「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(150ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heating device equipped with a ceramic base body and a heating element buried in the base body, and provided with a heating surface to process a heating object to the base body, with stabilized operation in each part of the heating device.例文帳に追加

セラミックス製の基体と、この基体の中に埋設されている発熱体とを備えており、基体に被加熱物を処理するべき加熱面が設けられている加熱装置において、加熱装置の各部分における動作状態を安定化する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a negative electrode active material for a nonaqueous secondary battery, in which an efficiency of a manufacturing process is improved by simply recovering the surface-coated negative electrode active material and simultaneously performing separation and recovery.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、非水系二次電池用負極活物質製造方法における表面被覆後の回収を簡便に行い、かつ、回収と同時に選別を行うことにより製造工程の効率化を図るという点である。 - 特許庁

With a mask of the porous board 10a, a thin-film forming process is carried out to form a first electrode 15 having a plurality of cylindrical bodies 12 with outer diameter of several nm to hundred of nm on a surface of a capacitor board 14.例文帳に追加

多孔質基板１０ａをマスクとして用いて薄膜成膜処理を行い、コンデンサ用基板１４の表面に、それぞれの外径が数ｎｍから数百ｎｍの多数の柱状体１２が規則的に配列された第１電極１５を形成する。 - 特許庁

This press plate for lithography is obtained by forming an image on a water-resistant support having a hydrophilic surface to be lithographically printed with the help of an ink jet process using a water dipersion composed of a polyester resin containing an ionic group, at a glass transition temperature of 40°C or higher and thermally fixing the image.例文帳に追加

平版印刷可能な親水性表面を有する耐水性支持体上に、ガラス転位温度４０℃以上のイオン性基含有ポリエステル樹脂からなる水分散体をインクジェット方式にて画像形成し、熱定着により刷版を得る。 - 特許庁

Since a first threshold value setting process is performed to settle the threshold value TH (N) before getting the height position of the substrate surface 3a, the threshold value TH (N) is set as the value reflecting the condition inside the nozzle and the air passage 67 at the setting point of time.例文帳に追加

また、基板面３ａの高さ位置を求める前に、第１閾値設定処理を実行して閾値ＴＨ（Ｎ）を設定しているので、閾値ＴＨ（Ｎ）はその設定時点でのノズル内部や空気経路６７の状態を反映した値となる。 - 特許庁

To provide a check apparatus and a check method, capable of obtaining the distribution and tendency for the electrical resistance and capacitance of the entire surface of a substrate equipped with fine circuit patterns such as semiconductor devices or liquid crystals in a short time in a process of manufacturing the substrate.例文帳に追加

半導体装置や液晶等の微細な回路パターンを有する基板製造過程で基板全面の電気抵抗および電気容量の分布や傾向を短時間に求めることが可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

Since this silicon oxide film 16 is isotropically etched through the wet process with the Buffered HF solution from the state projected from the surface of the polycrystal silicon film 13, the slope 16a of this silicon oxide film 16 is formed in the shape of roof toward the central region.例文帳に追加

このシリコン酸化膜１６は、多結晶シリコン膜１３の表面から突出する状態からBufferedＨＦ溶液でウェット処理をすることで等方的にエッチングされるので、中央部に向かって傾斜面１６ａを屋根状に有する構成となる。 - 特許庁

Then in the second coating process, since the coating liquid 9 sprayed from a spray nozzle is difficult to reach the bottom part of the recessed part, the coated film 10 is formed in a region from the intermediate depth position of the recessed part to the upper surface of the protruded part 3 to be baked.例文帳に追加

そして、第２の塗布工程では、スプレーノズルから噴霧された塗布液９は、凹部の底部までは届きにくいため凹部の中間深さ位置から凸部３の上面に至るまでの領域に被膜１０が形成され、この被膜１０をベークする。 - 特許庁

To develop an electrophotographic photoreceptor having high surface hardness and high wear resistance and maintaining stable electrophotographic properties in repetition even at high temperature and high humidity, therefore giving good images even in repetitive use and a method for manufacturing the photoreceptor, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面硬度が高く、耐摩耗性が高く、繰り返し時の電子写真特性が高温高湿下でも安定な、従って、良好な画像が繰り返し使用に於いても得られる電子写真感光体とその製造方法を開発する。 - 特許庁

The method for manufacturing the interior equipment 1 for the automobile contains the process of coating the surface, on the foam layer 3 side, of the skin layer 6 with a resin raw material as a raw material for the barrier layer 5 and forming the barrier layer 5 on the skin layer 6.例文帳に追加

そして本発明の自動車用内装品１の製造方法は、バリア層５の原料となる樹脂原料を表皮層６における発泡層３側の面にコーティングし、表皮層６上でバリア層５を形成させる工程を包含する。 - 特許庁

A process computing portion 15 calculates a polishing rate estimated value by substituting the polishing pressure, the table rotating motor current, the surface temperature of the polishing pad, and the polishing pad remaining thickness recorded in the data recording portion 14 into a predetermined model expression.例文帳に追加

プロセス演算部１５は、データ記録部１４に記録された研磨圧力、テーブル回転モータ電流、研磨パッドの表面温度および研磨パッド残厚の平均値を、予め作成されたモデル式に代入して研磨レート予測値を算出する。 - 特許庁

In a masking process ST3, an etching-resistant, film-like mask member 12, where the outer-periphery section is held by a ring-shaped frame member 14, is stuck onto a back 1b at a side opposite to a circuit formation surface 1a of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

マスキング工程ＳＴ３において、半導体ウェハ１の回路形成面１ａとは反対側の裏面１ｂに、外周部がリング状の枠部材１４によって保持された耐エッチング性を有するフィルム状のマスク部材１２を貼り付ける。 - 特許庁

A process for implanting Ge ions in an Si layer 3 in an SOI wafer, thermally oxidizing the Si layer 3, forming a SiO2 layer 4 on a surface and converting it into a thinned SiGe layer 3G is included.例文帳に追加

ＳＯＩウエハに於けるＳｉ層３にＧｅイオンを注入してからＳｉ層３を熱酸化して表面にＳｉＯ_2 層４を形成すると共に薄層化されたＳｉＧｅ層３Ｇに変換する工程が含まれてなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mold releasing polyester film wherein defects such a pinhole and the like derived from a film surface projection are not generated in a green sheet, and generation of defects of the green sheet caused by flaws and a working process can be suppressed.例文帳に追加

グリーンシートにフィルム表面突起由来のピンホール等の欠点を発生させず、かつ製造工程や加工工程で発生する傷や削れに起因するグリーンシートの欠点の発生を抑制することができる離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

In the process of cleaning the endoscope, a coating layer 60 forming an inner wall surface S_0 of the endoscopic conduit (forceps channel 57 etc.) is molten with hot water (peeling liquid), and the coating layer 60 is removed from a base portion 58 surrounding the conduit.例文帳に追加

内視鏡を清浄するプロセスにおいて、内視鏡の管路（鉗子チャネル５７等）の内壁面Ｓ_０を形成するコーティング層６０が温水（剥離液）により溶かされ、当該管路を取り囲むベース部５８からコーティング層６０が除去される。 - 特許庁

In a conductive spacer arrangement process, substantially circular conductive spacers 82 are respectively arranged at positions corresponding to corners of a virtual square on the upper surface of the carbon paste layer 12B of the element to be the cathode 12 of the capacitor element 10.例文帳に追加

導電性スペーサ配置工程では、コンデンサ素子１０の陰極部１２となる素子のカーボンペースト層１２Ｂの上面上において、仮想的な四角形の角部に相当する位置に略円形状に導電性スペーサ８２がそれぞれ設けられる。 - 特許庁

The iron alloy after the pre-process which is placed inside of the wet etching tank 111 is taken out and placed in a film forming chamber 330, and after the oxidized coating film is further removed by ion beam etching, a carbon film is formed on the surface by arc discharge etc.例文帳に追加

ウェットエッチング槽１１１の内部に置かれた前処理後の鉄合金は、取り出されて成膜チャンバー３３０に置かれ、イオンビームエッチングにより酸化被膜をさらに除去された後、アーク放電などにより表面に炭素膜を形成される。 - 特許庁

The screw 12 is screwed, so as to be abutted onto the lower surface of the electronic component 1 in a process for heating and fusing the thermofusion joint member, as a height adjustment member for keeping a prescribed distance between the electronic component 1 and the mounting substrate 6.例文帳に追加

ネジ１２は、電子部品１と実装基板６との間に所定の距離を維持するための高さ調節部材として、熱溶融接合部材を加熱して溶融させる工程において、電子部品１の下面に当接するようねじ込まれる。 - 特許庁

The process of fabricating such high quality Al_xGa_yIn_zN wafer may include steps of lapping, mechanical polishing, and reducing internal stress of such wafer by thermal annealing or chemical etching for further enhancement of its surface quality.例文帳に追加

このような高品質Ａｌ_ｘＧａ_ｙＩｎ_ｚＮウェーハの製造方法はラッピング工程、機械研磨工程、およびその表面品質を更に高めるための熱アニールまたは化学エッチングによるウェーハの内部応力を低下させる工程を含んでよい。 - 特許庁

To ease and secure an assembly process and handling of cells by fastening insulating separators at prescribed positions on the cells before lamination and insulating a portion or the whole of the surface of outer cans by the separators.例文帳に追加

電池セルを積層しない状態で、絶縁性のセパレータを電池セルの定位置に固定し、セパレータでもって外装缶の表面の一部あるいは全体を絶縁して、電池セルの組み立て工程や取り扱いを極めて容易に、しかも安全にする。 - 特許庁

In the cutting process, the end face may be cut into an arc shape of a horizontal cross section with a radius not larger than the thickness of the design panel, and a groove equivalent to the joint groove formed in the surface of the siding panel is formed in the end face.例文帳に追加

切削工程においては、水平断面が半径がサイディングパネルの厚さ以下の長さである円弧状であるように端面を切削してもよく、かつサイディングパネルの表面に形成された目地溝と対応した溝を端面に形成する。 - 特許庁

To provide a functional element such as a liquid crystal display element, an element of organic EL or the like, a surface light-emitting body, an optical device and a solar cell, which is reliably sealed by an easy process of heat-sealing to obtain a long lifetime and which can be fabricated in a thin form.例文帳に追加

ヒートシールという簡便な工程で確実に封止され、長寿命とすることができると共に薄型化が可能な液晶表示素子、有機ＥＬ等の素子、面状発光体、光ディバイス、太陽電池等の機能素子を提供する。 - 特許庁

To solve problems that a process for achieving anti-slip effect by mixing aggregate with a coating materials requires times and labors to prepare the aggregate-incorporated coating material in a working site and the coating surface is non-uniform and the coating quality is worse because the coating is carried out by handling using a roller brush or the like.例文帳に追加

塗料に骨材を混ぜて滑り止め効果を成す工法は、課題［０００４］のように工事現場で骨材混入塗料を作る手間、ローラー刷毛等で手塗りする作業であることから、塗布面に斑があり施工品質が悪い。 - 特許庁

To provide a slab and its manufacturing method for remarkably suppressing a phenomenon in which patterns due to oscillation marks or the like even when the repair of the slab surface is reduced at the time of manufacturing the product of a steel sheet through a rolling process from the slab.例文帳に追加

本発明は、スラブから圧延工程を経て鋼板製品を製造する際、スラブ表面手入れを軽減しても、オシレーションマーク等に起因した模様が残存する現象を大幅に抑制できるスラブ及びその製法を提供する。 - 特許庁

Wiring electrically connecting a second electrode 15 on an upper surface of the light-emitting element 10 and the terminal electrode 32 of the light-emitting device 1 to each other is wiring 34 formed by not wire bonding but a deposition process such as plating.例文帳に追加

発光素子１０の上面にある第２電極１５と、発光装置１の端子電極３２とを互いに電気的に接続する配線が、ワイヤボンディングではなく、めっきなどの成膜プロセスによって形成された配線３４となっている。 - 特許庁

To provide a head suspension assembly which can stabilize mechanical characteristics while preventing a fragment from falling on a disk surface even if a head amplifier IC chip causes chipping or cracks in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程においてヘッドアンプＩＣチップに欠け、クラック等が発生した場合でも、ディスク表面への破片の落下を防止できるようにした上で、機械的特性を安定させることができるヘッドサスペンションアッセンブリを提供することを課題とする。 - 特許庁

Bubbles 11 are mixed among the sheets 8 of the sheet group 4 in a process of immersing the sheet group 4 fixing one end of each cut sheet 8 in a treatment liquid tank 2 convecting the treatment liquid 1 and removing impurities from the surface of each cut sheet 8.例文帳に追加

前記各切断薄板8の片端を固定した薄板群4を、処理液1が対流する処理液槽2に浸して、各切断薄板8の表面から不純物を除去する工程の際、薄板群4の薄板8相互間に、気泡11を混入させる。 - 特許庁

To precisely regulate the posture disturbance of a glass ribbon which occurs in forming, without deteriorating the surface grade of the middle part in the direction of width of the glass ribbon drawn from a formed body even when a thin platy glass ribbon is formed by a down-draw process.例文帳に追加

ダウンドロー法によって薄板のガラスリボンを成形する場合であっても、成形体から流下されたガラスリボンの幅方向中間部の表面品位を阻害することなく、成形時に生じるガラスリボンの姿勢の乱れを的確に規制する。 - 特許庁

The artificial turf surface can be made as a form of a final product in an industrial manufacturing process, which includes a granular filler or the filler (3) held on the substrate (1), by using the curled end (2b) of the fibrous composition (2).例文帳に追加

この人工芝面は、前記繊維組成物（２）のカールした遠隔端末（２ｂ）によって前記基板（１）上に保持される粒状充填材料又は充填材（３）を含んだ工業的製造工程の最終製品の形態として作ることができる。 - 特許庁

The solid electrolytic capacitor is obtained by forming a plating layer (10) on the surface of the capacitor element (15), connecting the cathode terminal (21) to the plating layer (10), and then forming the plating layer (10) from above after the above-mentioned process.例文帳に追加

前記コンデンサ素子（１５）の表面にメッキ層（１０）を形成し、該メッキ層（１０）に陰極端子（２１）を接続すること、また前記コンデンサ素子（１５）に、前記陰極端子（２１）を接続後、その上からメッキ層（１０）を形成することを特徴とする。 - 特許庁

Titanium oxides present in surface films of titanium metals, in impurities formed in a semiconductor production process and an LCD (liquid crystal device) module production process, and in impurities included in silica, alumina and ceria are contacted with carbonate such as ammonium carbonate, ammonium bicarbonate and ammonium carbamate and/or carbonic acid, ozone and water at 20 to 100°C, so that the titanium oxides are dissolved.例文帳に追加

チタン金属の表面皮膜や、半導体製造工程・ＬＣＤモジュール製造工程で生成する不純物や、シリカ、アルミナ、セリアに含まれる不純物中に存在するチタン酸化物を、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、カルバミン酸アンモニウム等の炭酸塩及び／又は炭酸、オゾン及び水に２０〜１００℃で接触させることにより、チタン酸化物を溶解する。 - 特許庁

The method of depositing the metallic layer containing metal on the substrate surface has a process step of immersing the substrate in a first solution which contains a depolarizing agent and in which the metal ions do not substantially exist and a process step of immersing the substrate into a second solution containing the metal ions described above while passing an electric current between the substrate and an anode.例文帳に追加

基板表面上に金属を含む金属層を析出させる方法であって、前記基板を、復極剤を含み、かつ、実質的に前記金属イオンが存在しない第一溶液に浸す工程と、その後に、前記基板とアノード間に電流を流しながら、前記基板を、前記金属のイオンを含有する第二溶液に浸す工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A second ion implanting process (c1) implants the additional function layer 4 with ions at its surface as much as the total dose in the first and second planting processes exceeding the critical dose at the same deposition depth position as that in the first ion implanting process, thus making the peel-expected ion implanted layer 3 into a peeling ion implanted layer 3'.例文帳に追加

第２のイオン注入工程（ｃ１）で、付加機能層４の表面側から第１のイオン注入工程でイオン注入されたのと同じ深さ位置となるように、第１のイオン注入工程でイオン注入されたドーズ量と合わせて臨界ドーズ量以上となるドーズ量のイオンを打ち込むことにより剥離予定イオン注入層３を剥離用イオン注入層３’とする。 - 特許庁

This construction method of a refractory 600 applied to the inside of a kiln and exposed to hot in the gas atmosphere including the alkaline component, comprises a process for lining the refractory 600 to the inside of the kiln, and a process for coating a surface of the lined refractory with a coating material 605 melting at 750°C or more, mainly composed of silica, and including oxide of alkali metal and alumina.例文帳に追加

窯炉内部に施工され、アルカリ成分を含むガス雰囲気に熱間で曝される耐火物６００の施工方法において、前記窯炉内部に耐火物６００を内張りする工程と、内張りされた耐火物表面に、７５０℃以上で溶融し、シリカを主成分として、アルカリ金属の酸化物、及びアルミナを含むコーティング材６０５を塗布する工程とが実施される。 - 特許庁

To provide a decorative film which can be embossed with an irregular pattern to the same extent as or beyond a decorative sheet using a polyvinyl chloride resin film and also exhibits outstanding surface physical properties such as design, contamination resistance and solvent resistance and further, is soft enough to permit a vacuum molding process or a lapping process with superb mar resistance, and a decorative sheet on which the decorative sheet is laminated.例文帳に追加

ポリ塩化ビニル樹脂フィルムを用いた化粧シートと同等以上のエンボス加工による凹凸模様を付与することが可能で、意匠性、耐汚染性、耐溶剤性などの優れた表面物性を有し、さらに真空成形やラッピング加工が可能な程度に軟質で、かつ耐疵付き性にも優れた化粧フィルム、およびその化粧フィルムを積層した化粧板を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the fiber-reinforced composite material comprises the lamination process of arranging the thermoplastic resin-containing thermoplastic resin base material to let the same contact at least a part of the surface of the carbon fibers and the curing process of curing a curable composition containing a cyclo-olefin monomer, a polymerization catalyst and a crosslinking agent in the presence of the thermoplastic resin base material and the carbon fiber base material.例文帳に追加

該繊維強化複合材料は、炭素繊維の表面の少なくとも一部分に接触するように熱可塑性樹脂を含む熱可塑性樹脂基材を配置する積層工程、ならびに前記熱可塑性樹脂基材及び炭素繊維基材の存在下にシクロオレフィンモノマー、重合触媒及び架橋剤を含んでなる硬化性組成物を硬化させる硬化工程により製造される。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes a process of simultaneously introducing hydrogen and oxygen onto the SiC substrate 1, and a process of subjecting the hydrogen and oxygen to combustion reaction on the SiC substrate 1 under conditions of a temperature of ≥1,000°C and reduced pressure, and thereby forming the gate oxide film 4 as a silicon oxide film on the surface of the SiC substrate 1 through the combustion reaction.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、ＳｉＣ基板１上に水素および酸素を同時に導入する工程と、前記ＳｉＣ基板１上において、１０００℃以上の温度かつ減圧の条件下で前記水素および前記酸素を燃焼反応させ、該燃焼反応により前記ＳｉＣ基板１表面にシリコン酸化膜であるゲート酸化膜４を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the silicon carbide sintered compact includes: a process of firing a mixture containing ethyl silicate and phenol resin under an inert atmosphere to extract powder of a silicon source that contains a silicon simple substance generated during the generation of a silicon carbide powder body; and a vapor deposition process of depositing the silicon source to a surface of the silicon carbide sintered compact.例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体の製造方法は、不活性雰囲気下において、エチルシリケートとフェノール樹脂とを含む混合物を焼成し、炭化ケイ素粉体を生成する過程で生成され、ケイ素単体と一酸化ケイ素とを含むケイ素源の粉体を抽出する工程と、炭化ケイ素焼結体の表面に前記ケイ素源を蒸着させる蒸着工程を有する。 - 特許庁

The process for preparing stabilized metal nanoparticles comprises a step of reacting a metal compound with a reducing agent in the presence of a stabilizer in a reaction mixture comprising the metal compound, the reducing agent and the stabilizer, wherein the reaction mixture is substantially free of solvent, to form a plurality of metal-containing nanoparticles during the solvent-free reduction process with molecules of the stabilizer on the surface of the metal-containing nanoparticles.例文帳に追加

金属化合物、還元剤、及び安定剤を含む実施的に無溶媒の反応混合物中で、金属化合物を安定剤の存在下で還元剤と反応させて、無溶媒還元プロセスにより、表面上に安定剤の分子を有する複数の金属含有ナノ粒子を形成するステップを含む、安定化金属ナノ粒子を調製するプロセス。 - 特許庁

The method for manufacturing the multilayer electronic component contains a process for forming a separation layer containing low-viscosity resin on a support sheet before forming the electrode layer on the support sheet; and a process for forming an adhesive layer on a surface at the side of an opposite electrode layer of a green sheet for laminating the green sheet having the electrode layer via the adhesive layer.例文帳に追加

電極層を支持シート上に形成する前に、支持シート上に、粘着力の低い樹脂を含有する剥離層を形成する工程と、電極層を有するグリーンシートの反電極層側表面に接着層を形成し、この接着層を介して、電極層を有するグリーンシートを積層する工程とを含有する積層型電子部品の製造方法。 - 特許庁

To provide an annealing method of a silicon carbide single crystal capable of removing thermal stress distortion and processing distortion remaining in the silicon carbide single crystal without causing remarkable crystallinity deterioration due to surface carbonization and hardly causing crystalline cracking and crack generation at a working process of a crystal and at a device process and to provide a silicon carbide single crystal wafer subjected to an annealing treatment.例文帳に追加

炭化珪素単結晶中に残留する熱応力歪や加工歪を、表面炭化による著しい結晶性劣化を起こすことなく除去し、結晶の加工プロセス時やデバイスプロセス時に結晶割れやクラック発生が起こらない炭化珪素単結晶の焼鈍方法、及び、その焼鈍処理を施された炭化珪素単結晶ウェハを提供する。 - 特許庁

Alternatively, the aluminum product 1 is manufactured by a coating material applying process for applying or spraying the coating material 4 comprising aluminum and a synthetic resin onto the surface of the aluminum base material 2 coated with the titanium 3 layer and a heat treatment process for integrally forming the titanium-aluminum alloy layer 5 on the aluminum base material 2 by removing the synthetic resin by heat treating the coating material 4.例文帳に追加

また、チタン３層にて被覆されているアルミニウム母材２の表面に、アルミニウムと合成樹脂とから成る被膜材４を塗布または吹き付ける被膜材付着工程と、該被膜材４を熱処理して合成樹脂を除去することでアルミニウム母材２にチタンアルミ合金層５を一体形成する熱処理工程とによりアルミニウム製品１を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the conductive roller comprises a coating film forming process for applying an adhesive to the surface of the resilient porous layer of a roller base having the core and the resilient porous layer which coats the core and is bonded thereto and a static implanting process for implanting the coating film with the conductive polymer-coated fiber and the electrodeposited fiber by electrostatic force.例文帳に追加

本導電性ローラの製造方法は、芯材と、芯材を被覆し且つ芯材に接着された弾性多孔質層とを備えるローラ基体における弾性多孔質層の表面に接着剤を塗布し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、この塗膜に、導電性高分子被覆繊維及び電着処理繊維を、静電力により植毛する静電植毛工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the toothed ring 1 includes a first process in which the plate is punched into a ring, and uneven teeth 5 are formed on its outer circumferential side surface, and a second process in which the plate is turned by 90° by pressing an inner circumferential part of the ring-shaped plate normal to the plane of the plate to form the plate into a cylindrical shape.例文帳に追加

また本発明に係る歯付リング１の製造方法は、板材を打ち抜いてリング状に加工すると共に、その外周側面に凹凸状の歯５を形成する第一工程と、このリング状板材の内周側部分を板材平面方向と垂直に押圧することにより、板材を９０°転回させて円筒状に成形する第二工程とを含むものである。 - 特許庁

Further, the organic glass is manufactured by a primer layer forming process for forming the primer layer 2 comprising the resin primer on the surface of the transparent resin substrate 1 and a hard coat layer forming process for forming the hard coat layer 3 comprising silicon oxide on the primer layer 2 by a physical vapor deposition method while holding the temperature of the substrate 1 to 100°C or below.例文帳に追加

また、本発明の有機ガラスの製造方法は、透明性樹脂基板１の表面に樹脂プライマーからなるプライマー層２を形成するプライマー層形成工程と、物理的蒸着法によりプライマー層２の上に基板１の温度を１００℃以下に保って酸化ケイ素からなるハードコート層３を形成するハードコート層形成工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁