「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(159ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the electrode for the lithium secondary battery is provided with a process of forming an active material layer comprising an amorphous silicon layer on a surface of the collector 6 comprising a surface-roughened rolled zirconium copper foil having heat resistance by spattering a target (a silicon target) 7 in an atmosphere containing mixed gas of gaseous argon (60sccm) and gaseous hydrogen (0-20sccm).例文帳に追加

このリチウム二次電池用電極の製造方法は、アルゴンガス（６０ｓｃｃｍ）と水素ガス（０ｓｃｃｍ〜２０ｓｃｃｍ）との混合ガスを含む雰囲気中で、ターゲット（シリコンターゲット）７をスパッタリングすることによって、耐熱性を有する粗面化された圧延ジルコニウム銅箔からなる集電体６の表面上に、非晶質シリコン膜からなる活物質層を形成する工程を備えている。 - 特許庁

A process to carry out pretreatment for adhesion of the friction material on the back plate 1 is devised to carry out cleaning of the back plate 1 by steam treatment, to favorably remove an oxide film 2 formed on a surface of the back plate by shot blast treatment, to roughen the back plate surface simultaneously and thereafter to apply a resin coat layer 3 to make it rustproofing on the back plate.例文帳に追加

裏板１に対し、摩擦材接着のための前処理を行う工程において、裏板１の洗浄を水蒸気処理によって行い、次いで裏板の表面に形成された酸化被膜２を好ましくはショットブラスト処理によって除去し、同時にその処理で裏板表面を粗面化し、しかる後、裏板に不錆化のための樹脂コート層３を施すようにした。 - 特許庁

To provide an electroplating method for a circuit board, which provides a plated film of high quality even on a minute conductor surface by surely removing air bubbles in a chemical solution, which are trapped on the conductor surface, without requiring a large remodeling of a present plating equipment, in a continuous, chemical treatment process for electrolytically depositing metal on the conductor of the circuit board.例文帳に追加

回路基板の導体上に電気メッキで金属を析出させるための連続した薬液処理工程において、現有のメッキ装置の大幅な改造を必要とせずに、薬液中で導体表面に付着する気泡を確実に除去して、微細な導体表面においても高品質なメッキ皮膜を得ることができる回路基板の電気メッキ方法を提供する。 - 特許庁

Even the cleaning method for cleaning the semiconductor substrate by a chemical liquid comprises a first cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by a mixed solution containing fluorine-ozone water in a composition for preventing fluorine from remaining, and a second cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by the ozone water in a composition for successively making the surface of the semiconductor substrate hydrophilic.例文帳に追加

半導体基板を薬液で洗浄する洗浄方法であって、半導体基板表面にフッ素が残留しない組成のフッ酸−オゾン水を含む混合溶液で該半導体基板を洗浄する第１の洗浄工程と、引き続き半導体基板表面を親水性化する組成のオゾン水で該半導体基板を洗浄する第２の洗浄工程とを有することを特徴とする半導体基板の洗浄方法である。 - 特許庁

A manufacturing method of the polarized light separating sheet has a process of laminating at least three layers constituted of at least two kinds of materials having mutually different refractive indexes on a plurality of prisms 12 of a transparent base material 11 having a plurality of prisms 12 on one main surface and a process of forming a flattened layer 14 on the lamination structure 131, 132.例文帳に追加

本発明の偏光分離シートの製造方法は、一方の主面上に複数のプリズム１２を有する透明基材１１の前記複数のプリズム１２上にそれぞれ異なる屈折率を有する少なくとも２種類の材料で構成された層を少なくとも３層積層する工程と、この積層構造１３１，１３２上に平坦化層１４を形成する工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In the oxidation method whereby the surface of the workpieces W, on which at least the nitride film is exposed, is oxidized in a processing vessel 8 accommodating a plurality of the workpieces W concurrently, the nitride film is oxidized by mainly using hydroxyl active species and oxygen active species in a vacuum atmosphere under a process pressure of 133 Pa or below at a process temperature of 400°C.例文帳に追加

一度に複数枚の被処理体Ｗを収容できる処理容器８内にて、表面に少なくとも窒化膜が露出している被処理体の表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて水酸基活性種と酸素活性種とを主体として用いると共に、プロセス圧力を１３３Ｐａ以下に設定し、且つプロセス温度を４００℃以上に設定して前記酸化を行なう。 - 特許庁

The processing method for introducing a raw process gas inbetween a pair of electrodes, of which the opposing surface of at least one electrode is coated with a solid dielectric, and processing a substrate to be treated with the plasma provided by means of applying an electric field inbetween the electrodes, is characterized by introducing the raw process gas between the electrodes, through at least two flow-rate control units arranged in parallel.例文帳に追加

少なくとも一方の電極対向面を固体誘電体で被覆した一対の電極間に原料処理ガスを導入し、電極間に電界を印加することにより得られるプラズマで被処理基材を処理する方法であって、原料処理ガスの電極間への導入を並列にした少なくとも２つの流量制御装置を介して行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法及びその装置。 - 特許庁

A method to manufacture a toner for electrostatically-charged image development includes: a process to produce water-based fluid dispersion of heteroaggregation which contains at least a resin particle and a coloring material; and a process to produce a shell layer by adding a polymerizable monomer to the water-based fluid dispersion of heteroaggregation in the presence of a polymerization initiator, and by providing seed polymerization of the polymerizable monomer to a surface of the heteroaggregation.例文帳に追加

少なくとも樹脂粒子と着色剤を含有するヘテロ凝集体の水系分散液を作製する工程、前記ヘテロ凝集体の水系分散液に重合開始剤存在下で重合性単量体を添加し、前記ヘテロ凝集体表面に重合性単量体をシード重合してシェル層を作製する工程を有することを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the bulkhead of the biochip 100 including the substrate 10 and the bulkhead 20 sectioning the surface of the substrate 10 includes: a process to form a first film on the substrate using a composition including a coloring agent (A), a polyfunctional monomer (c) having 3-6 polymerizable unsaturated bonds, and a radiation-sensitive polymerization initiator (D); and a process to perform patterning of the first film to form the bulkhead 20.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、着色剤（Ａ）、重合性不飽和結合を３つ以上且つ６つ以下有する多官能性単量体（ｃ）、感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含む組成物を用いて基板上に第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁２０を形成する工程を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the cast for manufacturing the microchannel substrate having metal projections for forming microchannels, each of which has a width of 1 mm or below and a height of 1 mm or below, on a metal substrate comprises a process for forming microchannel-like projections on the metal substrate and a process for grinding the upper surface parts of the microchannel-like projections using a minute rotary body.例文帳に追加

金属基板上に巾１ｍｍ以下、高さ１ｍｍ以下のマイクロチャネル形成用の金属突起部を有するマイクロチャネル基板作製用鋳型の作製方法であって、金属基板上にマクロチャネル状突起部を形成する工程、及びマクロチャネル状突起部の上面部を微小な回転体を用いて研磨する工程、を有することを特徴とするマイクロチャネル基板作製用鋳型の作製方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a retardation film comprises a process for obtaining a polymer film by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as an essential component into a solvent comprising at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, casting the prepared solution into the surface of the substrate to be a sheet shape, and vaporizing the solvent and a process for stretching the polymer film.例文帳に追加

トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも１種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法。 - 特許庁

This semiconductor manufacturing method comprises a step for distributing nonmetallic elements to a surface-adjacent area on a semiconductor layer, a process for stacking a metal film on the semiconductor layer and a process that epitaxially grows a semiconductor metal compound layer through interactions between the semiconductor layer elements and the metal film metals by thermal metal film treatment.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体層における表面近傍の領域に非金属元素を分布させる工程と、半導体層の上に金属膜を堆積する工程と、金属膜に熱処理を施して半導体層を構成する元素と金属膜を構成する金属とを反応させることにより、半導体層の表面に半導体金属間化合物層をエピタキシャル成長させる工程とを備える。 - 特許庁

A method for forming an insulating film comprises a process for irradiating a substrate surface having a silicon oxide thin film on a semiconductor substrate with vacuum ultraviolet rays in a vacuum container retained in high vacuum; and a process for performing either nitriding or oxynitriding treatment in the vacuum container retained in a high vacuum state without exposing the substrate to the atmosphere after the irradiation of vacuum ultraviolet rays.例文帳に追加

本発明の絶縁膜の形成方法は半導体基板上にシリコン酸化薄膜を有する基体表面を高真空に保持された真空容器内で真空紫外光を照射する工程と、真空紫外光照射後に基体を大気に暴露することなく、高真空状態に保持された真空容器内で窒化或いは酸窒化いずれかの処理を行う工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device using the adhesive sheet for spacers comprises: a process for preparing the adhesive sheet for spacers having a spacer layer with an adhesive layer at least on one surface, dicing the adhesive sheet for spacers, and forming a chip-like spacer having the adhesive layer; and a process for fixing the spacer to the body to be deposited via the adhesive layer.例文帳に追加

スペーサ用接着シートを用いた半導体装置の製造方法であって、前記スペーサ用接着シートとして、少なくとも一方の面に接着剤層を備えたスペーサ層を有するものを用意し、前記スペーサ用接着シートをダイシングして、接着剤層を備えたチップ状のスペーサを形成する工程と、前記スペーサを、前記接着剤層を介して被着体に固定する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The oxide film formation method has a pretreatment process for forming a protection oxide film in a surface of a wafer by carrying out oxidation treatment by active oxidation species, or atmosphere containing active oxidation species under evacuation conditions for a wafer disposed inside a reaction container; and an oxide film formation process for forming an oxide film by performing oxidation treatment for the wafer at a prescribed temperature under evacuation conditions.例文帳に追加

酸化膜形成方法は、反応容器内に配置されたウエハについて、減圧条件下に、活性酸化種または活性酸化種を含む雰囲気による酸化処理を行うことにより、ウエハの表面に保護酸化膜を形成する前処理工程と、このウエハについて、減圧条件下において所定の温度で酸化処理することにより、酸化膜を形成する酸化膜形成工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic photoreceptor having a surface layer containing at least the flouroresin particles on a conductive support is characterized by manufacturing the organic photoreceptor by applying the coating liquid manufactured by using the dispersion liquid obtained by subjecting the flouroresin particles mixed with the solution to circulation through a plurality of times of a dispersing process and a filtering process by liquid collision under reduced pressure.例文帳に追加

導電性支持体上に、少なくとも含フッ素樹脂微粒子を含有した表面層を有する有機感光体の製造方法において、溶液に混合した前記含フッ素樹脂微粒子を高圧下の液衝突により分散する工程と濾過工程を複数回循環させて得られた分散液を用いて製造された塗布液を塗布して製造することを特徴とする有機感光体の製造方法。 - 特許庁

This production method for the optical resin material containing an inorganic oxide fine particle having 1 nm or more to 50 nm or less of average particle size in a host resin material, includes a process for substituting a dispersion of the inorganic oxide fine particle with a solvent by ultrafiltration, and a process for bringing a surface of the inorganic oxide fine particle into an hydrophobic state in the solvent.例文帳に追加

ホスト樹脂材料中に、平均粒子径が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子を含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、該無機酸化物微粒子の分散液を限外濾過により溶媒置換する工程、及び該無機酸化物微粒子が溶媒中で表面疎水化処理される工程を含むことを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

The method of obtaining the porous body includes a process for preparing a target containing an inorganic material and the porous base material and a process for forming the porous film by arranging the target and the porous base material under 1-200 Pa atmospheric pressure, irradiating the target with pulse laser having 5-500 Hz frequency to produce the vapor of the inorganic material, and depositing the vapor on the surface of the porous base material.例文帳に追加

この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The producing method of the photocatalytic material formed by oxidizing the surface of a base material composed of titanium or a titanium alloy is provided and includes a process for anodically oxidizing the base material in an electrolyte containing an organic acid and/or the salt of the organic acid and a process for further oxidizing the anodically oxidized base material by air.例文帳に追加

上記の課題は、チタンまたはチタン合金から成る基材の表面を酸化して成る光触媒材料の製造方法であって、（Ａ）前記基材を有機酸および／または前記有機酸の塩を含む電解液中において陽極酸化する工程、および（Ｂ）陽極酸化された前記基材を更に大気酸化する工程を含むことを特徴とする製造方法とすることによって解決される。 - 特許庁

A process where an III-V compound semiconductor layer comprising at least nitrogen and arsenic as group V elements is crystal-grown on a single crystal substrate is comprised, which comprises a process where a nitrogen material is supplied on the single crystal substrate so that the nitrogen material at least interacts with an aluminum on the crystal growth surface of the compound semiconductor layer.例文帳に追加

単結晶基板上に、Ｖ族元素として少なくとも窒素および砒素を含むIII−Ｖ族化合物半導体層を結晶成長させる工程を包含し、該化合物半導体層を結晶成長させる工程が、窒素原料がアルミニウムと、少なくとも該化合物半導体層の結晶成長表面で相互作用するように、該単結晶基板上に窒素原料を供給する工程を包含する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process for impregnating, an electrode group 2 including positive and negative electrodes with a gel electrolyte precursor including monomers having a molecular weight of 200 to 100,000 having two or more polymerizable functional groups in one molecule; non-aqueous electrolyte; and a surface active agent (phosphoric trialkyl and the like having a 3-10C alkyl group), and the process of gelating the gel electrolyte precursor.例文帳に追加

正極及び負極を含む電極群２に、１分子中に重合可能な官能基を２つ以上有する分子量が２００〜１０万のモノマーと非水電解液と界面活性剤（炭素数３−１０のアルキル基を有する燐酸トリアルキル等）とを含むゲル電解質前駆体を含浸させる工程と、前記ゲル電解質前駆体をゲル化させる工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer of a semiconductor memory device, capable of filling a fluid first insulating film on the bottom surface of a trench, forming a second insulating film, then performing a dry etching process and a wet etching process and reducing the amount of fluorine (F) included in the second insulating film while expanding the top width of the trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの底面に流動性の第１の絶縁膜を満たし、第２の絶縁膜を形成した後に乾式エッチング工程及び湿式エッチング工程を行ってトレンチの上部の幅を広げながら第２の絶縁膜に含まれるフッ素(Ｆ；fluorine；フローリン)の量を減少させることができる半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

When a photosensitive insulating resin is used as the surface protective layer of a circuit wiring pattern on the substrate, or when the photosensitive insulating resin is used as an insulation layer between circuit wiring conductor layers; multivalent metal substitutes for Na ions adsorbed to the photosensitive insulating resin by subjecting to a treatment process containing the Na ions performed after a thermosetting process of the photosensitive insulating resin.例文帳に追加

回路基板に於ける回路配線パタ−ンの表面保護層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、又は回路配線導体層間の絶縁層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、その感光性絶縁樹脂の熱硬化処理工程以後に行われるＮａイオンを含む処理工程を経由することにより感光性絶縁樹脂に吸着されるＮａイオンを多価金属に置換する。 - 特許庁

In a film formation method for forming a silicon oxide film on the processing object W whose metal surface has been exposed within the processing container 22 for vacuum treatment, an Si-contained gas supply process for supplying Si-contained gas to the above processing container 22, and an oxidation-reduction supply process for simultaneously supplying oxide gas and oxidation-reduction gas to the above processing container 22, are alternately executed intermittently.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器２２内で金属の表面が露出している被処理体Ｗにシリコン酸化膜を形成する成膜方法において、前記処理容器２２内へＳｉ含有ガスを供給するＳｉ含有ガス供給工程と、前記処理容器２２内へ酸化性ガスと還元性ガスとを同時に供給する酸化還元ガス供給工程とを、間欠的に交互に繰り返し行うようにする。 - 特許庁

The electron emitting elements comprises at least one or more anode electrodes formed on the second substrate, at least one or more fluorescent layers formed on the anode electrodes, the surface treatment layer formed on the surface of fluorescent layers containing the functional substance that remains even after the baking process for forming the fluorescent layer, and the light-emitting containing one or more metallic thin films formed so as to cover the surface treatment layer.例文帳に追加

本発明の他の実施例による電子放出素子は、第２基板に形成される少なくとも一つ以上のアノード電極；前記アノード電極に形成される少なくとも一つ以上の蛍光層；前記蛍光層の表面に形成され、蛍光層を形成するための焼成工程後にも残存する機能性物質を含む表面処理層；及び前記表面処理層を覆うように形成される一つ以上の金属薄膜を含む発光部；からなる。 - 特許庁

This antithrombogenic material is formed by reacting hyperbranched polymer with polyalkylene glycol to compose multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains, reacting the obtained multibranched polymer with the polymer material surface having a reactive functional group and preparing the multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains on the polymer material surface in a process of preparing the multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains on a polymer material surface.例文帳に追加

ポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を高分子材料表面に作製する工程において、ハイパーブランチポリマーとポリアルキレングリコールとを反応させてポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を合成し、次いで、得られた前記多分岐高分子化合物と反応性官能基を有する高分子材料表面とを反応させることによりポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を高分子材料表面に作製されてなる抗血栓性材料。 - 特許庁

To provide a photocatalyst composition capable of obtaining a photocatalyst body or a functional composite, of which the surface has the excellent control capacity of water wetting properties (hydrophilic and hydrophobic properties) and/or the excellent developing durability of photocatalytic activity over a long period of time by light irradiation, without requiring a complicated process.例文帳に追加

光照射により長期にわたり、その表面が水の濡れ性（親水性、疎水性）の制御能及び／又は光触媒活性を発現する耐久性に優れた光触媒体や機能性複合体を煩雑な工程を必要とせずに得ることができる光触媒組成物を提供する。 - 特許庁

To enhance an appearance performance and also reduce a manufacturing cost in an automotive interior trim and its manufacturing process of wholly or partially employing a laminated structure including a foamed resin substrate, and a top layer and a resin rib integrated on its front and rear surface side respectively.例文帳に追加

発泡樹脂基材とその表裏面側にそれぞれ一体化されるトップ層及び樹脂リブとからなる積層構造体を全体、あるいは一部に採用した自動車用内装部品並びにその製造方法において、外観性能を高め、かつ製作コストを低減化する。 - 特許庁

To provide a high image quality and high reliability image forming apparatus, in which untransferred toner recovered in a cleaning section can be recycled, without causing toner scattering or image degradation, such as surface stain or lowering of granularity even with the passage of time, and to provide a process cartridge, a development device and a cleaning device.例文帳に追加

経時においても、トナー飛散や、地肌汚れ、粒状性低下等の画質劣化が発生せずに、クリーニング部で回収した未転写トナーをリサイクルすることができる、高画質かつ高信頼性の、画像形成装置、プロセスカートリッジ、現像装置、及び、クリーニング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for simply manufacturing a functional blade member which has a low frictional contact surface and retains the elasticity of a rubber blade by using a simple process not requiring the use of complicated equipment, without processes of impregnation, washing and post-treatment of the blade member.例文帳に追加

本発明では複雑な装置を使うことなく、ブレード部材を含侵・洗浄・後処理させる工程無しに、簡単な工程で接触表面が低摩擦でありかつゴムブレードの弾性を失わない機能的なブレード部材を簡単な方法で本発明は提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide such a board for a recording medium using an Al or Al alloy board that surface smoothness is given by a resin coating method which can reduce a polishing process and that problems such as the corrosion resistance in a non-coating part are solved.例文帳に追加

Ａｌ又はＡｌ合金製基板を使用した記録媒体用基板であって、研磨工程の短縮化を図ることが可能な樹脂塗布法によって表面平滑性が付与され且つ非塗布部における耐蝕性などの問題が解決された記録媒体用基板を提供する。 - 特許庁

The coated film H comprises a nickel coated part N which is formed on the surface of the driven part 11, a chrome coated part C which is formed on the nickel coated part N, and a metal oxide film part O which is coated on the chrom coated part C by a passivation process with ozone.例文帳に追加

この被覆膜Ｈは、被駆動部１１の表面に形成されたニッケル被膜部Ｎと、このニッケル被膜部Ｎ上に形成されたクロム被膜部Ｃと、このクロム被膜部Ｃ上にオゾンによる不動態化処理により形成された金属酸化膜部Ｏとからなっている。 - 特許庁

To provide a wiring board with wiring excellent in a corrosion resistance formed on the surface of the board comprising a porous material by a wet process such as etching or the like without increase in a relative permittivity and influence of a structure disorder, and to provide a method for forming the wiring.例文帳に追加

比誘電率の上昇や構造破壊をおよぼすことなく、多孔質材料からなる基板の表面に耐食性の優れた配線をエッチング等のウェットプロセスによって形成した配線基板、および、この配線を形成する配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus, and a method for producing a quartz glass tube by a pressurized hot plug insertion process, suppressing a fluctuation of the inner and the outer diameters of the quartz glass tube and having the required inner and outer diameters and good surface properties free from defects.例文帳に追加

熱間プラグ圧入法により石英ガラス管を製造する方法において、製造される石英ガラス管の内外径の変動を抑制し、さらに疵などのない表面性状の良好な所定の内外径を有する石英ガラス管の製造装置および製造方法の提供。 - 特許庁

In the test piece creating process, a planar rubber base material 5 made of the same rubber composition as the tread rubber 2 is adhered to a backing material 6 which is attached to one surface 5a of the rubber base material 5 and a made of a material having smaller thermal shrinkage than the rubber base material 5 by vulcanization.例文帳に追加

前記試験片作成工程は、前記トレッドゴム２と同一のゴム組成物からなる板状のゴム基材５と、該ゴム基材５の一方の面５ａに添着されかつ前記ゴム基材５よりも熱収縮率が小さい材料からなる裏当て材６とを加硫により接着する。 - 特許庁

This relates to a vacuum tube (1) for power process or conversion, for instance, an X-ray tube or a traveling wave tube having at least one surface that is cooled during operation by heat radiation together with a getter that is useful for avoiding undesirable pressure increase.例文帳に追加

本発明は、電力の処理又は転換のための真空管（１）に関し、例えば、望ましくない圧力増加を回避するために役立つゲッターと同様に、操作中に熱の放射によって冷却される、少なくとも一つの表面を含むＸ線管又は移動する波の管に関する。 - 特許庁

The method for manufacturing the resin material coated with high resistivity metallic thin film includes a thin film formation process for forming the high resistivity metallic thin film containing Al and Mg on the surface of the resin base materia by a pulse laser deposition method using a target divided into a metal Al region and a metal Mg region.例文帳に追加

金属Ａｌ領域と金属Ｍｇ領域に分割されたターゲットを用いて、パルスレーザーデポジション法により、樹脂基材表面にＡｌ及びＭｇを含む高抵抗金属薄膜を形成する薄膜形成工程を備えた高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for removing minute defects in a thin film solar battery that eliminates a risk of characteristic deterioration due to damage to the solar cell surface, cuts the increasing cost and requires neither additional troubelsome process nor complex mechanism.例文帳に追加

太陽電池セル表面を傷つけてその特性を低下させてしまう危険を伴わず、製造におけるコスト増大を招くことなく、工程の煩雑さを増加させることなく且つ複雑な機構を必要としない薄膜太陽電池内の微小欠陥部除去方法等を提供する。 - 特許庁

The method executes an electroforming process to obtain a master substrate which is a metal board having an uneven pattern corresponding to transfer information transferred to its surface from an inversion mold having the inversion uneven pattern, and forms a magnetic layer on the uneven pattern of the master substrate.例文帳に追加

反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solar cell, by which contact resistance of a light-receiving surface-side electrode to a semiconductor substrate reliably reduced without performing a complex process such as a chemical treatment using an acid and without causing damage of the internal structure of the solar cell.例文帳に追加

酸による化学処理などの煩雑な工程を実施することなく、かつ太陽電池セルの内部構造の損傷を引き起こすことなく、受光面側電極の半導体基板に対する接触抵抗を確実に低めることを可能とする太陽電池セルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A substrate W is carried into a cooling plate and is supported and placed on the upper surface of a cooling plate 240 of the cooling plate, a cover 230 and an air guide 220 descend for forming a substantially closed space DS on the cooling plate 240, and then the cooling process for the substrate W is started.例文帳に追加

基板ＷがクーリングプレートＣＰに搬入され、基板ＷがクーリングプレートＣＰの冷却プレート２４０上面に支持載置され、カバー２３０、エアガイドカバー２２０が下降し、冷却プレート２４０上にほぼ閉じた空間ＤＳを形成した後、基板Ｗの冷却工程が開始される。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having excellent mechanical strength concurrently with surface lubricity even after its service, and further made good in electrophotographic characteristics, and constituted so that even a general cleaning blade is not twisted and to provide an electrophotographic device and a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

優れた機械的強度と表面潤滑性を耐久後まで併せ持つ、さらにいえば、電子写真特性が良好であり、一般的なクリーニングブレードでも捲れの起こらない電子写真感光体、該電子写真感光体を有する電子写真装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic method which can maintain good environmental resistance and image quality for a long period without being deteriorated of photoreceptor surface by the ozone by a corona discharge and various kinds of ions even if it is repetitively used in a copying process and an electrophotographic device.例文帳に追加

複写プロセス中で繰返し使用しても、コロナ放電によるオゾンや各種イオンによって感光体表面が劣化されることなく長期間良好な耐環境性、画像品質を維持することができる電子写真方法および電子写真装置を提供すること。 - 特許庁

The film thickness measuring method includes a process of calculating the film thickness of the second cell layer on the basis of transmissivity at an optional position within the substrate surface where a transparent electrode layer and a photoelectric conversion layer are formed and a transparent electrode layer haze ratio and a first cell layer film thickness measured beforehand.例文帳に追加

透明電極層及び光電変換層が形成された基板面内の任意の位置における透過率と、予め測定された透明電極層ヘイズ率及び第１セル層膜厚とに基づき、第２セル層の膜厚を算出する工程とを含む膜厚計測方法。 - 特許庁

The antistatic electricity component including a ceramic substrate 1, a varistor layer 3, and a glass ceramic layer 2 is formed with a glass ceramic layer 4 formed on the surface of the ceramic substrate opposite to that with the varistor layer to remove the warp in a manufacturing process.例文帳に追加

この課題を解決するために、セラミック基板１とバリスタ層３とガラスセラミック層２を有する静電気対策部品において、製造時の反り解消用として、セラミック基板のバリスタ層を設けた面と反対側の面にガラスセラミック層４を設けた構成とするものである。 - 特許庁