「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(157ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing a synthetic resin molding having a more excellent photocatalysis by increasing the area of contact of photocatalyst particles with the external organic substances by subjecting a synthetic resin article to an operation of exposing the photocatalyst particles to the surface of the article.例文帳に追加

合成樹脂物品表面に光触媒粒子を露出せしめる操作を施すことにより、光触媒粒子と外部有機物との接触面積を増大させて、より優れた光触媒作用を有する合成樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for growing a nitride semiconductor substrate on the surface of a ZrB_2 single crystal substrate in which resistance from the nitride semiconductor to the substrate is decreased and crystallinity of the growing nitride semiconductor is enhanced.例文帳に追加

ＺｒＢ_２単結晶基板面上に窒化物半導体を成長するに当り、窒化物半導体から基板への抵抗を小さくするとともに、成長する窒化物半導体の結晶性を向上させる窒化物半導体の成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nickel belt which is arbitrarily changed in the properties and structures of its surface and inside by performing lamination of nickel of different properties without problems even if electroforming is performed with electroforming liquids of different compositions by exchanging the electroforming liquid in of electroforming in formation of the nickel layers by an electroforming process.例文帳に追加

電鋳法によるニッケル層の形成において、電鋳液を途中で交換し、異なる組成の電鋳液で電鋳を行っても、異なる物性のニッケルの積層を問題なく行ない、表面と内部の物性や構造を任意に変えたニッケルベルトを提供する。 - 特許庁

To provide a piston simplifying a surface finishing process for reducing frictional resistance of a skirt part and reducing frictional resistance, in both of a solid contact area with deteriorated oil lubrication condition and a complex lubrication area in which oil is circulated.例文帳に追加

スカート部の摩擦抵抗を低減するための表面処理工程を簡易化すると共に、オイルの潤滑状態が悪い固体接触領域と、オイルが循環する複合潤滑領域との両領域において、摩擦抵抗を低減できるピストンを提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction device which has exceedingly high resolution and also can acquire an X-ray diffraction image with high intensity, by enabling both cylindrical surface conversion processing and time delay integration processing to be performed in the same arithmetic control process.例文帳に追加

円筒面変換処理と時間遅延積分処理との両方を同じ演算制御過程内で行うことを可能にすることにより、極めて分解能が高く、しかも強度の高い回折Ｘ線像を得ることができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ozone decomposition filter constituted by uniformly and strongly fixing inexpensive manganese dioxide having an excellent ozone decomposing catalytic capacity to the surface of a porous carrier excellent in air permeability without using a binder or a high temperature baking process.例文帳に追加

通気性能の優れた多孔質の担体表面に、安価で優れたオゾン分解触媒能を有する二酸化マンガンを、結合剤や高温での焼成工程を用いることなく、均一に、かつ、強固に固着せしめたオゾン分解フィルターを供することを目的とする。 - 特許庁

The production process of seamless belt includes the steps of: developing a polyamide acid solution containing 2-methylimidazole as an imidization catalyst on inner or outer periphery surface; heat drying the developed layer; and making a film of a polyimide resin layer.例文帳に追加

本発明のシームレスベルトの製造方法は、イミド化触媒として２−メチルイミダゾールを含有するポリアミド酸溶液を、円筒状金型の内周面又は外周面に展開し、該展開層を加熱乾燥して、ポリイミド樹脂層を製膜する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a microreacter comprising hollow microchannel composed of a flexible and inactive material with immobilized enzyme molecule on an inner surface produced in a simplified producing process and enabling a microanalysis with freedom of designing.例文帳に追加

本発明の目的は、マイクロリアクターの製造工程を簡略化し、かつ設計的に自由度のある微量分析を可能にする、屈曲可能な不活性材料からなる中空状マイクロチャネルの内表面に酵素分子を固定化させたマイクロリアクターを提供すること。 - 特許庁

A fixing member is used for process for heating a toner image on a recording medium and fixing the toner image to the recording medium, and has a polyorganosiloxane layer having a silicon atom bound to three to four oxygen atoms provided on the surface layer thereof.例文帳に追加

記録媒体上のトナー像を加熱して当該記録媒体に定着させるプロセスに用いられる定着部材であって、３ないし４つの酸素原子と結合した珪素原子を有するポリオルガノシロキサン層を表層に設けたことを特徴とする定着部材。 - 特許庁

To quickly evaluate photocatalyst activity in a manufacturing process of a layered structure by using an evaluation method and an evaluation apparatus for the photocatalyst activity of the layered structure having a photocatalyst layer disposed on a surface and including a photocatalyst.例文帳に追加

光触媒を含む光触媒層を表面に有する層状構成物の光触媒活性の評価方法及び評価装置に関し、前記層状構成物の製造工程の中で、且つ短時間で前記光触媒活性を評価できるようにする。 - 特許庁

The method for removing nonspecific matter adsorbed to array surface is provided, comprising the following process: An array with a physiologically active substance immobilized on a substrate and a cell extract liquid are made to react with each other followed by subjecting the array to ultrasonic cleaning with a nonionic surfactant-containing cleaning liquid.例文帳に追加

生理活性物質を基板上に固定化したアレイと細胞抽出液とを反応させた後、非イオン性界面活性剤を含む洗浄液でアレイを超音波洗浄することにより、アレイ表面の非特異的吸着物質を取り除くことができる。 - 特許庁

To provide a die-bond dicing sheet where an adhesive layer is laminated to touch the adhesive surface of the adhesive film, and the chipping or cracking of a chip and the generrtion of the chip of the adhesive layer can be suppressed in a dicing process that individualizes a wafer.例文帳に追加

粘着フィルムの粘着面と接着剤層が接するように積層されたダイボンドダイシングシートであって、ウェハを個片化するダイシング工程において、チップの欠け、割れ、接着剤層の切り屑を抑制することが可能なダイボンドダイシングシートを提供する。 - 特許庁

In the cap member 43, an ink holding member 47 which receives the ink being discharged from the nozzle by a purging process, and at the same time, allows the discharge of the held ink from a communication hole 46 under an uncapped state to the ink discharging surface 4a is provided.例文帳に追加

キャップ部材４３内には、パージ処理によってノズルから吐出されたインクを受容するとともに、インク吐出面４ａに対してアンキャッピング状態のときに連通孔４６から保持したインクの排出を許容するインク保持部材４７が設けられている。 - 特許庁

The SOI substrate is heat-treated at a temperature of 600-1,250°C, and gettering is performed to metal impurities accidentally mixed into the interface of the SOI film and quartz substrate and into the SOI film in the process of plasma processing, or the like to the surface region of the silicon film 12.例文帳に追加

次にこのＳＯＩ基板を６００℃〜１２５０℃の温度で熱処理し、プラズマ処理等の工程においてＳＯＩ膜／石英基板界面およびＳＯＩ膜中に偶発的に混入した金属不純物をシリコン膜１２の表面領域にゲッタリングする。 - 特許庁

It is preferable that, after the formation of a coating layer composed essentially of silicon metal powder or silicone resin on the surface of the substrate, a vapor growth process is applied to the substrate and the coating layer to convert the coating layer into the silicon-metal containing film.例文帳に追加

好ましくは、珪素金属の粉末あるいは珪素樹脂を主成分とするコーティング層を基体の表面に形成した後で、基体およびコーティング層を気相成長プロセスに供することによって、コーティング層を珪素金属含有被膜に変化させる。 - 特許庁

Plasma is generated by performing vacuum arc discharge in a vacuum atmosphere into which a reactive gas is introduced if necessary, and the plasma is allowed to flow into the plasma machining part T, and the work 30 placed there T is subjected to a surface treatment process with plasma.例文帳に追加

必要により反応性ガスを導入した真空雰囲気下で真空アーク放電を行なってプラズマを発生させて、該プラズマをプラズマ加工部Ｔに流入させ、該プラズマ加工部Ｔに配置された被処理物３０をプラズマにより表面処理加工を行なう方法。 - 特許庁

To possibly reduce the distance between a discharge region and a nozzle for jetting a reactive gas in utilization of an atmospheric pressure plasma, make the nozzle size to be freely selectable according to process conditions, improve the discharge stability and enable the good local surface treatment.例文帳に追加

大気圧プラズマを利用した表面処理装置において、放電領域と反応性ガスを噴射するノズルとの距離を短くでき、処理条件に応じてノズル寸法を自由に選択でき、放電安定性の向上、良好な局所的表面処理を可能にする。 - 特許庁

The inner peripheral surface of the drum 2 of the drum type shot blasting device for applying the blasting process by blasting a shot to the work is provided with a projecting part 31 for separation capable of abutting on lower work of the work overlapped by the rotation of the drum 2.例文帳に追加

ワークにショットを投射することにより投射処理を施すドラム式ショット投射処理装置のドラム２の内周面には、ドラム２の回転により重なり合うワークのうちの下層部のワークに対し当接可能な分離用突起部３１が設けられる。 - 特許庁

To provide a method of polishing a semiconductor substrate capable of obtaining a steady, high polishing rate while maintaining polishing characteristics, by making a surface state of a CMP polishing pad appropriate using an existing CMP polishing pad and an existing polishing agent in a low-pressure polishing process.例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨パッドの表面状態を適正化し、低圧研磨プロセスにおいて、既存のＣＭＰ用研磨パッド及び研磨剤を用いて、研磨特性を維持しながら、安定して高い研磨速度を得られる半導体基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

In the assembling process, the cord electrode support is fixed at a predetermined position of a spherical support, and the cord electrode is arranged at a predetermined relative position, while forming a predetermined gap with the peripheral circuit on a surface of the sphere at the predetermined support place of the spherical support.例文帳に追加

すだれ状電極支持体を組み合わせ工程において球支持体の所定の位置に固定し、球支持体の所定の支持場所の球の表面の所定の周回路に対し所定の隙間を介してすだれ状電極を所定の相対位置に配置させる。 - 特許庁

To provide a super abrasive wheel for a centerless grinder preventing abnormal wear and damage of a super abrasive layer on a workpiece inlet side even when a sintered material manufactured in a sintering process is ground while keeping the sintered surface, and having a long service life.例文帳に追加

焼結法により製造された焼結材料を焼結肌のまま研削加工しても工作物の入口側の超砥粒層の異常摩耗がなく、しかも損傷することがない、長寿命のセンタレス研削盤用超砥粒ホイールを提供することである。 - 特許庁

To provide a developing roller capable of reliably suppressing occurrence of defects on an output image, such as pitch unevenness and density unevenness and toner sticking on a sleeve surface, and capable of stably scooping up a developer over time, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

ピッチムラや濃度ムラ等の出力画像上の不具合やスリーブ表面へのトナー固着が確実に抑止できて、経時においても現像剤を安定的に汲み上げることができる、現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide hard candy having a smooth surface and obtaining a peculiar clammy lick feeling in the mouth by restraining cracks formed in candy dough in a rope forming process when producing the hard candy containing a large amount of oil and fat with a high melting point.例文帳に追加

高融点の油脂を多量に配合したハードキャンデーを製造する際に、ロープ成形工程においてキャンデー生地に発生するひび割れを抑制し、なめらかな表面を有し、口中でぬるぬるした独特な舐め心地が得られるハードキャンデーを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which receives voltage by electrification only for required surface potential of the photoreceptor, is free of the generation of ozone and a noise by electrification and has high durability while retaining the advantage of a low power simple equipment structure and to provide an electrophotographic apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

帯電電圧は所望する感光体表面電位分のみで、オゾンや帯電音の発生もなく、低電力で簡便な機器構成である等の利点を保持しつつ、高耐久な感光体、電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of low water absorption, light weight aggregate is composed of a process of slowly cooling a baked product obtained by bake foaming a raw material of a light weight aggregate, and spraying isocyanate on the product when the surface temperature of the product reaches 120-220°C.例文帳に追加

軽量骨材原料を焼成発泡して得られる焼成物を徐冷する工程において、該焼成物の表面温度が１２０〜２２０℃となった時点で、該焼成物にイソシアネートを吹き付ける低吸水性軽量骨材の製造方法とした。 - 特許庁

To produce a cellulose acylate film that can be peeled off from a substrate in the producing process by preparing a solution in which a cellulose acylate is dissolved in an organic solvent in a stable state and provide an excellent cellulose acylate film that has a good surface condition by the use of the solution.例文帳に追加

セルロースアシレートが有機溶剤に安定な状態で溶解している溶液を得、かつそれによって優れたセルロースアシレートフイルムを得るに際して、その製造工程で支持体からセルロースアシレーフイルムを容易に剥ぎ取り、面状の良いセルロースアシレートフイルムを得る。 - 特許庁

The tangle processed food is produced by using tangle for stock extraction obtained by the following process: heating dried raw tangle as it is under specific condition to lower the molecular weights of hetero polysaccharides forming the surface tissue of tangle which is turned into glutinous components when cooked.例文帳に追加

昆布原藻を乾燥状態のまま特定の条件で加熱処理を行い、調理時の粘り成分となる昆布の表面組織を形成するヘテロ多糖類を低分子化させた、だし抽出用昆布製品及びそれを用いた昆布加工食品を製造する。 - 特許庁

A green glass blank 10 is brought to a temperature state in which its viscosity makes forming possible and the green glass blank 10 is pressed onto the curved supporting surface 23 of a mold by at least one moveable holder 25 during the forming process.例文帳に追加

生ガラス裁断片１０を、その粘性によって変形が可能となる温度状態にもたらし、生ガラス裁断片１０を変形加工プロセスの間に少なくとも１つの運動可能な押さえ２５によって成形工具の湾曲させられた支持面２３に押し付ける。 - 特許庁

To provide a method of forming a plated film applicable even on the surface of a non-conductive material such as glass or a ceramic, in which a metal coating film having excellent adhesiveness is formed by a simple treatment process and the film thickness is easily increased.例文帳に追加

ガラス、セラミックス等の非導電性材料表面に対しても適用可能なめっき皮膜の形成方法であって、簡単な処理工程によって優れた密着性を有する金属皮膜を形成でき、しかも、厚膜化が容易な方法を提供する。 - 特許庁

This substrate discharging method for removing electric charges remaining in the substrate 20 in a vacuum comprises a process of removing the electric charges of the substrate 20 by leading an ionized gas for neutralization to the surface of the substrate 20 housed in an airtight cassette chamber 3.例文帳に追加

本発明は、真空中で基板２０に残留した電荷を除去する基板除電方法であって、気密なカセット室３に収納された基板２０の表面に、電離した除電用ガスを導くことによって基板２０の電荷を除去する工程を有する。 - 特許庁

An excessive surface 22, of bad crystalinity and comprising defect, which is deposited with a remaining gas in a temperature-falling process from a crystal growth temperature at completion of growth of silicon carbide is removed, and a Schottky electrode 25 is formed on a silicon carbide 24 with reduced defect.例文帳に追加

炭化珪素成長終了時の結晶成長温度からの降温過程で残留ガスにより堆積した結晶性が悪く欠陥を含んだ余分な表面２２を除去し、欠陥が低減された炭化珪素２４上にショットキー電極２５を形成する。 - 特許庁

To simplify the work process by reducing the insulation layer having a surface to be flattened so that a chip can be vacuum-sucked at the time of packaging through packing and resulting bulk supply and to suppress variation of inductance under packaged state.例文帳に追加

袋詰め梱包とそれによるバルク供給が可能であり、実装に際してバキューム吸着できるように表面を平坦化すべき絶縁層を減らして作業工程を簡素化し、更に実装状態によるインダクタンスのばらつきを低減できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a material for forming an ink accepting layer which can obtain an ink accepting layer free from cracking on a surface of the ink accepting layer or peeling from a support even when drying temperature in a drying process exceeds 70°C.例文帳に追加

乾燥工程での乾燥温度が７０℃を超えた場合であっても、インク受容層表面にひび割れや支持体からの剥離が発生しないインク受容層を得ることが出来るインク受容層形成用材料の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a reinforcing method to solve the problem of the breakage of the leavings in the process wherein a long-form adhesive sheet is provided with printing on its surface and die-cut into various shapes and then the continuous leavings are removed, and to provide a label processing method, an attaching apparatus and a label processing apparatus.例文帳に追加

長尺接着シートの表面に印刷を施し各種形状にダイカットした後、連続状カス部を除去する工程におけるカス切れ問題を解決する補強方法、ラベル加工方法、貼付装置及びラベル加工装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a tape cutter used in a cutting process for an adhesive tape, etc., and a supporting jig for cutter whereby it is possible to perform smoothly the exfoliating operation for the affixed adhesive tape and prevent the adhering surface from being contaminated.例文帳に追加

接着テープ等をカッティング処理する際に使用するテープカッターであって、貼付した接着テープの剥離作業が円滑に行え、且つ接着面の汚れを未然に防止できる接着テープのカッティング処理を可能としたテープカッター及びカッター用治具を提供する。 - 特許庁

By the calking process from the outer periphery of the armature 92, the inner peripheral surface of the insertion hole 92a of the armature 92 advances in a ring form groove 98c provided at the base end part 98b of the poppet valve 98, and it is transformed to a form corresponding to the form of the groove.例文帳に追加

このアーマチャ９２の外周からのかしめ加工により、アーマチャ９２の挿入孔９２ａの内周面は、ポペット弁９８の基端部９８ｂに設けられたリング状溝９８ｃ内に進入し、その形状に対応した形状に変形する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which prevents a film surface from creasing at a heat step of a color filter producing process, even if the film forming a color filter, a black matrix or the like is made thicker than a conventional film, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

本発明では、カラーフィルター、またはブラックマトリクス等を形成する膜の厚みを従来のものより厚くしても、カラーフィルター製造工程の熱工程で膜表面にしわの発生を防止する感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Based on the two measurement values for radiation intensity, a measurement process part inside a radiation detector body calculates a distance from the human body surface 60 to the radioactive material 62, or an in-body depth x of the radioactive material 62.例文帳に追加

これら２つの放射線強度の計測値に基づき、放射線検出装置本体内部にある計測処理部は、人体表面６０から放射性物質６２が存在する位置までの距離、すなわち放射性物質６２の体内深さｘを演算する。 - 特許庁

The negative electrode current collector for the dry cell has a surface of wire rod made of iron formed in a prescribed shape by forging process on which a plating treatment is applied, and the plating is made of two layer structure of which the inner layer is made by copper plating and the outer layer is by galvanization.例文帳に追加

鍛造加工により所定形状に形成された鉄製の線材の表面にメッキ処理が施されており、前記メッキが、内層が銅メッキ、外層が亜鉛メッキの二層構造とされていることを特徴とする乾電池用負極集電体である。 - 特許庁

The pneumatic tire vulcanization die has an uneven part 17 formed on an inner surface where the tire touches the ground, whose average roughness is 6 to 50 μm and roughness unevenness Rsk is less than 0 due to etching or sandblasting process.例文帳に追加

また、空気入りタイヤ用加硫金型は、タイヤ接地面を形成する内表面に、エッチング加工又はサンドプラスト加工により平均粗さＲａが６〜５０μｍで、かつ、粗さの偏り度ＲｓｋがＲｓｋ＜０の凹凸部１７を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface mounting piezoelectric oscillator which does not cause complication of structure or increase in number of manufacturing steps even in such a case as a cavity filled with underfill cannot be secured in a piezoelectric vibrator and the oscillation circuit IC section of three-dimensional arrangement, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

圧電振動子と立体構成の発振回路ＩＣ部に、アンダーフィルを充填するためのキャビティを確保できない構造においても、構造の複雑化、製造手数の増大を生じない表面実装型圧電発振器とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a substrate, in which a desired fine uneven structure having a comparatively large area can be formed on a surface of the substrate, by paying attention to mask formation by a nano-inprint process allowing a mask having a comparatively large area to be obtained and chemical etching allowing a large area to be processed.例文帳に追加

比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで，基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。 - 特許庁

In a process of inserting the first leg section 20 into the hole 51, the end side-leg portion 32 is in slidable contact with the peripheral surface of the shaft 50 and twisted in a direction separating from the virtual plane P while the base end-side leg portion 31 is opened and deformed with the turning-back portion 40 as a fulcrum.例文帳に追加

第１脚部２０の孔５１への挿入過程では、基端側脚部３１が折り返し部４０を支点として開き変形しつつ先端側脚部３２がシャフト５０の外周面を摺接して仮想平面Ｐから離れる向きにねじれる。 - 特許庁

To provide an apparatus for holding and rotating a substrate with a simple configuration which can uniformly process the entire external circumferential end surface of a substrate and can rotate the substrate at a high speed, and to provide a substrate processing apparatus with the same and a substrate processing method.例文帳に追加

簡単な構成で基板の外周端面の全体を均一に処理することができるとともに基板を高速に回転させることができる基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置ならびに基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

For a rolling roll wherein a sheet-like material is pressed in a thickness direction from both sides to process the material to a specific thickness, a distance between opposed roll surfaces is constant and an outer peripheral length in an axial direction of a roll surface is longer than its axial length.例文帳に追加

シート状材料を厚み方向に両側から押圧し、前記材料を所定の厚みに加工する圧延ロールであって、相対するロール面間距離が一定で、かつ、ロール表面の軸方向外周長さがその軸長より長いことを特徴とする圧延ロール。 - 特許庁