex shapes, and to inspect sheets not having transparency, having low transparency, or having a surface with glossiness.例文帳に追加

検査対象における欠陥の形状が凹状又は凸状のいずれであっても検出可能とするとともに、光透過性を有しないものや低いもの、表面に光沢を有するシートなどについても検査の対象物とする。 - 特許庁

To provide a method for suppressing the formation of flat surface defects, such as stacking faults and microtwins in a relaxed SiGe alloy layer.例文帳に追加

緩和ＳｉＧｅ合金層において、積層欠陥およびマイクロツイン等の平面欠陥の形成を抑えるための方法を提供すること。 - 特許庁

To improve defects such as bumps, chipping, cracks and rippling of a bottle neck top surface, which appear around a guide ring at a glass bottle neck and a parting line of neck molds.例文帳に追加

ガラスびん口部のガイドリングと口型のパーティングライン付近に生じる段差、口欠け、ビリ及び口部天面の天波の欠点を改善する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for epitaxial wafer for light-emitting diode which is intended to reduce the surface defects of an epitaxial layer due to melt deposits.例文帳に追加

メルト析出物によるエピタキシャル層の表面欠陥の低減を図った発光ダイオード用エピタキシャルウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an extra thin water based ceramic green sheet which has no sheet defects such as pinholes, and excellent in surface roughness, tensile strength and an elongation percentage.例文帳に追加

ピンホール等のシート欠陥がなく、表面粗さ、引張り強度および伸び率において優れた、極薄の水系セラミックグリーンシートを提供する。 - 特許庁

To provide a composition for chemical mechanical polishing which reduces occurrence of defects of a polishing surface by improving dispersion property and providing chelate capability.例文帳に追加

分散性を向上させ、キレート能力も持たせることで、より研磨面の欠陥を抑制できる化学機械研磨用組成物の提供。 - 特許庁

As well, flask temperatures and the use of surfactants can also promote cast part formation, hindering the formation of surface defects.例文帳に追加

更に、型枠温度、および界面活性剤の使用もまた、表面欠陥の形成を妨げながら、鋳造部品の形成を促進することができる。 - 特許庁

To surely detect the various defects of the surface of a test object, such as the semiconductor wafer, etc., by visual inspections, based on a simple constitution.例文帳に追加

たとえば半導体ウエハのような被検物体の表面の様々な欠陥を簡素な構成に基づく目視検査により確実に検出する。 - 特許庁