「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(156ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the image recording body has a process of forming the image receiving layer by coating the surface of the base with a coating solution constituted at least of the resin particles of the hot-melt resin, the bonding resin for bonding the resin particles and a solvent.例文帳に追加

前記画像記録体の製造方法は、少なくとも、熱溶融性樹脂からなる樹脂粒子と、該樹脂粒子を接着するための結着樹脂と、溶媒と、からなる塗工液を基材表面に塗布して画像受像層を形成する工程を具備する。 - 特許庁

To improve the flexibility of process design of a heteroepitaxial growth film, by reducing the restriction on thickness of the film, required to make compatible relief of stress of the film and suppression of a density of crystal defects that are generated with the relief and grow up to the surface of the film.例文帳に追加

ヘテロエピタキシャル成長膜の、応力の緩和と、緩和に伴って発生し表面へ貫通する結晶欠陥の密度の抑制を両立させるために要求される、膜厚に対する制限を低減し、プロセス設計の自由度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thermally expandable micro particle having fine organic resin particulates adhering to its surface, wherein coagulation and fusion in a heating foaming process is significantly suppressed, and to provide the thermally expansive micro particle and an expanded micro particle obtained by the method.例文帳に追加

加熱発泡工程での凝集、融着が大幅に改善された、表面に有機樹脂微粒子が付着した熱膨張性マイクロ粒子の製造方法、これにより得られた熱膨張性マイクロ粒子および膨張済みマイクロ粒子を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment system in which in-plane uniformity can be enhanced in the treatment for enhancing durability in etching process by varying the inclining direction of a mounting table sequentially through a relatively simple arrangement thereby fixing a resist film onto the surface of an article being treated.例文帳に追加

比較的簡単な構成で載置台の傾斜方向を順次変化させることにより、被処理体の表面にレジスト膜を固定させ、エッチング工程における耐性を高める処理の面内均一性を向上させることが可能な処理装置を提供する。 - 特許庁

The colloid-like solid adhering to a buffer layer surface that is a deposition film deposited by chemical bath deposition process is removed by at least one of ultrasonic cleaning using a plurality of ultrasonic waves with different frequencies and brush cleaning.例文帳に追加

化学浴析出工程により析出された析出膜であるバッファ層表面に付着しているコロイド状固形物を周波数の異なる複数の超音波を用いた超音波洗浄およびブラシ洗浄の少なくとも一方の処理によって除去する。 - 特許庁

For another drawing mode (based on α, for example), the hidden surface elimination process is executed close to the end of the pipeline, and by that time, the pipeline has generated information demanded by the specific drawing mode to be sufficient for interpreting depth comparison.例文帳に追加

他の（たとえば、アルファに基づく）描画モードに関しては、隠面消去処理は、パイプラインの終端付近で行なわれ、そのときまでには、パイプラインは、デプス比較を解釈するのに充分な、特定の描画モードによって要求されている情報を生じさせている。 - 特許庁

The backlight system 6 is formed by bonding the adherend 30 for emitting light, and an optical film subjected to roughening process for increasing the surface area through an adhesive layer 20 containing an adhesive polymer having a gel fraction of 35-85%.例文帳に追加

光が出射される被着体３０と、表面積が増加するように凹凸加工処理を施した光学フィルム１０とを、ゲル分率が３５〜８５％である粘着剤ポリマーを含む粘着剤層２０を介して接合していることを特徴とするバックライトシステム６。 - 特許庁

The signal processing section 12 detects elimination of irregularities from the wafer surface based on the output signal from the acoustic measuring instrument 8, determines the polishing time based on the required amount of polishing and the polishing speed and decides that the polishing process has ended upon elapsing that time.例文帳に追加

信号処理部１２は、音響測定器８の出力信号に基づいてウェハ表面の凹凸の消滅を検出し、その後は、研磨必要量と研磨速度から研磨時間を求め、その時間を経過した時を研磨研磨プロセスの終了と判定する。 - 特許庁

To make press fitting equipment for attaching a friction damper to a transmission unnecessary and facilitating an attachment process by avoiding metal contact of a core metal and a gear shaft or a gear, and avoid a rolling surface from being roughened by preventing formation of foreign matter during attachment.例文帳に追加

芯金と歯車軸又は歯車との金属接触を回避して、フリクションダンパの変速機への組付時の圧入設備を不要なものとし、組付工程を容易なものにするとともに、組付時の異物の発生を防止し、転動面の面荒れを回避すること。 - 特許庁

To provide a fin material made of aluminum which is excellent in heat resistance and in which discoloration of a surface treated film is suppressed even if it is thermally affected during a manufacturing process of a tube heat exchanger with a plate fin, and at the same time, hydrophilicity can be sufficiently secured, and a fin using the same.例文帳に追加

耐熱性に優れ、プレートフィン付チューブ熱交換器の製造工程で熱的影響を受けても表面処理皮膜の変色が抑えられると共に、親水性が充分に確保されるアルミニウム製フィン材およびこれを用いたフィンを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor, capable of always maintaining a process at a fixed etching rate and accurately processing with low micro loading effects, high selectivity, high reproducibility and a method for treating the surface of a substrate to be treated, by using the apparatus for manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

常に一定のエッチングレートでプロセスを維持することができ、低マイクロローディング効果、高選択性、高再現性、高精度加工を可能とする半導体製造装置および該半導体製造装置を用いた被処理基板表面の処理方法の提供。 - 特許庁

This sterilization method is a surface modification, implantation and sterilization method in a single process for bioactively coating of a material and biological material used in a medical device such as a catheter, a tissue engineering scaffold, or a medicine delivery carrier material.例文帳に追加

本発明は、カテーテル、組織工学スカフォールド、または薬品供給担体材料のような医療装置に使用される材料及び生物材料に生物活性コーティングするために、単一の工程での表面変形、移植及び殺菌用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which includes a wafer precleaning process capable of hydroplilically treating the wafer face, at the same time with suitably removing the Cu metal pollution adhering to the rear, etc., of a wafer when a Cu plating film is made on the surface of the wafer.例文帳に追加

ウェハ表面にＣｕメッキ膜を形成したときにウェハ裏面等に付着するＣｕ金属汚染を好適に除去すると同時に、ウェハ面を親水化処理することが可能なウェハ前洗浄工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic elastomer composition which is prevented from the surface migration of an oligomer component, a process oil, a stabilizer, etc., even when stored in the state of a powder or pellets for a long time or at a high temperature and hence does not lose is powder fluidity.例文帳に追加

粉末やペレットの状態での長期保存や高温保管にかかわらず、オリゴマー成分をはじめ、プロセスオイルや安定剤等の表面移行を阻止することにより、粉体流動性を維持した熱可塑性エラストマー組成物の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of an electronic component implements a wiring pattern forming process of forming an internal pattern wiring as a wiring at a remote place from a cut line 3 for cutting a base material frame 1 on the surface of the base material frame 1 as the substrate.例文帳に追加

この発明に従った電子部品の製造方法では、基板としての基材フレーム１の表面において、基材フレーム１を切削するための切削線３から離れた位置に配線としての内部パターン配線を形成する配線パターン形成工程を実施する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor with a surface layer capable of demonstrating a relaxation effect of contact stress with a contact member or the like and having excellent adhesion to a lower layer, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

接触部材等との接触ストレスの緩和効果を発揮することができ、かつ、下層との密着性にも優れた表面層を有する電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent touch panel capable of improving durability to sliding motion repeated by an input pen or the like regarding a transparent touch panel surface and a transparent conductive film, and suppressing a lowering of yield in assembling and conveying during a manufacturing process.例文帳に追加

透明タッチパネル表面および透明導電膜について入力ペン等によって繰り返される摺動に対する耐久性を向上させ、また製造工程中の組立時や搬送時の歩留まり低下を抑えることのできる透明タッチパネルを提供する。 - 特許庁

In the film temperature adjusting process section 16, a cooling wind ejection section 40 blows cooling wind from a side opposite from a casting roll 26 to cool the resin film 12 during transportation of the resin film 12 on the casting roll 26 (equivalent to "a secondary pinching surface").例文帳に追加

フィルム温度調節工程部１６では、樹脂フィルム１２がキャスティングロール（「第２挟圧面」に相当）２６上で搬送される間に、キャスティングロール２６とは反対側から、冷却風噴射部４０により冷却風を吹き付けて、樹脂フィルム１２を冷却する。 - 特許庁

More specifically, the method of manufacturing the spherical glass powder comprises introducing the glass raw materials in a gaseous state or atomized state into the plasma formed by the DC process and vitrifying the raw materials, then spheroidizing the formed glass droplets by surface tension and solidifying the solidified glass.例文帳に追加

具体的には、気体状態または霧化状態のガラス原料をＤＣ法によるプラズマ内に導入してガラス化し、形成したガラス液滴を表面張力により球状化させたのち凝固させる球状ガラス粉末の製造方法である。 - 特許庁

Then, after a p-type InP block layer 7 and an n-type InP block layer 8 are formed on both the sides of a ridge 6, the n-type InP block layer 8 formed on the (111) B surface of the p-type InP block layer 7 is removed by a second dry etching process.例文帳に追加

次に、リッジ部６の両側に、ｐ型ＩｎＰブロック層７およびｎ型ＩｎＰブロック層８を形成した後、ｐ型ＩｎＰブロック層７の（１１１）Ｂ面の上に形成されたｎ型ＩｎＰブロック層８を第２のドライエッチングによって除去する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor having no flow trace of an abrasive (abrasive grains) or a polishing liquid on the substrate surface without requiring to maintain the cleanliness of the dried substrate high in the drying process after rinsing the substrate.例文帳に追加

基体洗浄後の乾燥工程において、乾燥媒体の清浄度を高く保つことを必要とせずに、研磨剤（砥粒）や研磨液が基体表面を流れた痕跡等の無い電子写真感光体用円筒状基体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for manufacturing a wiring board 1 is provided with an electrolytic Cu plating process for dipping a board 51 having a via hole 19 opened on the surface 53 of the board 51 into an electrolytic Cu plating solution 105, allowing a current to flow into the solution 105, and forming a field via 21 in the via hole 19.例文帳に追加

配線基板１の製造方法は、基板表面５３に開口するビア孔１９を有する基板５１を電解Ｃｕメッキ液１０５中に浸漬し、電流を流してビア孔１９内にフィルドビア２１を形成する電解Ｃｕメッキ工程を備える。 - 特許庁

To acquire a desired adhesion area with a liquid level height which is unchanged after applying an adhesive onto an adhesion seat surface of a casing without complicating a manufacturing process, or without heightening cost thoughtlessly, and to prevent generation of peeling caused by deficiency of an adhesive strength.例文帳に追加

製造工程を複雑にしたり、コストをむやみに高騰させることなく、筐体の接着座面上に接着剤を塗布後に液面高さが変わらないようにして、所望の接着面積を得られるようにし、接着強さ不足による剥れの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a metal mask exhibiting excellent passing properties of solder or paste even in case of a micro-opening for facilitating high density mounting and capable of suppressing percolation to the rear surface, and a process for producing the metal mask which can be machined with high accuracy at a low cost.例文帳に追加

高密度実装が容易な微小開口部であっても、ハンダやペーストの抜け性に優れ、裏面への滲み出しを抑えることができるメタルマスクと、高精度に加工することができ、かつ低コストで製造できる該メタルマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the transfer in-mold moldings with a pictorial pattern layer formed by transferring a transfer layer to the surface of the moldings simultaneously with a resin molding process, the transfer layer is constituted of at least a reflective layer, a light-permeable refractive layer and the pictorial pattern layer.例文帳に追加

樹脂成形と同時に成形品の表面に転写層を転写することにより絵柄層を形成してなる転写インモ−ルド成形体において、該転写層の構成が少なくとも反射層と光透過屈折層、絵柄層を有する転写インモールド成形体。 - 特許庁

To provide a surface sheet excellent in productivity while having the merits such as being 'excellent in conventional adhesion, solvent resistance, abrasion resistance and stain resistance and industrially inexpensive, particularly, for rationalizing a process (meaning to make shift with one-stage processing)' and a toilet device having it.例文帳に追加

従来の「密着性、耐溶剤性、耐摩耗性、耐汚染性にすぐれ、工業上、特に工程の合理化（一段処理で済むという意味）されて安価」といったメリットを備えつつ、生産性に優れた表面シートおよびそれを備えたトイレ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive material adherable to a surface of almost of all products, especially useful for the adhesion to one or more surfaces of one more members of an aeronautics and aerospace vehicle, an automobile, a building, a furniture or the like and a process for using the adhesive material.例文帳に追加

ほぼあらゆる製品の表面に接着でき、特に航空宇宙ビークル、自動車両、建物、家具等の１つ以上の部材の１つ以上の表面への接着に有用である接着材料、その接着材料を使用するプロセスを提供する。 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxidizing process for exposing the semiconductor thin film 5 to the atmosphere containing gas with oxidization ability, where a pressure is 0.1 Mpa to 5 Mpa and a temperature is 100°C to 700°C, thermally oxidizing the surface of the polycrystalline silicon and forming the oxidized film 3 is carried out.例文帳に追加

この後、圧力が０．１Ｍｐａから５Ｍｐａ、温度が１００℃から７００℃で、酸化能力の有る気体を含む雰囲気に半導体薄膜５を暴露し、多結晶シリコンの表面を熱酸化して酸化膜３を形成する熱酸化工程を行う。 - 特許庁

Further, V1, S1 and T1 respectively show cooling water amount (cm3/sec) per unit time in a process until a strand is cut in the chip state, surface area (cm2/sec) of the strand brought into contact with cooling water and time (sec) in which cooling water is brought into contact with the strand.例文帳に追加

また、Ｖ１、Ｓ１、Ｔ１は各々ストランドがチップ状に切断されるまでの工程に於ける単位時間当たりの冷却水量（cm^3／ｓｅｃ）、冷却水が接触するストランドの表面積（ｃｍ^2／ｓｅｃ）、ストランドと冷却水が接触している時間(sec)を表す。 - 特許庁

Diameter of a reference hole when the case of the nozzle plate is bonded to the channel unit is set larger than the diameter of a reference pin 6 and a process required for providing a part not subjected to water repellent treatment on the nozzle plate can be eliminated by performing surface treatment up to the inner wall of the reference hole.例文帳に追加

また、ノズルプレートのケースと流路ユニットを接合する際の基準穴径を、基準ピン６の径よりも大きくし、基準穴内壁まで表面処理を行うことで、ノズルプレートの撥水処理を施さない部分を設ける工程を無くすことができる。 - 特許庁

To continue to process a constant radius of curvature of spherical surface form stably and continuously, without requiring a complicated regulation and a high skill, in the manufacture of a spherical form part such as a lens.例文帳に追加

レンズ等の球面形状部品の製造において、複雑な調整や熟練を要することなく、常に安定して継続的に一定の曲率半径の球面形状を加工し続けることが可能な球面形状部品の加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁

In a vacuum vessel, metal fluoride such as magnesium fluoride (MgF_2) is heated and evaporated, further, fluorine-based gas such as carbon tetrafluoride (CF_4) is introduced therein, and a fluorine-based polymerized coating is formed on the surface of a base material by a composite ion plating process using plasma polymerization.例文帳に追加

真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF_2)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素（CF_4）等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。 - 特許庁

In the method of forming a gate insulating film on a substrate using a wet process, a polymer material is applied on the substrate to form a polymer film, and the surface of the polymer film is treated with a finishing agent thereafter.例文帳に追加

基板上に、ウェットプロセスを用いてゲート絶縁膜を形成する方法であって、基板上に高分子材料を塗布して高分子膜を形成し、その後高分子膜表面を表面処理剤で処理することを特徴とするゲート絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a surface discharge type plasma display panel requiring no expensive vacuum processing device when forming a protective layer to cover a dielectric layer, having capability to substantially shortening an aging process after a panel is sealed, and having remarkably improved productivity and production costs.例文帳に追加

誘電体層を被覆する保護層の形成に際して高価な真空プロセス装置を必要とせず、パネル封着後のエージング工程を大幅に短縮することができ、生産性とコストが著しく改善された面放電型プラズマディスプレイパネルを提供すること。 - 特許庁

To provide an immersion process for the water repellent treatment of a base material using a silane coupling agent, by the proper adjustment of the kind of a solvent and the concentration of the silane coupling agent giving a highly smooth surface, high water repelling property and water droplet removing property.例文帳に追加

シランカップリング剤を用いた基材の浸漬法による撥水処理において、溶媒の種類やシランカップリング剤の濃度を適切に調整することで、高度に平滑な処理表面とそれに伴う高度な撥水性および水滴除去性を付与する。 - 特許庁

The method for manufacturing the spout comprises the steps to insert a metal member into one end of a resin pipe, then insert this pipe into a mold and retain it there, and fill the mold with a resin and finally coat the outer surface of the pipe with a resin layer to achieve a monolithic molding process.例文帳に追加

樹脂製のパイプの一端にメタル部材をインサートして、さらに、このパイプを金型内にインサート保持し、樹脂を金型内に充てんして、パイプの外表面を樹脂層で被覆して一体成形することを特徴とするスパウトの製造方法とした。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a seamless capsule for satisfying all process standards of a sphericity, a diameter of eyes, the degree of eccentricity or the like without S-shaped damage on a surface of the capsule of a spherical shape obtained by covering a filling substance such as a pharmaceutical or the like with a film substance of a gelatin or the like.例文帳に追加

医薬等の充填物質をゼラチン等の皮膜物質で被覆してなる球形状のシームレスカプセルの表面にＳ字状の傷がなく,かつ,球形度、アイズ径,偏芯度等の工程規格の全てを満足するシームレスカプセルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to simplify the manufacturing process, connecting pads 2, a ground layer 6 thereon via an insulating film, first to third rewinding 7, 8, and 9 thereon via a protecting film, and posts S_0, S_1, G, and D thereon are arranged on only the upper surface side of a silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１の上面側のみに、製造工程を簡略化するために、接続パッド２、その上に絶縁膜を介してグラウンド層６、その上に保護膜を介して第１〜第３の再配線７、８、９、その上にポストＳ_０、Ｓ_１、Ｇ、Ｄを設ける。 - 特許庁

The microfabricating method for inverting and transferring the uneven pattern of the substrate to a product to be processed by pressing the substrate to the surface of the product to be processed has a process of determining the conditions for processing by pressing the substrate to the product to be processed.例文帳に追加

原版を被加工物の表面に押し付けることにより、該被加工物に前記原板の凹凸のパターンを反転させて転写する微細加工方法は、前記被加工物に前記原版を押し付けることにより加工のための条件を決定する工程を有する。 - 特許庁

To provide a process in which in the injection molding of plastic, the temperatures of a resin passage in a mold and the thin surface layer part of the inner wall of a cavity are increased instantly, the solidification of an injected resin is prevented, and the fluidity of the resin is improved.例文帳に追加

本発明は、プラスチック射出成形において、樹脂の射出直前に金型内の樹脂流動経路及びキャビティの内壁の薄表層部の温度を瞬時に上昇させ、射出された樹脂の固化を防ぎ、流動性を向上させるものである。 - 特許庁

In the manufacturing process of porous hollow fiber membrane by a dry-wet spinning a membrane forming resin solution, the free running zone from the injection port of a nozzle to the surface of a coagulation bath is controlled so that product of the absolute humidity in the atmosphere of the zone and the running time is ≥0.04 kg/m^3s.例文帳に追加

膜形成性樹脂溶液を乾湿式紡糸法して多孔中空糸膜を製造するに際し、ノズル吐出口から凝固浴表面までの空走部雰囲気中の絶対湿度と空走時間との積が、０．０４ｋｇ／ｍ^３・ｓ以上であるようにする。 - 特許庁

To provide a treatment device which cleans the upper part of a protective means located under a substrate as an object of treatment surely so as to prevent stains from being attached to the substrate in the treatment device comprising a process of cleaning the rear surface of the substrate as a cleaning solution is supplied on it.例文帳に追加

被処理基板の裏面に洗浄液を供給して洗浄する工程を含む処理装置において、被処理基板の下側に位置する防護手段の上部を確実に洗浄し、汚れが被処理基板に付着することのない処理装置を提供する。 - 特許庁

The coater for coating the large-area substrate by means of cathode sputtering has a coating chamber and, on the inner part, a cathode assembly 2 where material to be sputtered is rotated during a coating process and is arranged above a target 4 having a curved surface is disposed.例文帳に追加

大面積の基板を陰極スパッタによってコーティングするためのコーターであって、コーティングチャンバを有し、その内部に、スパッタされる材料がコーティングプロセス中に回転するとともに湾曲面を有するターゲット４上に配置されている陰極アセンブリ２を備える。 - 特許庁

At the time of removing a part of the silicon film 8 contacted with one of both side surface of the gate electrode 3, the parts of the film 8 other than the part to be removed are covered with a resist mask 11 and then subjected to a chemical dry etching process.例文帳に追加

多結晶シリコン膜８のうち、ゲート電極３の両側面のうちの一方の側面に接触する部分を除去する際、多結晶シリコン膜８の除去すべき部分以外の部分をレジストマスク１１で覆い、ケミカルドライエッチングによるエッチングを行う。 - 特許庁

In the DLC(diamond-like carbon) film deposition method for depositing a DLC film on the surface of a substrate, solution heat treatment is applied to the substrate and then aging treatment and DLC coating treatment are simultaneously carried out by a combined simultaneous treatment process.例文帳に追加

基材の表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）皮膜を形成するＤＬＣ成膜方法において、基材を溶体化処理し、その後時効処理とＤＬＣコーティング処理とを複合同時処理プロセスにより同時に行うことを特徴とするＤＬＣ成膜方法。 - 特許庁