「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(155ページ目) - Weblio英語例文検索

This invention concerns the mechanically laid anti-erosion block mats used on surface of banks, on levies, railroad and road elevations, the easy process of laying the mats and the block mat laying equipment. 例文帳に追加

この発明は、海岸及び河川の堤防、道路及び鉄道の表面等の地表面の侵食防止に用いられる機械による効率的な敷設が可能なブロックマット及びその簡単な製造方法並びにこのブロックマットを効率的に敷設するための敷設装置に関する。 - 特許庁

In a process where a counter board 2 is manufactured, an upper electrode, a first charge blocking layer, and a semiconductor layer 19 are laminated in this order on a support board, and then ceramic particles 23 are blown against the surface of the semiconductor layer 19 by the use of an abrasive discharge nozzle 22.例文帳に追加

対向基板２の製造工程において、支持基板上に上部電極、第１の電荷阻止層、半導体層１９がこの順に形成された後、該半導体層１９の表面に砥粒吐出ノズル２２によりセラミック粒子２３を吹き付ける。 - 特許庁

The cleaning liquid, having a composition such that this is applied to a process for removing the impurities remaining on the surface of the substrate on which the electronic circuit is formed, and contamination, such as re-sticking of the matter constituting the impurities to the substrate, can be minimized.例文帳に追加

このような組成を有する洗浄液組成物は、電子回路が形成される基板の表面に残留する不純物を除去する工程に適用され、該不純物を構成する物質が基板に再付着する等の汚染を最小化することができる。 - 特許庁

To provide an optical communications system that utilizes a surface light-emitting type semiconductor laser device chip capable of reducing an operating voltage and an oscillation threshold current as a light-emitting source and can improve the productivity of a laser chip module and the overall yield of a manufacturing process.例文帳に追加

動作電圧、発振閾値電流等を低くできる面発光型半導体レーザ素子チップを発光光源として利用するシステムで、レーザチップモジュールの生産性の向上、しいては製造プロセス全体の歩留まり率向上が可能な光通信システムを提供する。 - 特許庁

Next, the photosensitive resin film 21 subjected to pattern exposure is subjected to a heat treatment to diffuse the unreacted photocrosslinkable monomer, thereby forming a photosensitive resin layer 22 containing the unreacted photocrosslinkable monomer and having a rugged surface 2c (a heat treatment process (c)).例文帳に追加

次に、パターン露光が施された感光性樹脂膜２１に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面２ｃを有する感光性樹脂層２２を形成する（熱処理工程(ｃ)）。 - 特許庁

To provide an estimating method for ground displacement in a shield machine passage in a tunnel for the hard ground, estimating the ground displacement in the periphery of the shield machine with high accuracy using the displacement of an excavated surface produced in the process of shielding obtained by a shield machine dynamic model.例文帳に追加

硬質地盤を対象として、シールド機動力学モデルによって得られるシールド掘進中に生ずる掘削面の変位を用いた、シールド機周辺の地盤変位を高精度に予測することができるシールドトンネル通過時の地盤変位の予測方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the decorative sheet 10 having a design layer 13 between a substrate sheet 11 and a surface sheet 12 has a process of arranging a heat-adhesive film 14 between the substrate sheet 11 and the design layer 13 and bonding the resultant body by thermocompression.例文帳に追加

基材シート１１と表面シート１２との間に、意匠層１３を備えた加飾シート１０の製造方法であって、基材シート１１と意匠層１３との間に、熱接着性フィルム１４を配置して熱圧着する工程を有する製造方法である。 - 特許庁

To provide a carpet primary ground fabric for obtaining a tufting carpet which is not torn or broken during a manufacturing process or construction, which is not deformed easily in a specific direction and which is proper to be spread on a floor surface of an office, a hotel, or the like, in particular.例文帳に追加

製造工程中や施工中に裂けたり、破れたりすることがなく、特定の方向に変形しやすいという問題が発生せず、特にオフィスやホテル等のフロア面に敷設されるカーペットに適したタフティングカーペットを得るためのカーペット一次基布を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving the heterogeneity of image characteristics of the upper part and lower part of the surface of a mask material for exposure as a method for advancing a process by holding the mask material for exposure almost perpendicularly and dipping it in processing tanks containing processing liquid one after another.例文帳に追加

露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor provided with the outermost surface layer excellent in flaw resistance, adhesiveness to an under layer and environmental stability, and capable of forming an image of high quality over a long period; and to provide a process cartridge and an image forming device using the same.例文帳に追加

耐傷性、下層との接着性及び環境安定性に優れる最表面層を備え、長期に亘って高品質の画像形成を可能とする電子写真感光体、並びに、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin ceramic board manufacturing method that is capable of continuously and stably obtaining thin ceramic boards which hardly deteriorate, are excellent in surface smoothness, hardly warped, and uniform in characteristics without using a complex cleaning process of removing powder.例文帳に追加

煩雑な粉末除去のための洗浄工程を必要とせず、継続的に薄層セラミック板を安定に得ることができ、該セラミック板の劣化が生じ難く、かつ表面平滑性に優れ、反りや特性ばらつきが生じ難い薄層セラミック板を得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical isolator which is surface-mounted with YAG welding without giving a shock or a strain to a function part composed of an optical element and a magnet, and in which the optical elements are accurately positioned despite a simple manufacturing process.例文帳に追加

表面実装のＹＡＧ溶接において、光学素子やマグネットからなる機能部に衝撃や歪みを与えることなく実装が可能で、また、単純な工程にもかかわらず高精度で光学素子の位置決めが可能な光アイソレータを提供することを課題とする。 - 特許庁

The substrate manufacturing apparatus carries out an exposure process by using a glass mask, and is equipped with a glass mask having an exposure pattern formed on one surface, a mask holder supporting the glass mask, and a heating means thermally deforming the glass mask.例文帳に追加

本発明による基板製造装置は、ガラスマスクを用いて露光工程を行う基板製造装置であって、一面に露光パターンが形成されているガラスマスクと、ガラスマスクを支持するマスクホルダと、ガラスマスクを熱変形させる加熱手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The ceramic coating polishing method consists of two processes: a paint 4 containing a pigment is applied to the surface of a ceramic coating 3 and the pigment is allowed to permeate the coating 3; and following the paint application process, the ceramic membrane 3 is polished.例文帳に追加

本発明によるセラミック皮膜研磨方法は，セラミック皮膜（３）の表面に顔料を含む塗料（４）を塗布し，前記顔料を前記セラミック皮膜（３）に浸透させる塗布工程と，前記塗布工程の後，前記セラミック皮膜（３）を研磨する研磨工程とを備えている。 - 特許庁

The process liquid supply means comprises a nozzle 30 for supplying the processing liquid almost uniformly in the one-side direction of the substrate 20, and the moving means moves the nozzle 30 on the principal surface of the substrate 20 orthogonal to the one-side direction.例文帳に追加

上記処理液供給手段は、基板２０の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル３０からなり、上記移動手段は、ノズル３０を前記一辺方向と直交する基板２０主表面上を移動させる手段である。 - 特許庁

If the wire barrel 21 of the terminal metal fitting 20 is crimped to the core wire 12 in a process of crimping operation, the wires 11 of the neighboring conductors 14, 15. 16 are mutually rubbed together, and the insulating coating formed on the surface of the wires 11 is effectively broken down.例文帳に追加

芯線１２に端子金具２０のワイヤバレル２１が圧着されると、圧着動作の過程で、隣接する導体部１４、１５、１６の相互の素線１１が互いにこすれ合い、素線１１の表面に形成された絶縁性の被膜が効果的に破壊される。 - 特許庁

To provide an electronic component with bump electrode and a method for manufacturing it in which occurrence of open failure is appropriately reduced in a manufacturing process while a surface protecting insulating film having a sufficient film thickness and a bump part having a sufficient height are provided.例文帳に追加

充分な膜厚の表面保護用絶縁膜および充分な高さのバンプ部を具備しつつ、製造過程においてオープン不良の発生が適切に低減される、バンプ電極付き電子部品の製造方法とバンプ電極付き電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which receives voltage by electrification only for required surface potential of the photoreceptor, is free of the generation of ozone and a noise by electrification and has high durability while retaining the advantage of a low power simple equipment structure and to provide an electrophotographic device and a process cartridge.例文帳に追加

帯電電圧は所望する感光体表面電位分のみで、オゾンや帯電音の発生もなく、低電力で簡便な機器構成である等の利点を保持しつつ、高耐久な感光体、電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The contact expanding surface 33 of a plurality of jig bodies 24, 25, 26, 27 is tapered in such a manner that the external diameter is gradually reduced along the direction to the rear end side mounted to an operation rod from the front end side of each jig body or tapered with knurling process.例文帳に追加

複数本の各治具本体２４，２５，２６，２７の接触拡張面３３を、各治具本体の先端側より作動杆に取付けられる後端側方向に沿って外径が漸次小さくなるテーパーに形成するか又はそのテーパー面にローレットを施した。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern having the width and the diameter of the pattern of ≤100 nm and an excellent uniformity (uniformity in surface) in an ultra-fine manufacturing process using a high energy light beam of which the wavelength is 200 nm or smaller or an electron beam.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の高エネルギー光または電子線を用いた極微細加工プロセスにおいて、パターン幅や径が１００ｎｍ以下でユニフォーミティー（面内均一性）などの点においても優れる微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide: an "original plate material for a heat-exchange plate" that has convexoconcave very excellent in heat conduction formed on a surface thereof and undergoes a press process to be formed into a heat-exchange plate; and a method for producing the "original plate material for a heat-exchange plate".例文帳に追加

伝熱性が非常に優れた凹凸が表面に形成されると共に、プレス加工を経ることで熱交換用のプレートに成形される「熱交換用のプレートの元板材」、及び、係る「熱交換用のプレートの元板材」の製造方法を提供する。 - 特許庁

A polishing end point detecting structure 5 is provided at a part of a surface on the polished side of a substrate to be polished 4 to automatically stop a polishing process by judging the end point of polishing in accordance with a fluctuation of an electrical signal transmitted from the polishing end point detecting structure 5.例文帳に追加

被研磨基板４の研磨側表面の一部に研磨終点検出用構造物５を設け、前記研磨終点検出用構造物５からの電気信号の変動に基づいて、研磨の終点を判定して研磨プロセスを自動終了させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is free of damage to a cleaning blade, and blade sounding and turning-up depending upon kinds of transfer paper such as transfer paper with good surface smoothness and recycled transfer paper easily producing paper powder, due to a high process speed, etc., and staining due to toner scattering.例文帳に追加

表面平滑性の良い転写紙、紙粉が発生しやすい再生紙等転写紙の種類及びプロセス速度の高速化等によるクリーニングブレードの損傷、ブレード鳴きや捲れ及びトナー飛散による汚れがない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This method for producing the freeze-dried tomato includes a process of washing tomato followed by vertically cutting the tomato to 2, 3 or 4 divisions in the central part including the core part 1, making a hole 7 on a division part 2 of a tomato cut surface after cutting, and soaking the tomato after making a hole in sugar followed by freeze-drying.例文帳に追加

トマトを洗浄後、トマトを芯部１を含む中心部において２分割、３分割又は４分割に縦に切断し、切断後のトマト切断面の隔壁部２に穴７を穿設し、穿設後のトマトを糖浸漬し、凍結乾燥する工程で構成される。 - 特許庁

To provide a shaping mold for manufacturing elastomer moldings showing an easy mold detachability and mold releasability for a long period of time, a manufacturing process of a blade for electrophotographic devices capable of accomplishing a high precision for a dimensional accuracy and a surface nature of the blade member, and the blade for controlling an amount of a development agent.例文帳に追加

長期間良好な剥離性と脱型性を示すエラストマー成形体製造用の成形型、ブレード部材の寸法精度と表面性を高精度化可能な電子写真装置用ブレードの製造方法および現像剤量規制ブレードを提供する。 - 特許庁

To provide a coated metal material which has excellent corrosion resistance and adhesion after the coating of a coating material and the pasting of a laminate film, and has performance equal to or above that of the material subjected to chromate-phosphate chemical conversion process, and to provide a nonchromium metal surface treatment method.例文帳に追加

塗料の塗装後及びラミネートフィルム貼付け後における耐食性及び密着性に優れ、リン酸クロメート化成処理を施したものと同等以上の性能を有する被覆金属材料、及び、ノンクロム金属表面処理方法を提供する。 - 特許庁

A primary vacuum tank 40 and a secondary vacuum tank 50 are connected to a lower mold 30 so as to be able to be changed over alternately and the primary vacuum tank 40 is used in a process for shaping the skin material 3 to allow the same to get intimate with the surface of the core material.例文帳に追加

成形用下型３０にプライマリー真空タンク４０とセカンダリー真空タンク５０とを交互に切替え可能に接続し、芯材２表面に表皮材３をなじませる表皮材３の形状出し工程にプライマリー真空タンク４０を使用する。 - 特許庁

In a process of manufacturing the insulator 10 of which the total length A is 55 mm or more and the outer diameter E of a rear side body 18 is 9.5 mm or less, the outer circumferential surface is polished with by supporting pin put through the shaft hole 12 of a molded form used as an original form.例文帳に追加

全長Ａを５５ｍｍ以上、また、後端側胴部１８の外径Ｅを９．５ｍｍ以下とした絶縁碍子１０を製造する工程では、原形となる成形体の軸孔１２に支持ピンを挿通させた状態で外周面の研削を行う。 - 特許庁

Growing of the protective film 2 is relatively accelerated at a recessed part 1A than a protruding part 1B of the rare earth magnet element 1, and the growth process of the protective film 2 is so controlled that the film becomes almost flat as a whole, so that surface roughness of the protective film 2 becomes 0.4 μm or less.例文帳に追加

希土類磁石素体１の凸部１Ｂよりも凹部１Ａにおいて相対的に保護膜２の成長が促進され、全体としてほぼ平坦となるように保護膜２の成長過程が制御されるため、保護膜２の表面粗さが０．４μｍ以下となる。 - 特許庁

To provide a solid body imaging apparatus of an electronic endoscope wherein a lead which is bent backward from a light receiving surface side of a solid body imaging element is seldom damaged during a bending process and seldom short-circuits with the solid body imaging element during an operating time.例文帳に追加

固体撮像素子の受光面側から後方に向かって折り曲げられたリードを、曲げ加工時に破損する可能性が低く、使用時には固体撮像素子とショートする可能性が低くなるようにした電子内視鏡の固体撮像装置を提供すること。 - 特許庁

Accordingly, in an inspection process or the like where the color filter 10 is actually rotated at a high speed, the radial scattering of the uncured part of the adhesive to the disc surface 12a of the color filter 10 can be reliably prevented and a yield of the color wheel 10 can be improved.例文帳に追加

よって、実際にカラーフィルタ１０を高速回転させる検査工程等において、カラーフィルタ１０の盤面１２ａに接着剤の未硬化部分が放射状に飛散することを確実に防ぎ、カラーホイール１０の歩留まりを向上させることが可能となる。 - 特許庁

To miniaturize the sterilization process of a bottle and to reduce production cost in an aseptic filling method for a PET bottle by supplying a preform in a receptacle manufacturer, by forming the preform into the bottle in a food processor and by performing aseptic filling by sterilizing the inside and outside surface of the bottle.例文帳に追加

容器メーカでプリフォームを供給し、食品メーカでプリフォームをボトルに成形し、そのボトルの内外面を殺菌して無菌充填を行うＰＥＴボトルの無菌充填方法において、ボトルの殺菌工程を小型化し、生産コストを低減する。 - 特許庁

In the laminate for preventing resticking, a cohesive failure layer 2 is provided on at least one side of a substrate 1 by means of coating, and an adhesive layer 3 is provided on the surface of the cohesive failure layer 2, and the cohesive failure layer 2 has a porous structure provided by wet solidification process.例文帳に追加

基材１の少なくとも片面に塗工により凝集破壊層２を設け、該破壊層２の表面に粘着剤層３を設けた貼替防止用積層体において、該破壊層２が湿式凝固法で設けられた多孔質構造を有すること。 - 特許庁

To properly decide a moving direction of a wiring board in a dipping process by displaying a mark in which a situation is difficult to occur on a surface of the wiring board, where the mark visually mingles with a circuit component, or a display or a sign, and it becomes hard to be discriminated.例文帳に追加

回路部品や表示ないし記号にマークが視覚的に紛れ込んで見分けがつきにくくなるという事態の起こりにくいマークを配線基板の表面に表示することによって、ディッピング工程での配線基板の移動方向を適正に定める。 - 特許庁

Further, in the process for growing the group III nitride crystal 20, the ground substrate 10 is arranged so that the inclination angle ϕ of the main plane 10m of the ground substrate 10 to the surface 17m of the solution 17 satisfies following relation: θ≤ϕ≤θ+26.5°.例文帳に追加

また、ＩＩＩ族窒化物結晶２０を成長させる工程において、溶液１７の表面１７ｍに対する下地基板１０の主面１０ｍの傾斜角φがθ≦φ≦θ＋２６．５°の範囲となるように下地基板１０が配置されている。 - 特許庁

To provide a cutter unit in which an adhesive coating the adhesive coated surface of a print paper does not adhere to the movable blade of the cutter unit when the print paper is cut, and thereby the print paper in the conveyance process does not stick to the movable blade to cause jamming.例文帳に追加

印字用紙を切断する際に、印字用紙が有する粘着部材塗布面に塗布された粘着部材がカッターユニットの可動刃に付着し、搬送過程にある印字用紙が可動刃に貼り付いてジャムを引き起こすことのないカッターユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a steel wire rod for a fastening component which is free from problems such as dust generated upon wire drawing therein, and also imparts stable lubricity to the surface of a fastening component after cold plastic working and heat treatment such as quenching/tempering treatment in the production process of the fastening component.例文帳に追加

線材の伸線加工時に発生する粉塵の問題をなくし、且つ、締結部品の製造過程における冷間塑性加工や、調質処理などの熱処理後に締結部品表面に安定した潤滑性を付与する鋼線材を提供する。 - 特許庁

When a dielectric separation wafer is manufactured, the entire body of the backside resist 12A of a silicon wafer 10 is cross-linked after the resist 12A is applied to the wafer 10 in a photoliothograph process, in which a resist film 12 having a window section 12a is provided on the surface of the wafer 10.例文帳に追加

誘電体分離ウェーハの製造時、シリコンウェーハ１０の表面に窓部１２ａ付きのレジスト膜１２を設けるフォトリソグラフ工程において、シリコンウェーハ１０に裏面レジスト１２Ａを塗布後、これを全面露光して裏面レジスト１２Ａ全体を架橋させる。 - 特許庁

A plurality of parameters which are necessary for step measurement are defined in advance to a wafer whose surface condition shifts one after another passing through each process, and in steps S1 and S2, for example, it is judged whether step measurement is necessary or not to a set wafer by a parameter.例文帳に追加

各工程を経ることによりその表面状態が逐次遷移するウエハに対し、段差計測に必要な複数のパラメータを事前に定義し、例えばステップＳ１及びＳ２では、パラメータにより、セットされたウエハについて段差計測が必要か否かを判断する。 - 特許庁

To provide a wrapping device for a thermal head, capable of preferably and efficiently executing a wrapping process for the surface for forming a protection film, a protection film, or the like, in a thermal head production step so as to produce a high quality thermal head with a good productivity.例文帳に追加

サーマルヘッドの製造工程において、保護膜の被形成面や保護膜等のラッピング処理を好適かつ効率的に行うことができ、高品質なサーマルヘッドを良好な生産性で製造することを可能にするサーマルヘッドのラッピング装置を提供すること。 - 特許庁

The relief printing part- forming process A comprises trimming with the drill of a cutting polishing apparatus the periphery of the surface of the plate member for embossing comprising e.g. chemical wood, an ABS resin, an acrylic resin leaving the characters/patterns so as to form the relief printing parts of the characters/patterns.例文帳に追加

凸版面部作成工程Ａは、ケミカルウッド・ＡＢＳ樹脂・アクリル樹脂等から成る型押用板部材の表面を切削研磨装置のドリルによって文字・図柄部分を残して周囲を削り取ることにより当該文字・図柄等の凸版面部を形成する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition which is high heat resistant and of a low expansion coefficient, is excellent in such a peeling strength to the small surface roughness after the roughening as is suitable for a (semi)additive process, and is well balanced among the elastic modulus, breaking strength and breaking extension.例文帳に追加

高耐熱で低膨張係数であり、(セミ)アディティブ工法に適合した粗化後の表面粗さが小さいところでの引きはがし強さに優れ、かつ弾性率、破断強度、破断伸びなどのバランスのとれた熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A period when the manufacturing history information is recorded on the recording surface may be any one of or both of a period after the formed and manufactured material of the scrolled body 1 has been manufactured by casting and forging or a period after a process such as cutting or the like has been applied to the formed and manufactured material.例文帳に追加

製造履歴情報を記録面に記録する時期は、渦巻き体の素形材を鋳造や鍛造によって製造した後の時点、あるいはその素形材に切削などの加工を施した後の時点のいずれか、またはその両方でもよい。 - 特許庁

When the mounting leg part 30 is pressed into the groove 50 of the inner panel P after covering the surface of the inner panel P with cloth C, the locking part 40 presses the end part of the cloth C and bites on the cloth C to lock the cloth C securely without necessitating a special part and a special process.例文帳に追加

内側パネルＰ表面をクロスＣで覆った後、取付脚部３０を内側パネルＰの溝５０に押込むと、係止部４０がクロスＣ端部を押圧してクロスＣに食込むので、格別の部品、工程を要することなく、クロスＣは確実に係止される。 - 特許庁

To provide a method for metallizing the surface of a dielectric substrate without using a catalyst, which achieves no pollution and high efficiency without needing external metal species at all, by a merger between an atmospheric pressure plasma process and a self-organization of a nanometric level of metal, and to provide the dielectric substrate provided with a metal film.例文帳に追加

大気圧プラズマプロセスとナノレベルの自己組織化との融合により、外部金属種を全く必要としない無公害高効率を実現する誘電体基材表面の触媒フリー金属化方法及び金属膜付き誘電体基材を提供する。 - 特許庁