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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9598



例文

This method for producing the prepreg is characterized by comprising a process (a) of loading a thermosetting resin composition on a sheet-shaped fibrous substrate from the one side of the sheet-shaped fibrous substrate to make a loaded substrate A, and a process (b) of effecting a negative pressure to the loaded substrate A from another surface side of the sheet-shaped substrate to make a loaded substrate B.例文帳に追加

プリプレグの製造方法であって、(a)シート状繊維基材の一方の表面側から、熱硬化性樹脂組成物を上記シート状繊維基材に担持させて、担持基材Aとする工程、(b)上記シート状繊維基材のもう一方の表面側から、上記担持基材Aに負圧を作用させ、担持基材Bとする工程、を有することを特徴とするプリプレグの製造方法。 - 特許庁

To provide a highly-reliable and easily-operable adhesive sheet (tape) for plating, particularly a removable adhesive sheet protecting one surface from penetration of a plating liquid in plating of the other surface of a lead frame during a QFN process for securing high chemical resistance and obtaining high dimension stability of components during plating and easily separating without leaving any residue on an adherend surface in removing.例文帳に追加

メッキ用粘着シート(テープ)を提供し、さらに詳細には、QFN工程中に、リードフレームの一面をメッキする時に他の一面をメッキ液の浸透から保護する機能を果たし剥離される粘着シートであって、メッキの際、高い耐化学性を確保でき、部品の高い寸法安定性を得ることができ、かつ剥離時に付着表面に残留物が粘着されずに剥離することができる、信頼性及び作業性に優れたメッキ用粘着シート(テープ)を提供する。 - 特許庁

Surface treatment consisting of a stage for removing an oxide film on the surface of a steel strip and a stage for reproducing an oxide film on the surface of the steel strip freed from the oxide film by the stage is performed on the downstream side in a continuous annealing process.例文帳に追加

加熱・均熱後の鋼帯をガスジェット冷却および/またはロール冷却により冷却する連続焼鈍工程を経て冷延鋼板を製造する冷延鋼板の製造方法において、前記連続焼鈍工程の下流側で、鋼帯表面の酸化皮膜を除去するための工程と、該工程により酸化皮膜が除去された鋼帯表面に酸化皮膜を再生成させるための工程とからなる表面処理を行うことを特徴とする冷延鋼板の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a membrane electrode assembly 1, including at least the electrolyte membrane 10 containing electrolyte resin, and catalyst layers 21, 22 joined to a surface of the electrolyte membrane 10, includes at least a process for making a surface layer 21a of an anode catalyst layer 21 hydrophilic by implanting helium gas ions on a surface of the anode side catalyst layer 21 joined to the electrolyte membrane 10.例文帳に追加

電解質樹脂を含む電解質膜10と、電解質膜10の表面に接合された触媒層21,22と、を少なくとも含む、膜電極接合体1を製造するための方法であって、前記製造方法は、電解質膜10に接合されたアノード側の触媒層21の表面に対して、ヘリウムガスイオンを注入することにより、アノード触媒層21の表面層21aを親水化する工程を少なくとも含む。 - 特許庁

例文

In the process for fabricating a solid electrolytic capacitor element comprising a step for forming a masking on a part of a positive electrode substrate having a dielectric film on the surface to section that surface, and forming a solid electrolyte layer in at least a partial region on the surface of the positive electrode substrate sectioned by masking, a step performing formation processing in a region including the fringe of masking after forming the masking is included.例文帳に追加

表面に誘電体皮膜を有する陽極基材の一部にその表面を区画するようにマスキングを形成し、マスキングで区画された陽極基材表面の少なくとも一部の領域に固体電解質層を形成する工程を含む固体電解コンデンサ素子の製造方法において、前記マスキングの形成後にマスキングの縁部を含む領域に化成処理を施す工程を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子の製造方法。 - 特許庁


例文

The method of manufacturing the antireflection film manufacturing mold includes a fine hole forming process of forming the fine holes on the surface of the metal base body by anode oxidation, using the metal base body containing aluminum, and having an uneven layer with the uneven crystal state or surface shape, and in the fine hole forming process, a part of alumina film is etched.例文帳に追加

アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

In the regeneration process for the photoresist developing waste solution including a process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with a cation exchange resin, the process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with the cation exchange resin mainly contains the pohtoresist and TAAH contacted with a TAA type acidic cation exchange resin with a specific surface area of 10 m^2/g or more to remove alkali metal ions such as Na^+ or K^+.例文帳に追加

フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程を含むフォトレジスト現像廃液の再生処理過程において、該フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程がフォトレジスト及びTAAHを主として含むフォトレジスト現像廃液を比表面積が10m^2/g以上のTAA形強酸性陽イオン交換樹脂と接触させ、Na^+、K^+等の不純物アルカリ金属イオンを除去することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。 - 特許庁

In a process where a counter board 2 is manufactured, an upper electrode, a first charge blocking layer, and a semiconductor layer 19 are laminated in this order on a support board, and then ceramic particles 23 are blown against the surface of the semiconductor layer 19 by the use of an abrasive discharge nozzle 22.例文帳に追加

対向基板2の製造工程において、支持基板上に上部電極、第1の電荷阻止層、半導体層19がこの順に形成された後、該半導体層19の表面に砥粒吐出ノズル22によりセラミック粒子23を吹き付ける。 - 特許庁

The cleaning liquid, having a composition such that this is applied to a process for removing the impurities remaining on the surface of the substrate on which the electronic circuit is formed, and contamination, such as re-sticking of the matter constituting the impurities to the substrate, can be minimized.例文帳に追加

このような組成を有する洗浄液組成物は、電子回路が形成される基板の表面に残留する不純物を除去する工程に適用され、該不純物を構成する物質が基板に再付着する等の汚染を最小化することができる。 - 特許庁

例文

To provide an optical communications system that utilizes a surface light-emitting type semiconductor laser device chip capable of reducing an operating voltage and an oscillation threshold current as a light-emitting source and can improve the productivity of a laser chip module and the overall yield of a manufacturing process.例文帳に追加

動作電圧、発振閾値電流等を低くできる面発光型半導体レーザ素子チップを発光光源として利用するシステムで、レーザチップモジュールの生産性の向上、しいては製造プロセス全体の歩留まり率向上が可能な光通信システムを提供する。 - 特許庁

例文

Next, the photosensitive resin film 21 subjected to pattern exposure is subjected to a heat treatment to diffuse the unreacted photocrosslinkable monomer, thereby forming a photosensitive resin layer 22 containing the unreacted photocrosslinkable monomer and having a rugged surface 2c (a heat treatment process (c)).例文帳に追加

次に、パターン露光が施された感光性樹脂膜21に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面2cを有する感光性樹脂層22を形成する(熱処理工程(c))。 - 特許庁

To provide an estimating method for ground displacement in a shield machine passage in a tunnel for the hard ground, estimating the ground displacement in the periphery of the shield machine with high accuracy using the displacement of an excavated surface produced in the process of shielding obtained by a shield machine dynamic model.例文帳に追加

硬質地盤を対象として、シールド機動力学モデルによって得られるシールド掘進中に生ずる掘削面の変位を用いた、シールド機周辺の地盤変位を高精度に予測することができるシールドトンネル通過時の地盤変位の予測方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the decorative sheet 10 having a design layer 13 between a substrate sheet 11 and a surface sheet 12 has a process of arranging a heat-adhesive film 14 between the substrate sheet 11 and the design layer 13 and bonding the resultant body by thermocompression.例文帳に追加

基材シート11と表面シート12との間に、意匠層13を備えた加飾シート10の製造方法であって、基材シート11と意匠層13との間に、熱接着性フィルム14を配置して熱圧着する工程を有する製造方法である。 - 特許庁

To provide a carpet primary ground fabric for obtaining a tufting carpet which is not torn or broken during a manufacturing process or construction, which is not deformed easily in a specific direction and which is proper to be spread on a floor surface of an office, a hotel, or the like, in particular.例文帳に追加

製造工程中や施工中に裂けたり、破れたりすることがなく、特定の方向に変形しやすいという問題が発生せず、特にオフィスやホテル等のフロア面に敷設されるカーペットに適したタフティングカーペットを得るためのカーペット一次基布を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor provided with the outermost surface layer excellent in flaw resistance, adhesiveness to an under layer and environmental stability, and capable of forming an image of high quality over a long period; and to provide a process cartridge and an image forming device using the same.例文帳に追加

耐傷性、下層との接着性及び環境安定性に優れる最表面層を備え、長期に亘って高品質の画像形成を可能とする電子写真感光体、並びに、それを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin ceramic board manufacturing method that is capable of continuously and stably obtaining thin ceramic boards which hardly deteriorate, are excellent in surface smoothness, hardly warped, and uniform in characteristics without using a complex cleaning process of removing powder.例文帳に追加

煩雑な粉末除去のための洗浄工程を必要とせず、継続的に薄層セラミック板を安定に得ることができ、該セラミック板の劣化が生じ難く、かつ表面平滑性に優れ、反りや特性ばらつきが生じ難い薄層セラミック板を得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical isolator which is surface-mounted with YAG welding without giving a shock or a strain to a function part composed of an optical element and a magnet, and in which the optical elements are accurately positioned despite a simple manufacturing process.例文帳に追加

表面実装のYAG溶接において、光学素子やマグネットからなる機能部に衝撃や歪みを与えることなく実装が可能で、また、単純な工程にもかかわらず高精度で光学素子の位置決めが可能な光アイソレータを提供することを課題とする。 - 特許庁

The substrate manufacturing apparatus carries out an exposure process by using a glass mask, and is equipped with a glass mask having an exposure pattern formed on one surface, a mask holder supporting the glass mask, and a heating means thermally deforming the glass mask.例文帳に追加

本発明による基板製造装置は、ガラスマスクを用いて露光工程を行う基板製造装置であって、一面に露光パターンが形成されているガラスマスクと、ガラスマスクを支持するマスクホルダと、ガラスマスクを熱変形させる加熱手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To make press fitting equipment for attaching a friction damper to a transmission unnecessary and facilitating an attachment process by avoiding metal contact of a core metal and a gear shaft or a gear, and avoid a rolling surface from being roughened by preventing formation of foreign matter during attachment.例文帳に追加

芯金と歯車軸又は歯車との金属接触を回避して、フリクションダンパの変速機への組付時の圧入設備を不要なものとし、組付工程を容易なものにするとともに、組付時の異物の発生を防止し、転動面の面荒れを回避すること。 - 特許庁

To provide a fin material made of aluminum which is excellent in heat resistance and in which discoloration of a surface treated film is suppressed even if it is thermally affected during a manufacturing process of a tube heat exchanger with a plate fin, and at the same time, hydrophilicity can be sufficiently secured, and a fin using the same.例文帳に追加

耐熱性に優れ、プレートフィン付チューブ熱交換器の製造工程で熱的影響を受けても表面処理皮膜の変色が抑えられると共に、親水性が充分に確保されるアルミニウム製フィン材およびこれを用いたフィンを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor, capable of always maintaining a process at a fixed etching rate and accurately processing with low micro loading effects, high selectivity, high reproducibility and a method for treating the surface of a substrate to be treated, by using the apparatus for manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

常に一定のエッチングレートでプロセスを維持することができ、低マイクロローディング効果、高選択性、高再現性、高精度加工を可能とする半導体製造装置および該半導体製造装置を用いた被処理基板表面の処理方法の提供。 - 特許庁

This sterilization method is a surface modification, implantation and sterilization method in a single process for bioactively coating of a material and biological material used in a medical device such as a catheter, a tissue engineering scaffold, or a medicine delivery carrier material.例文帳に追加

本発明は、カテーテル、組織工学スカフォールド、または薬品供給担体材料のような医療装置に使用される材料及び生物材料に生物活性コーティングするために、単一の工程での表面変形、移植及び殺菌用方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which receives voltage by electrification only for required surface potential of the photoreceptor, is free of the generation of ozone and a noise by electrification and has high durability while retaining the advantage of a low power simple equipment structure and to provide an electrophotographic device and a process cartridge.例文帳に追加

帯電電圧は所望する感光体表面電位分のみで、オゾンや帯電音の発生もなく、低電力で簡便な機器構成である等の利点を保持しつつ、高耐久な感光体、電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The contact expanding surface 33 of a plurality of jig bodies 24, 25, 26, 27 is tapered in such a manner that the external diameter is gradually reduced along the direction to the rear end side mounted to an operation rod from the front end side of each jig body or tapered with knurling process.例文帳に追加

複数本の各治具本体24,25,26,27の接触拡張面33を、各治具本体の先端側より作動杆に取付けられる後端側方向に沿って外径が漸次小さくなるテーパーに形成するか又はそのテーパー面にローレットを施した。 - 特許庁

The ceramic coating polishing method consists of two processes: a paint 4 containing a pigment is applied to the surface of a ceramic coating 3 and the pigment is allowed to permeate the coating 3; and following the paint application process, the ceramic membrane 3 is polished.例文帳に追加

本発明によるセラミック皮膜研磨方法は,セラミック皮膜(3)の表面に顔料を含む塗料(4)を塗布し,前記顔料を前記セラミック皮膜(3)に浸透させる塗布工程と,前記塗布工程の後,前記セラミック皮膜(3)を研磨する研磨工程とを備えている。 - 特許庁

The process liquid supply means comprises a nozzle 30 for supplying the processing liquid almost uniformly in the one-side direction of the substrate 20, and the moving means moves the nozzle 30 on the principal surface of the substrate 20 orthogonal to the one-side direction.例文帳に追加

上記処理液供給手段は、基板20の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル30からなり、上記移動手段は、ノズル30を前記一辺方向と直交する基板20主表面上を移動させる手段である。 - 特許庁

If the wire barrel 21 of the terminal metal fitting 20 is crimped to the core wire 12 in a process of crimping operation, the wires 11 of the neighboring conductors 14, 15. 16 are mutually rubbed together, and the insulating coating formed on the surface of the wires 11 is effectively broken down.例文帳に追加

芯線12に端子金具20のワイヤバレル21が圧着されると、圧着動作の過程で、隣接する導体部14、15、16の相互の素線11が互いにこすれ合い、素線11の表面に形成された絶縁性の被膜が効果的に破壊される。 - 特許庁

To provide an electronic component with bump electrode and a method for manufacturing it in which occurrence of open failure is appropriately reduced in a manufacturing process while a surface protecting insulating film having a sufficient film thickness and a bump part having a sufficient height are provided.例文帳に追加

充分な膜厚の表面保護用絶縁膜および充分な高さのバンプ部を具備しつつ、製造過程においてオープン不良の発生が適切に低減される、バンプ電極付き電子部品の製造方法とバンプ電極付き電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving the heterogeneity of image characteristics of the upper part and lower part of the surface of a mask material for exposure as a method for advancing a process by holding the mask material for exposure almost perpendicularly and dipping it in processing tanks containing processing liquid one after another.例文帳に追加

露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。 - 特許庁

In a grinding process, it is so ground that upper side sites 21a on the tail end faces of the plane tile 2 and the end faces of the first small projections 22a are placed on the plane making a fixed angle with a main plate surface 20 of the plane tile 2 in advance.例文帳に追加

次いで、研削工程において、平板瓦2の前記尻部端面の上辺部位21aと、前記各第1小凸部22aの端面とがその平板瓦2の主板面20に対して予め定めた角度をなす平面上に位置するように研削する。 - 特許庁

When a crack reaching the surface processing indentation 11a and the internal crack 12c is formed in a process for dicing the silicon substrate 10 into element chips 10a by an external force, detection of a separated/unseparated part and redicing of a unseparated part are performed for the element chip.例文帳に追加

外力によってシリコン基板10を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕11aと内部亀裂12cとに至る亀裂を形成する際に、素子チップ10aについての分離/未分離部分の検出、未分離部分の再割断を行う。 - 特許庁

The part 71 is positioned by the part 71 and the two parts 74 abutting on the outer peripheral surface of the part 71, so that play caused by process common difference can be minimized in comparison with the conventional fitting structure of a recessed line part and a projected line part.例文帳に追加

円筒部71と、この円筒部71の外周面に当接する2つの位置決め突部74とによって円筒部71を位置決めできるから、従来の凹条部と凸条部との嵌合構造に比べ、加工公差によるがたつきを最小限にすることができる。 - 特許庁

The distribution of a vertical coercive force in an optional point in the medium surface of the recording layer is made to be in a range of an average value ±10% by introducing process gases containing oxygen from gas introducing port arranged concentrically to a substrate center when the recording layer is formed.例文帳に追加

また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±10%以下とする。 - 特許庁

To continue to process a constant radius of curvature of spherical surface form stably and continuously, without requiring a complicated regulation and a high skill, in the manufacture of a spherical form part such as a lens.例文帳に追加

レンズ等の球面形状部品の製造において、複雑な調整や熟練を要することなく、常に安定して継続的に一定の曲率半径の球面形状を加工し続けることが可能な球面形状部品の加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁

In a vacuum vessel, metal fluoride such as magnesium fluoride (MgF_2) is heated and evaporated, further, fluorine-based gas such as carbon tetrafluoride (CF_4) is introduced therein, and a fluorine-based polymerized coating is formed on the surface of a base material by a composite ion plating process using plasma polymerization.例文帳に追加

真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF_2)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素(CF_4)等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。 - 特許庁

Further, the operation control part 40 compares a signal on the lissajous plane which is generated in a process for adhering the eddy current probe 3 closely to a body to be tested with the lift-off allowable area A to evaluate lift-off quantity generated when pressing the eddy current probe 3 to an arbitrary curved surface.例文帳に追加

さらに、演算制御部40は、渦電流プローブを被検査体に密着させる過程で発生するリサージュ平面上の信号とリフトオフ許容領域Aを比較して、任意曲面に渦電流プローブを押付けた際のリフトオフ量を評価する。 - 特許庁

In the process of cutting out a part of the surface from the wiring board material for the core, a part having defects is cut out of the wiring board material, and a defect-free wiring board material part is fit into the space created by the cutting-out, aligned, and fixed therein.例文帳に追加

コア部分とすべき配線板素材においてその面内一部を切り出す工程により、不良が発生している部分を配線板素材から切り出し、このあと、切り出された空間に新たな不良のない配線板素材を嵌め込み、位置合わせ・固定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical device for highly precisely finishing the surface of a necessary component in simple configurations and process and an optical device concerning the manufacturing method of an optical device sealed by sealing resin and an optical element.例文帳に追加

封止樹脂により封止される光学装置の製造方法及び光学素子に関し、簡単な構成、かつ、工程で必要な部分の表面を高精度に仕上げることができる光学装置の製造方法及び光学装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a propylene-based resin film generating to orange peel texture (uneven film surface) caused by heat sterilization such as a retorting process, also excellent in heat-seal strength and impact strength and to be suitably used as a food packaging material, and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

レトルト殺菌処理などの加熱殺菌によるユズ肌(フィルム表面の凹凸)の発生がなく、ヒートシール強度及び衝撃強度も良好な、食品包装材料として好適に用いられるプロピレン系樹脂フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, as the surface of the orientation film 15 draws gently-sloping inclination at the parts where the spacers present, the uniform orientation treatment of the whole parts including the parts where the spacers are present can be carried out in a process for performing orientation processing to the orientation film 15.例文帳に追加

これにより、配向膜15の表面がスペーサ21が存在する箇所においてなだらかな傾斜を描くので、配向膜15に配向処理を行う工程において、スペーサ21が存在する部分を含めて全体に均一に配向処理を行うことができる。 - 特許庁

In the heat fixing device of the image forming device, an oil repelling process is applied on the whole surface or on one part of a specified position in a heat generating source of the heat fixing device or its vicinity at least where movement of the silicone oil due to the creeping phenomenon is allowed.例文帳に追加

画像形成装置の熱定着装置において、少なくともシリコーンオイルのクリープ現象による移動が許容される箇所である熱定着装置の発熱源或はその近傍における特定個所の全面若しくは一部分に撥油処理を施す。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition for semiconductor sealing, which composition is suitable for an area-mounting semiconductor device having excellent reliability on soldering resistance, temperature cycling resistance and the like since it has small warpage at ambient temperature and in a soldering process, having excellent adhesive property to a gold-plated surface and a solder resist.例文帳に追加

室温及び半田付け工程での反りが小さく、金メッキやソルダーレジストとの密着性に優れるため耐半田性や耐温度サイクル性等の信頼性に優れるエリア実装型半導体装置に適した半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得ること。 - 特許庁

An amorphous silicon thin film is formed on the surface of a substrate 4 in a vacuum atmosphere by a CVD (chemical vapor deposition) process, thereafter, while placing the substrate 4 in the vacuum atmosphere, the temperature is raised to the one at which the amorphous silicon thin film is formed or above, and dehydrogenation treatment is performed.例文帳に追加

真空雰囲気中で基板4表面にCVD法によってアモルファスシリコン薄膜を形成した後、その基板4を真空雰囲気中に置いたまま、アモルファスシリコン薄膜を形成したときの温度以上に昇温させ、脱水素処理を行う。 - 特許庁

To provide a process for producing an adhesive optical film in which an adhesive layer laminated on at least one surface of an optical film through an anchor layer, the adhesive optical film being good in adhesion and excellent in crack durability at high temperatures.例文帳に追加

光学フィルムの少なくとも片面にアンカー層を介して粘着剤層が積層されている粘着型光学フィルムの製造方法であって、密着性がよく、高温でのクラック耐久性に優れる粘着型光学フィルムの製造方法を提供すること - 特許庁

To provide an electrostatic charge image developing carrier, not causing leakage of charges on the surface even in a long-time use to maintain stable charge applying capability, an electrostatic charge image developer using it, and a process cartridge and an electrostatic charge image developer using the above.例文帳に追加

長期の使用によっても表面の電荷の漏洩がなく、安定した帯電付与能力が維持される静電荷像現像用キャリア及びそれを用いた静電荷像現像剤、並びに、それらを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

In this device, through casting, initial drying, bone drying and sintering of a slurry in this order, the initial drying is performed after an aging process of leaving the molded body for 5 hours or more with the drying speed of 7 g/h or less per 1 m2 of the surface area.例文帳に追加

第1発明は、スラリーの鋳込み成形、初期乾燥、完全乾燥および焼結を順に経る際、表面積1m^2当たりの乾燥速度を7g/時間以下として5時間以上成形体を放置するエージングを行った後、該初期乾燥を行う。 - 特許庁

To provide an electron emitting element which can perform easily electric field concentration and has excellent electron emitting capacity with good uniformity and stability, and uses a nano carbon material that can be fabricated with a simple process of high controllability, its manufacturing method, and a surface light-emitting element.例文帳に追加

電界集中が容易で、電子放出能及びその均一性、安定性に優れ、かつ簡便で制御性が高いプロセスで作製できるナノ炭素材料を用いた電子放出素子及びその製造方法並びに面発光素子を提供することである。 - 特許庁

To provide a method forming the surface of a heated and formed article of egg in a single-cut pattern rolled with a rolling reed screen in a process for carrying out deep drawing packaging of an eggroll or a formed article of heated egg mainly composed of egg and to provide a female mold used therefor.例文帳に追加

玉子焼及び玉子を主体とする玉子加熱成形品を深絞り包装する工程において、前記玉子加熱成形品の表面を、例えば巻きすで巻いた筋目模様に成形する方法およびそれに用いる雌型を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etcher and an etching method which effectively removes adsorbed and left H_2O, CH_3OH or CH_3COOH and byproducts on the surface of a semiconductor wafer after etching ends, thereby preventing the contamination of a CVD apparatus to enable a high- reproducibility stable process.例文帳に追加

エッチング終了後に半導体ウエハ表面に吸着残留したH_2O、CH_3OH、若しくはCH_3COOH及び副生成物を効果的に除去しCVD装置の汚染を防止することで、再現性の高い安定したプロセスを可能にするバッチ式エッチング装置及び方法を提供する。 - 特許庁

例文

A reflective mirror 3 of the rear projection television (RPTV) includes a float glass plate (glass substrate) 1 formed to have a plate thickness of 3 mm by a float process, and a reflection enhancing film 2 constituted of aluminum (Al) formed on one surface 1a of the glass substrate 1 by a sputtering method.例文帳に追加

リアプロジェクションテレビ(RPTV)の反射ミラー3は、フロート製法により板厚が3mmに形成されたフロートガラス板(ガラス基板)1と、ガラス基板1の一方の表面1aに、スパッタ法により形成されたアルミニウム(Al)から成る増反射膜2とを備える。 - 特許庁




  
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