「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(159ページ目) - Weblio英語例文検索

A process to carry out pretreatment for adhesion of the friction material on the back plate 1 is devised to carry out cleaning of the back plate 1 by steam treatment, to favorably remove an oxide film 2 formed on a surface of the back plate by shot blast treatment, to roughen the back plate surface simultaneously and thereafter to apply a resin coat layer 3 to make it rustproofing on the back plate.例文帳に追加

裏板１に対し、摩擦材接着のための前処理を行う工程において、裏板１の洗浄を水蒸気処理によって行い、次いで裏板の表面に形成された酸化被膜２を好ましくはショットブラスト処理によって除去し、同時にその処理で裏板表面を粗面化し、しかる後、裏板に不錆化のための樹脂コート層３を施すようにした。 - 特許庁

To provide an electroplating method for a circuit board, which provides a plated film of high quality even on a minute conductor surface by surely removing air bubbles in a chemical solution, which are trapped on the conductor surface, without requiring a large remodeling of a present plating equipment, in a continuous, chemical treatment process for electrolytically depositing metal on the conductor of the circuit board.例文帳に追加

回路基板の導体上に電気メッキで金属を析出させるための連続した薬液処理工程において、現有のメッキ装置の大幅な改造を必要とせずに、薬液中で導体表面に付着する気泡を確実に除去して、微細な導体表面においても高品質なメッキ皮膜を得ることができる回路基板の電気メッキ方法を提供する。 - 特許庁

This semiconductor manufacturing method comprises a step for distributing nonmetallic elements to a surface-adjacent area on a semiconductor layer, a process for stacking a metal film on the semiconductor layer and a process that epitaxially grows a semiconductor metal compound layer through interactions between the semiconductor layer elements and the metal film metals by thermal metal film treatment.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体層における表面近傍の領域に非金属元素を分布させる工程と、半導体層の上に金属膜を堆積する工程と、金属膜に熱処理を施して半導体層を構成する元素と金属膜を構成する金属とを反応させることにより、半導体層の表面に半導体金属間化合物層をエピタキシャル成長させる工程とを備える。 - 特許庁

A method for forming an insulating film comprises a process for irradiating a substrate surface having a silicon oxide thin film on a semiconductor substrate with vacuum ultraviolet rays in a vacuum container retained in high vacuum; and a process for performing either nitriding or oxynitriding treatment in the vacuum container retained in a high vacuum state without exposing the substrate to the atmosphere after the irradiation of vacuum ultraviolet rays.例文帳に追加

本発明の絶縁膜の形成方法は半導体基板上にシリコン酸化薄膜を有する基体表面を高真空に保持された真空容器内で真空紫外光を照射する工程と、真空紫外光照射後に基体を大気に暴露することなく、高真空状態に保持された真空容器内で窒化或いは酸窒化いずれかの処理を行う工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The processing method for introducing a raw process gas inbetween a pair of electrodes, of which the opposing surface of at least one electrode is coated with a solid dielectric, and processing a substrate to be treated with the plasma provided by means of applying an electric field inbetween the electrodes, is characterized by introducing the raw process gas between the electrodes, through at least two flow-rate control units arranged in parallel.例文帳に追加

少なくとも一方の電極対向面を固体誘電体で被覆した一対の電極間に原料処理ガスを導入し、電極間に電界を印加することにより得られるプラズマで被処理基材を処理する方法であって、原料処理ガスの電極間への導入を並列にした少なくとも２つの流量制御装置を介して行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法及びその装置。 - 特許庁

A method to manufacture a toner for electrostatically-charged image development includes: a process to produce water-based fluid dispersion of heteroaggregation which contains at least a resin particle and a coloring material; and a process to produce a shell layer by adding a polymerizable monomer to the water-based fluid dispersion of heteroaggregation in the presence of a polymerization initiator, and by providing seed polymerization of the polymerizable monomer to a surface of the heteroaggregation.例文帳に追加

少なくとも樹脂粒子と着色剤を含有するヘテロ凝集体の水系分散液を作製する工程、前記ヘテロ凝集体の水系分散液に重合開始剤存在下で重合性単量体を添加し、前記ヘテロ凝集体表面に重合性単量体をシード重合してシェル層を作製する工程を有することを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the bulkhead of the biochip 100 including the substrate 10 and the bulkhead 20 sectioning the surface of the substrate 10 includes: a process to form a first film on the substrate using a composition including a coloring agent (A), a polyfunctional monomer (c) having 3-6 polymerizable unsaturated bonds, and a radiation-sensitive polymerization initiator (D); and a process to perform patterning of the first film to form the bulkhead 20.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、着色剤（Ａ）、重合性不飽和結合を３つ以上且つ６つ以下有する多官能性単量体（ｃ）、感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含む組成物を用いて基板上に第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁２０を形成する工程を備える。 - 特許庁

A process where an III-V compound semiconductor layer comprising at least nitrogen and arsenic as group V elements is crystal-grown on a single crystal substrate is comprised, which comprises a process where a nitrogen material is supplied on the single crystal substrate so that the nitrogen material at least interacts with an aluminum on the crystal growth surface of the compound semiconductor layer.例文帳に追加

単結晶基板上に、Ｖ族元素として少なくとも窒素および砒素を含むIII−Ｖ族化合物半導体層を結晶成長させる工程を包含し、該化合物半導体層を結晶成長させる工程が、窒素原料がアルミニウムと、少なくとも該化合物半導体層の結晶成長表面で相互作用するように、該単結晶基板上に窒素原料を供給する工程を包含する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process for impregnating, an electrode group 2 including positive and negative electrodes with a gel electrolyte precursor including monomers having a molecular weight of 200 to 100,000 having two or more polymerizable functional groups in one molecule; non-aqueous electrolyte; and a surface active agent (phosphoric trialkyl and the like having a 3-10C alkyl group), and the process of gelating the gel electrolyte precursor.例文帳に追加

正極及び負極を含む電極群２に、１分子中に重合可能な官能基を２つ以上有する分子量が２００〜１０万のモノマーと非水電解液と界面活性剤（炭素数３−１０のアルキル基を有する燐酸トリアルキル等）とを含むゲル電解質前駆体を含浸させる工程と、前記ゲル電解質前駆体をゲル化させる工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device using the adhesive sheet for spacers comprises: a process for preparing the adhesive sheet for spacers having a spacer layer with an adhesive layer at least on one surface, dicing the adhesive sheet for spacers, and forming a chip-like spacer having the adhesive layer; and a process for fixing the spacer to the body to be deposited via the adhesive layer.例文帳に追加

スペーサ用接着シートを用いた半導体装置の製造方法であって、前記スペーサ用接着シートとして、少なくとも一方の面に接着剤層を備えたスペーサ層を有するものを用意し、前記スペーサ用接着シートをダイシングして、接着剤層を備えたチップ状のスペーサを形成する工程と、前記スペーサを、前記接着剤層を介して被着体に固定する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The oxide film formation method has a pretreatment process for forming a protection oxide film in a surface of a wafer by carrying out oxidation treatment by active oxidation species, or atmosphere containing active oxidation species under evacuation conditions for a wafer disposed inside a reaction container; and an oxide film formation process for forming an oxide film by performing oxidation treatment for the wafer at a prescribed temperature under evacuation conditions.例文帳に追加

酸化膜形成方法は、反応容器内に配置されたウエハについて、減圧条件下に、活性酸化種または活性酸化種を含む雰囲気による酸化処理を行うことにより、ウエハの表面に保護酸化膜を形成する前処理工程と、このウエハについて、減圧条件下において所定の温度で酸化処理することにより、酸化膜を形成する酸化膜形成工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic photoreceptor having a surface layer containing at least the flouroresin particles on a conductive support is characterized by manufacturing the organic photoreceptor by applying the coating liquid manufactured by using the dispersion liquid obtained by subjecting the flouroresin particles mixed with the solution to circulation through a plurality of times of a dispersing process and a filtering process by liquid collision under reduced pressure.例文帳に追加

導電性支持体上に、少なくとも含フッ素樹脂微粒子を含有した表面層を有する有機感光体の製造方法において、溶液に混合した前記含フッ素樹脂微粒子を高圧下の液衝突により分散する工程と濾過工程を複数回循環させて得られた分散液を用いて製造された塗布液を塗布して製造することを特徴とする有機感光体の製造方法。 - 特許庁

In the oxidation method whereby the surface of the workpieces W, on which at least the nitride film is exposed, is oxidized in a processing vessel 8 accommodating a plurality of the workpieces W concurrently, the nitride film is oxidized by mainly using hydroxyl active species and oxygen active species in a vacuum atmosphere under a process pressure of 133 Pa or below at a process temperature of 400°C.例文帳に追加

一度に複数枚の被処理体Ｗを収容できる処理容器８内にて、表面に少なくとも窒化膜が露出している被処理体の表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて水酸基活性種と酸素活性種とを主体として用いると共に、プロセス圧力を１３３Ｐａ以下に設定し、且つプロセス温度を４００℃以上に設定して前記酸化を行なう。 - 特許庁

The producing method of the photocatalytic material formed by oxidizing the surface of a base material composed of titanium or a titanium alloy is provided and includes a process for anodically oxidizing the base material in an electrolyte containing an organic acid and/or the salt of the organic acid and a process for further oxidizing the anodically oxidized base material by air.例文帳に追加

上記の課題は、チタンまたはチタン合金から成る基材の表面を酸化して成る光触媒材料の製造方法であって、（Ａ）前記基材を有機酸および／または前記有機酸の塩を含む電解液中において陽極酸化する工程、および（Ｂ）陽極酸化された前記基材を更に大気酸化する工程を含むことを特徴とする製造方法とすることによって解決される。 - 特許庁

This production method for the optical resin material containing an inorganic oxide fine particle having 1 nm or more to 50 nm or less of average particle size in a host resin material, includes a process for substituting a dispersion of the inorganic oxide fine particle with a solvent by ultrafiltration, and a process for bringing a surface of the inorganic oxide fine particle into an hydrophobic state in the solvent.例文帳に追加

ホスト樹脂材料中に、平均粒子径が１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子を含有する光学用樹脂材料の製造方法であって、該無機酸化物微粒子の分散液を限外濾過により溶媒置換する工程、及び該無機酸化物微粒子が溶媒中で表面疎水化処理される工程を含むことを特徴とする光学用樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

The method of obtaining the porous body includes a process for preparing a target containing an inorganic material and the porous base material and a process for forming the porous film by arranging the target and the porous base material under 1-200 Pa atmospheric pressure, irradiating the target with pulse laser having 5-500 Hz frequency to produce the vapor of the inorganic material, and depositing the vapor on the surface of the porous base material.例文帳に追加

この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、１〜２００Ｐａの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が５〜５００Ｈｚの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

Even the cleaning method for cleaning the semiconductor substrate by a chemical liquid comprises a first cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by a mixed solution containing fluorine-ozone water in a composition for preventing fluorine from remaining, and a second cleaning process for cleaning the semiconductor substrate by the ozone water in a composition for successively making the surface of the semiconductor substrate hydrophilic.例文帳に追加

半導体基板を薬液で洗浄する洗浄方法であって、半導体基板表面にフッ素が残留しない組成のフッ酸−オゾン水を含む混合溶液で該半導体基板を洗浄する第１の洗浄工程と、引き続き半導体基板表面を親水性化する組成のオゾン水で該半導体基板を洗浄する第２の洗浄工程とを有することを特徴とする半導体基板の洗浄方法である。 - 特許庁

A manufacturing method of the polarized light separating sheet has a process of laminating at least three layers constituted of at least two kinds of materials having mutually different refractive indexes on a plurality of prisms 12 of a transparent base material 11 having a plurality of prisms 12 on one main surface and a process of forming a flattened layer 14 on the lamination structure 131, 132.例文帳に追加

本発明の偏光分離シートの製造方法は、一方の主面上に複数のプリズム１２を有する透明基材１１の前記複数のプリズム１２上にそれぞれ異なる屈折率を有する少なくとも２種類の材料で構成された層を少なくとも３層積層する工程と、この積層構造１３１，１３２上に平坦化層１４を形成する工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a retardation film comprises a process for obtaining a polymer film by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as an essential component into a solvent comprising at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, casting the prepared solution into the surface of the substrate to be a sheet shape, and vaporizing the solvent and a process for stretching the polymer film.例文帳に追加

トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも１種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the cast for manufacturing the microchannel substrate having metal projections for forming microchannels, each of which has a width of 1 mm or below and a height of 1 mm or below, on a metal substrate comprises a process for forming microchannel-like projections on the metal substrate and a process for grinding the upper surface parts of the microchannel-like projections using a minute rotary body.例文帳に追加

金属基板上に巾１ｍｍ以下、高さ１ｍｍ以下のマイクロチャネル形成用の金属突起部を有するマイクロチャネル基板作製用鋳型の作製方法であって、金属基板上にマクロチャネル状突起部を形成する工程、及びマクロチャネル状突起部の上面部を微小な回転体を用いて研磨する工程、を有することを特徴とするマイクロチャネル基板作製用鋳型の作製方法。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer of a semiconductor memory device, capable of filling a fluid first insulating film on the bottom surface of a trench, forming a second insulating film, then performing a dry etching process and a wet etching process and reducing the amount of fluorine (F) included in the second insulating film while expanding the top width of the trench.例文帳に追加

本発明は、トレンチの底面に流動性の第１の絶縁膜を満たし、第２の絶縁膜を形成した後に乾式エッチング工程及び湿式エッチング工程を行ってトレンチの上部の幅を広げながら第２の絶縁膜に含まれるフッ素(Ｆ；fluorine；フローリン)の量を減少させることができる半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

When a photosensitive insulating resin is used as the surface protective layer of a circuit wiring pattern on the substrate, or when the photosensitive insulating resin is used as an insulation layer between circuit wiring conductor layers; multivalent metal substitutes for Na ions adsorbed to the photosensitive insulating resin by subjecting to a treatment process containing the Na ions performed after a thermosetting process of the photosensitive insulating resin.例文帳に追加

回路基板に於ける回路配線パタ−ンの表面保護層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、又は回路配線導体層間の絶縁層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、その感光性絶縁樹脂の熱硬化処理工程以後に行われるＮａイオンを含む処理工程を経由することにより感光性絶縁樹脂に吸着されるＮａイオンを多価金属に置換する。 - 特許庁

In a film formation method for forming a silicon oxide film on the processing object W whose metal surface has been exposed within the processing container 22 for vacuum treatment, an Si-contained gas supply process for supplying Si-contained gas to the above processing container 22, and an oxidation-reduction supply process for simultaneously supplying oxide gas and oxidation-reduction gas to the above processing container 22, are alternately executed intermittently.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器２２内で金属の表面が露出している被処理体Ｗにシリコン酸化膜を形成する成膜方法において、前記処理容器２２内へＳｉ含有ガスを供給するＳｉ含有ガス供給工程と、前記処理容器２２内へ酸化性ガスと還元性ガスとを同時に供給する酸化還元ガス供給工程とを、間欠的に交互に繰り返し行うようにする。 - 特許庁

The electron emitting elements comprises at least one or more anode electrodes formed on the second substrate, at least one or more fluorescent layers formed on the anode electrodes, the surface treatment layer formed on the surface of fluorescent layers containing the functional substance that remains even after the baking process for forming the fluorescent layer, and the light-emitting containing one or more metallic thin films formed so as to cover the surface treatment layer.例文帳に追加

本発明の他の実施例による電子放出素子は、第２基板に形成される少なくとも一つ以上のアノード電極；前記アノード電極に形成される少なくとも一つ以上の蛍光層；前記蛍光層の表面に形成され、蛍光層を形成するための焼成工程後にも残存する機能性物質を含む表面処理層；及び前記表面処理層を覆うように形成される一つ以上の金属薄膜を含む発光部；からなる。 - 特許庁

This antithrombogenic material is formed by reacting hyperbranched polymer with polyalkylene glycol to compose multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains, reacting the obtained multibranched polymer with the polymer material surface having a reactive functional group and preparing the multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains on the polymer material surface in a process of preparing the multibranched polymer containing the polyalkylene glycol chains on a polymer material surface.例文帳に追加

ポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を高分子材料表面に作製する工程において、ハイパーブランチポリマーとポリアルキレングリコールとを反応させてポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を合成し、次いで、得られた前記多分岐高分子化合物と反応性官能基を有する高分子材料表面とを反応させることによりポリアルキレングリコール鎖を含む多分岐高分子化合物を高分子材料表面に作製されてなる抗血栓性材料。 - 特許庁

Furthermore, a circular folded portion is provided, or a groove of an arcuate, triangular or rectangular section is formed on the lower surface of the casing so that the flatness of the casing and the gap between a diaphragm and a backplate are uniformly maintained against outer pressure applied during a curling process in the processes for manufacturing the variable capacitance microphone.例文帳に追加

また、ケースの下面に円形の折曲部を設けるか、または、円弧形、三角形、四角形の溝を形成して、可変容量マイクロフォンの製造工程におけるカーリング工程中に加わる外圧に対し、ケースの平坦度と振動板と固定電極との間のギャップを一定に維持する。 - 特許庁

A process of manufacture of a building panel for a house comprises the steps for fixing a frame material 2 to a surface panel 1, for transferring a panel unit 3 in a horizontal posture by a conveyer 4, and for filling a synthetic resin foaming body in the frame material 2 of the transferred panel unit 3.例文帳に追加

住宅用建築パネルの製造方法は、表面パネル１に枠材２を固定する工程と、パネルユニット３を水平な姿勢でコンベア４で移送する工程と、移送されるパネルユニット３の枠材２の内側に合成樹脂発泡体Ｇを充填する工程とからなる。 - 特許庁

To provide a developing device designed such that developer separated from the surface of a developer carrier by an agent separating pole is prevented from being scooped onto the developer carrier by a scooping pole right after the separation and satisfactory, stable image quality is assured, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

剤切れ極で現像剤担持体上から脱離した現像剤が、その直後に汲み上げ極で現像剤担持体上に汲み上げられてしまう不具合の生じない、画質が良好で安定した現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a sheet, which has an end surface that prevents trouble such as short-circuiting due to exposure of metal at a sheet end when a metal foil for improving heat dissipation and barrier properties is used to constitute a back sheet used for a solar cell module, through a stable and efficient process.例文帳に追加

太陽電池モジュールに使用するバックシートの構成に熱放散とバリア性の向上のために金属箔を用いる場合に、シート端部の金属の露出による短絡等の障害を防止することの出来る端面を備えたシートを、安定した効率的な工程で製造すること。 - 特許庁

In all transistors TA-TC, a well 11 is formed in the same manner, and a quantity of impurity to be injected to the surface of a substrate 100 for adjusting threshold voltage is set, thereby simplifying a thermal history during formation of impurity area and easing setting up of a wafer process.例文帳に追加

すべてのトランジスタＴＡ〜ＴＣで、ウェル１１を同じに形成するともにしきい値電圧調整用の基板１００の表面部への不純物注入量を同じに設定して不純物領域形成時の熱履歴を単純にし、ウェハプロセスの立ち上げを容易にする。 - 特許庁

A heat treatment process is introduced for making the surface of a silicon wafer coarse before forming a titanium film 12' for silicide, a crystal core is increased by making coarse the outermost layers of a gate electrode 17 and a source/drain region 15, and the phase transition of the formed titanium film 12' is made easy to occur.例文帳に追加

シリサイド用チタン膜１２’を形成する前に、シリコン基板の表面を粗面化させる熱処理工程を導入し、ゲート電極１７及びソース／ドレイン領域１５の表層を粗面化することによって結晶核を増加させ、形成したチタン膜１２’の相転移を起こしやすくする。 - 特許庁

The method for producing a formed sliced meat comprises slicing the meat rod formed by the meat rod forming container 1, and comprises a slicing process of holding the slanted surface part formed at the meat rod, and sending the meat rod in a direction of a cutting blade to be sliced.例文帳に追加

そして、食肉原木用成型器１によって成型した食肉原木をスライスして成型スライス食肉を製造する方法を、食肉原木に形成された斜面部分を把持して、食肉原木を切断刃の方向に送りスライスするスライス工程を含むようにする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for Mg or Mg alloy which makes the rust prevention of the Mg or Mg alloy possible by a simple process step after performing a chemical conversion treatment of the Mg or Mg alloy and is capable of maintaining good conductivity according to the purposes and applications of materials.例文帳に追加

Ｍｇ又はＭｇ合金の化成処理を行った後に、簡単な工程によってＭｇ又はＭｇ合金の防錆が可能で、しかも、材料の目的・用途に応じて良好な伝導性を保持することができるＭｇ又はＭｇ合金の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacture of a semiconductor device 10, driving circuits 50a, 50b preliminarily fabricated on a temporary substrate are transferred onto the surface of a flexible board 20, and then, an organic semiconductor layer is formed by a liquid phase process to fabricate an organic TFT 10a.例文帳に追加

半導体装置１０の製造に際して、予め暫定基板に形成した駆動回路５０ａ、５０ｂをフレキシブル基板２０の表面に転写し、その後に、有機半導体層を液相プロセスで形成して有機ＴＦＴ１０ａを形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a vacuum suction stage avoiding problems due to the remaining of water, steam and chemical, which are used in a wet process, on the wafer rear face and the surface of the vacuum suction stage, and to provide a semiconductor manufacturing method that uses the stage.例文帳に追加

本発明は、ウェット工程で用いられる水、水蒸気（蒸気）、薬液などがウェーハ裏面又は真空吸着ステージ表面に残留することによる諸問題を回避できる真空吸着ステージおよびそれを用いた半導体製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a toner which has good cleanability and capable of maintaining good image qualities and preventing scratches from occurring on the surface of a photoreceptor; to provide a method for manufacturing the toner; to provide a developer; and to provide a process cartridge, and an image forming method.例文帳に追加

電子写真プロセスにおけるクリーニング性を高め、しかも画像品質を良好に保つことが可能であり、感光体表面に発生する傷の発生を効果的に抑制することができるトナー及び該トナーの製造方法、現像剤、プロセスカートリッジ、及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

This radio IC tag 1 is characterized in that a concave section 3 is formed on the surface of a protection body 2 configured by incorporating the radio IC tag 1 mixed in the manufacturing process of a cement product of kneading cement, an aggregate and water, and equipped with an antenna part capable of writing/reading information by radio communication.例文帳に追加

セメント、骨材、水等を混練するセメント製品の製造工程で混入され、無線交信で情報の書き込み・読み取り可能なアンテナ部を備えた無線ＩＣタ１グを内蔵してなる保護体２の表面には凹部３を設けたことを特徴とする無線ＩＣタグ１とした。 - 特許庁

To prepare a pressure-sensitive adhesive tape which excels in follow-up adhesion to an adherend having fine irregularities in the surface such as metallic plates and, in addition, can hold down a rise in the cost of a pressure-sensitive adhesive and the price of final products without requiring complicated process control.例文帳に追加

本発明は、金属板等の微小な凹凸表面を有する被着体に対する追従密着性に秀で、且つ、複雑な工程管理を要することなく、しかも粘着剤コストや最終製品価格の上昇を抑えることのできる粘着テープを提供する。 - 特許庁

In a manufacturing process, the gasket 15 is increased in diameter and pressed in the negative electrode cap 10, and thereafter the negative electrode cap 10 is brought into tight contact with the gasket 15, thereby preventing the electrolyte 40 on a contact surface X between the both from entering, staying, and leaking out.例文帳に追加

製造工程ではガスケット１５を拡径し、負極キャップ１０に圧入することにより、圧入後において負極キャップ１０とガスケット１５とを強く密着させ、両者の接触面Ｘにおける電解液４０の浸入、滞留並びに外部への漏出を防止する。 - 特許庁

A known standard defect 9 is provided in a sample 2, the defect appearing on a surface of the sample 2 is detected, and prescribed processing recipe evaluation information that varies in response to difference in a processing recipe used in the prescribed production process is acquired, based on a detection result of the standard defect 9.例文帳に追加

試料２に既知の標準欠陥９を設けて、試料２の表面に現れる欠陥を検出し、所定の製造プロセスで使用された処理レシピの相違に応じて変化する所定の処理レシピ評価情報を、標準欠陥９の検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

The non-aqueous ink formulation, whose viscosity at 23°C is not more than 30 mPas, comprises a solvent, a color pigment, a dispersant and solid particles which prevent the transfer of a color pigment from the surface to the backside of recording paper in a printing process and do not practically have tinting ability.例文帳に追加

溶剤、着色顔料、分散剤を含み、２３℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下の非水系インク組成物であって、記録紙への印刷時に着色顔料が記録紙表面から裏面へ移動することを阻止する実質的に着色能を有さない固体粒子を含有する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a prepreg which is excellent in surface smoothness, has uniform thickness on both sides and shows little variation in the content of a resin varnish which can be used for a plastic substrate used for a printed wiring board or a liquid crystal display device, and a transfer sheet used for the same.例文帳に追加

プリント配線板あるいは液晶表示装置に用いられるプラスチック基板に使用可能な樹脂ワニスの含有量にばらつきが少なく、表裏の厚みが均一な、表面平滑性に優れたプリプレグの製造方法を提供し、これに用いる転写シートを提供する。 - 特許庁

The processing method includes a basic shape forming step of forming a recess pattern smaller in depth than a recess shape on a surface of a workpiece; and a shape growth step of irradiating the recess pattern with laser light which has a beam diameter larger than a width of the recess pattern so as to process the recess shape.例文帳に追加

被加工物表面に前記凹形状よりも深さが浅い凹形パターンを形成する基本形状形成工程と、前記凹形パターンの幅よりも大きいビーム径のレーザ光を、前記凹形パターンに照射して、凹形状を加工する形状成長工程とを有する。 - 特許庁

A reflection polarizing film protecting sheet 131 manufactured by a stretching process at a low manufacturing cost using a polyethylene terephthalate based material so that brightness is enhanced, visual angle is improved and a moire phenomenon is prevented is disposed on the upper surface of a reflection polarizing film 132 enhancing light brightness.例文帳に追加

光の輝度を大幅向上させる反射偏光フィルム１３２の上面に輝度向上、視野角改善、モアレを防止するように延伸工程により製作されたポリエチレンテレフタレート系列物質を使用した低い製作コストの反射偏光フィルム保護シート１３１を配置した。 - 特許庁

By adopting this process, bonding of the impurities contained in the atmospheric air to the surface of the semiconductor film is prevented, and contamination (diffusion) of the impurities into the semiconductor layer during the crystallization by light irradiation, which is a fourth step that follows the third step, is also prevented.例文帳に追加

本プロセスによれば、大気中等に含まれる不純物が半導体膜表面に結合することを防ぐことができるとともに、上記第３工程に続く第４工程としての光照射による結晶化において、半導体層中に不純物が混入（拡散）することを防げる。 - 特許庁