「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(148ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing an insulating resin with a copper foil has a process for forming an insulating resin layer on the single surface of the copper foil and cutting the coated copper foil into a necessary size and subsequently treating the cut part of the insulating resin with the copper foil with a liquid for dissolving the insulating resin layer.例文帳に追加

銅箔の片面に絶縁樹脂層を形成し、必要なサイズに切断した後に、銅箔付き絶縁樹脂の切断部を、前記絶縁樹脂層を溶解する液体で処理する工程を有する銅箔付き絶縁樹脂の製造方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which receives voltage by electrification only for required surface potential of the photoreceptor, is free of the generation of ozone and a noise by electrification and has high durability while retaining the advantage of a low power simple equipment structure and to provide an electrophotographic device and a process cartridge.例文帳に追加

帯電電圧は所望する感光体表面電位分のみで、オゾンや帯電音の発生もなく、低電力で簡便な機器構成である等の利点を保持しつつ、高耐久な電子写真感光体、電子写真装置及びプロセスカートリッジ。 - 特許庁

According to this method, air heated simultaneously with the ignition of the oven is passed through the pipe 9, and the air at the optimum temperature under this process is ejected slowly from the upper surface of the warming board D for feet to warm from feet to the lower half body, then, the whole body.例文帳に追加

これによってレンジ点火と共に熱くなった空気がパイプ９を通り、その過程で適温になった空気を足元用暖房敷板Ｄの上面から、ゆるやかに噴き出させ、足元から下半身、そして全身を温めるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric separation wafer, in which the peripheral section of a negative resistor film applied to the backside of the wafer is hardly eroded by a developing solution at the developing of the front-surface negative resist with the developing solution, after the backside negative resist is applied in a photolithograph process.例文帳に追加

フォトリソグラフ工程において、裏面ネガレジスト塗布後の表面ネガレジスト現像処理時に、ウェーハ裏面に塗布されたネガレジスト膜の周辺部が、この現像液で溶損しにくい誘電体分離ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the surface of the outer circumference of plug 1, multiple strips of spiral ditches 1a are made to form ribs. Plug 1 is inserted concentrically with dies 2 and the plain tube 3 into the inner circumference of plain tube 3 which is machined through a drawing process while being squeezed by dies 2.例文帳に追加

外周面にリブ成形用の複数条の螺旋溝１ａが形成され、ダイス２によって絞られつつ引抜き加工される素管３の内周部に、ダイス２及びこの素管３と同心状に挿入されるプラグ１である。 - 特許庁

When the laser chip 20, sub- mount 30, and heat sink 40 are laid upon another and heat and pressure are applied to them, the surface and rear solder films 3a and 3b melt and the chip 20, sub-mount 30, and sink 40 stick to each other in one process.例文帳に追加

レーザチップ２０、サブマウント３０およびヒートシンク４０を重ね合わせ、熱および圧力を加えることにより、表面半田膜３ａおよび裏面半田膜３ｂが溶融し、レーザチップ２０、サブマウント３０およびヒートシンク４０が一度に貼り合わされる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fluorescent lamp capable of easily shaping the wall thickness of an end part of a closing part and curved surface of a glass tube more uniformly than before, without adding new process.例文帳に追加

ガラス管の閉塞部における閉塞端部の肉厚および曲面を従来に比べて一層均一に形成可能であるとともに、新たな工程を設けることなく容易に形成することができる蛍光ランプの製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing a fluorine-containing resin independent thin film which is homogeneous in engineering, un-scratched and un-stretched on a surface and excellent in cleanness as well as transparency, without passing through the process such as a water-steeping separation at separating a film from a substrate.例文帳に追加

工学的に均質で、表面に傷や伸びなく、清浄且つ透明性に優れた含フッ素樹脂独立薄膜を、基体からの膜の剥離に際して水浸漬剥離工程等を経ることなく簡易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a contact type magnetic head or the like having magnetic contact pads with which the damage to the surface of a magnetic recording medium and the pads in contact therewith and the generation of debris are substantially prevented, and an exact execution of high-density recording and reproducing is possible.例文帳に追加

磁気記録媒体の表面やこれに接触するパットを損傷せず且つデブリを発生し難くし、高密度の記録・再生が正確に行える磁気接触パットを有する接触型磁気ヘッドの製造方法等を提供する。 - 特許庁

A load reducing means to reduce the load added to the carrying of the image recording mediums is provided on a carrying means for carrying the image recording mediums from this surface treatment device to a subsequent process to be accompanied by fluctuation of the carrying load of the image recording mediums.例文帳に追加

表面処理装置から、媒体搬送の負荷変動を伴う次工程に画像記録媒体を搬送する搬送手段に、画像記録媒体の搬送にかかる負荷を軽減する負荷軽減手段を設けることにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method of forming a projection electrode, in which an excellent junction is obtained using solder paste without performing a process of removing an oxide film on a surface of a land; and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、ランドの表面の酸化膜を除去する工程を行わなくても、半田ペーストを使用して良好な接合が得られる突起電極の形成方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the brazing method of the aluminum member and the member composed of the copper or the stainless steel by using Zn-Al alloy base or Al-Si-Zn alloy base brazing filler metal, the brazing filler metal and Cs-F base non-corrosive flux are set on a joining surface, and the heating process is continued.例文帳に追加

Zn-Al 合金系又はAl-Si-Zn合金系のろう材を用いて、アルミニウム部材と銅又はステンレスからなる部材とをろう付けする方法であって、ろう材と、CsＦ系の非腐食性フラックスとを接合面に配置し、加熱する工程を有する。 - 特許庁

The salicide step includes a step for forming a metallic layer 210 on the substrate 200, a step for forming a salicide layer 212 on a silicon surface in a rapid thermal process(RTP), and a step for removing a metallic layer 210 that is not reactivated.例文帳に追加

サリサイドプロセスは、基板２００の上に金属層２１０を形成する段階と、ラピッドサーマルプロセス（ＲＴＰ）を行ってシリコン表面上にサリサイド層２１２を形成する段階と、反応しなかった金属層２１０を除去する段階とを含む。 - 特許庁

To manufacture a high performance solid-state imaging apparatus by properly controlling the thickness of a reflection preventing film provided to a photodiode surface, and the thickness of a sidewall provided to a gate electrode side wall of an MOS transistor without increasing manufacturing process.例文帳に追加

製造工程を増加させることなく、フォトダイオード表面に設けられた反射防止膜の膜厚およびＭＯＳトランジスタのゲート電極側壁に設けられたサイドウォール厚を適正に制御して、高性能な固体撮像装置を作製する。 - 特許庁

The conductive circuit formation method is a sputtering method where metal atoms sputtered from a target 2 provided in a cathode electrode 1 are deposited on the surface of a substrate 3, relating to the conductive circuit formation method having a process for forming a conductive film 4 to form a circuit on the substrate 3.例文帳に追加

カソード電極１に設けたターゲット２からスパッタさせた金属原子を基板３の表面に堆積させるスパッタリング法で、基板３に回路形成用の導体膜４を形成する工程を有する導電性回路形成方法に関する。 - 特許庁

To provide a means for ensuring a mold releasing property of acrylic rubber from a metallic surface without causing deficiency such as poor adhesion in a processing process of a mixed and kneaded rubber composition nor having apprehensions of poor dispersion to rubber or influence to vulcanization.例文帳に追加

混練後のゴム組成物の加工工程における接着不良などの不具合を起こすこともなく、また、ゴム中への分散不良、加硫への影響などが懸念することなく、アクリルゴムを金属面からの離型性を確保するための手段の提供。 - 特許庁

Curing systems are provided that include a planar support surface for supporting a substrate having at least one layer deposited thereon, at least one curing device for curing the at least one deposited layer, and a control system for controlling the overall curing process.例文帳に追加

少なくとも１つの堆積層を有する基板を支持する平坦な支持面と、少なくとも１つの堆積層を硬化させる少なくとも１つの硬化装置と、全体的な硬化過程を制御する制御システムとを含む硬化システムが提供される。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor wafer devised not to cause small flaws and latent flaws on a surface of the wafer by using specific polishing cloth as polishing cloth to be used in a specular polishing process of the semiconductor wafer, especially in finishing polishing.例文帳に追加

半導体ウェーハの鏡面研磨工程、特に、仕上げ研磨で使用される研磨布として特定の研磨布を用いることによって、ウェーハ表面に微小傷や潜傷が発生しないようにした半導体ウェーハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the solar cell module has a sealing process in which at least one surface of a solar cell element is supplied with a heated and melted sealing resin, and the sealing resin is pressed by a roller under the melted state of the sealing resin.例文帳に追加

太陽電池素子の少なくとも片面に、加熱溶融した封止用樹脂を供給し、該封止用樹脂が溶融状態にあるうちに、該封止用樹脂をローラーで加圧する封止工程を有する太陽電池モジュールの製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, which can make smooth the supply of slurry to between a wafer and abrasive cloth and the interaction between abrasives and the wafer surface and increase a CMP speed, and to provide a semiconductor manufacturing equipment which performs a CMP process.例文帳に追加

ウェハと研磨布の間へのスラリの供給・砥粒とウェハ表面の相互作用が円滑に行われ、ＣＭＰ速度を増大させることが可能な半導体装置の製造方法及びＣＭＰ処理を行う半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

An upper electrode 45, an intermediate electrode 44a and a lower electrode 43 are formed on one surface of three green sheets by screen printin, respectively, and those green sheets are laminated, and burn in a prescribed temperature (lamination process), and a piezoelectric material 55 is formed.例文帳に追加

３枚のグリーンシートの一表面に、スクリーン印刷により上部電極４５、中間電極４４ａ及び下部電極４３をそれぞれ形成し、これらのグリーンシートを積層し、所定の温度で焼成し（積層工程）、圧電体５５を形成する。 - 特許庁

Furthermore, the transfer sheet can be manufactured by a manufacturing method including a process to apply a liquid-like material containing the acid modified polyolefin resin to the surface of the support formed of the aliphatic polyester resin without a release agent laid between, and dry the liquid-like material later.例文帳に追加

この転写シートは、酸変性ポリオレフィン樹脂を含有する液状物を、脂肪族ポリエステル樹脂にて形成された支持体上に、離型剤を介在させずに塗工し、その後に乾燥させる工程を含む製造方法にて製造可能である。 - 特許庁

Since the resin waste deposition will not be produced in the manufacturing process and the spitting is not caused on the surface of the film by blending the metal soap based lubricant, the film having satisfactory product appearance can be manufactured stably, without causing breakage during extension film formation.例文帳に追加

金属石鹸系滑剤を配合することにより、製造過程でメヤニが発生したり、フィルム表面にブツが生じることがないから、製品外観が良好で、延伸製膜時に破断を起こすことなく安定して生産することもできる。 - 特許庁

To provide a slip sheet capable of preventing a glass sheet from cracking, and a surface of the glass sheet from being blemished and stained in a distribution process for storing and conveying by laminating a plurality of the glass sheets for a flat panel display such as a liquid crystal panel display and a plasma display panel.例文帳に追加

液晶パネルディスプレイやプラズマディスプレイパネルのようなフラットパネル・ディスプレイ用のガラス板を複数枚積層して保管、運搬する流通過程において、ガラス板の割れ、ガラス板表面への傷付きや汚染を防止できる合紙を提供する。 - 特許庁

In this process of the ultraviolet irradiation by scanning, ultraviolet rays are irradiated onto the surface of the substrate G from the right-side end to the left-side end by traveling of the stage 76 on one way from the original position to the forward position in the Y direction at a given speed.例文帳に追加

この走査による紫外線照射工程では、ステージ７６がＹ方向で原点位置から往動位置まで所定の速度で片道移動することにより、紫外線が基板Ｇ表面の右側端部から左側端部まで照射される。 - 特許庁

To provide a functional sheet excellent in printability produced by laminating such as a frosting layer and a makeup sheet and suitable for preparation of such as a printing sheet, and provided with the frosting sheet on the surface, and a process for its production.例文帳に追加

印刷性に優れ、また、艶消層、印刷層等を積層することにより、化粧シート、印刷シート等の作製に好適な機能性シート、並びに、表面に艶消層が配設された積層型の機能性シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing artificial hair comprises the following process: admixing a foaming agent into polyamide 11 before spinning to make the foaming agent foam at a temperature during spinning; forming a protruding part 12a comprising a lot of air bubbles at the surface of artificial hair 10 to perform delustering processing.例文帳に追加

紡糸前のポリアミド１１に発泡剤を混入し、紡糸時の温度により上記発泡剤を発泡させ、人工毛髪１０の表面に多数の気泡１２からなる膨出部１２ａを形成することにより艶消し加工してある。 - 特許庁

To provide a new rinsing liquid for manufacturing high-quality products by modifying the surface of a resist pattern to have ≥70° contact angle and rapidly and effectively preventing pattern collapse in a process of forming a resist pattern by lithography techniques.例文帳に追加

リソグラフィー技術によりレジストパターンを形成させる際、レジストパターンの表面を接触角７０度以上に改質してパターン倒れを迅速かつ効果的に防止して、高品質の製品を製造するための新規なリンス液を提供する。 - 特許庁

To provide a device which, when a treatment containing fine particles of ices is supplied to a surface of a board to process the board, can perform a uniform processing without causing a processing unevenness, and does not damage a film formed on the board.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を基板の表面へ供給して基板の処理を行う場合に、処理むらを生じることなく均一な処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method which maintains the mechanical strength of a photoreceptor surface and improves the durability of the photoreceptor by using a toner for which safe coloring matter is used to take place of carbon black and a process cartridge used for the method.例文帳に追加

カーボンブラックに代わる安全な着色剤を用いたトナーを使用し、感光体表面の機械的強度を維持し、かつ感光体の耐久性を向上させた画像形成方法、及び該方法に用いられるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device for preventing developer from actively moving at a toner replenish port and for preventing abnormal images, such as surface stain, etc., due to the increase of toner density at an image forming process, and to provide an image forming device using the developing device.例文帳に追加

トナー補給口で現像剤の動きが活発化することを防止し、トナー濃度の上昇によって画像形成時に地肌汚れ等の異常画像が発生することを防止する現像装置及びこれを用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface preparation process with the working environment improved which is harmless to the natural environment, and further has reduced generation of dust and noise for performing recoating after the peeling of old coating films and the removal of an oxide film to a building steel structure or the like.例文帳に追加

建築鋼構造物等に対して、旧塗膜の剥離、酸化被膜の除去の後に再塗装を行うために、自然環境に優しく、また粉塵の発生や騒音も少ない作業環境を改善した素地調整工法を提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive composition which is preferably used as an adhesive for wood processing such as sliced veneer facing process, etc., does not ooze out to the surface, exerts a sufficient initial adhesion strength, has a high workability and is easily prepared.例文帳に追加

いわゆる突板化粧加工等の木質加工用接着剤として好適に使用でき、その際に表面に滲み出すことが無く、十分な初期接着力を示し、作業性に優れ、製造が容易である接着剤組成物の提供。 - 特許庁

To protect carbon from separation from the exposed surface of a recess area due to the plasma used for the ashing when such ashing of a resist film at the upper part of a SiOCH film is conducted to a wafer having the SiOCH film to which the recess area is formed by the etching process.例文帳に追加

エッチングによって凹部の形成されたＳｉＯＣＨ膜を有するウェハに対してＳｉＯＣＨ膜の上方のレジスト膜のアッシングを行うにあたり、アッシングに用いられるプラズマによって前記凹部の露出面から炭素を脱離させないこと。 - 特許庁

By electrochemically oxidizing the first composite nano-crystalline layer 4, a strong electric field drift layer 6 is formed, and after the mask layer 13 is removed, a surface electrode 7 comprising a metal film is formed by a vapor deposition process for example [Fig. (d)].例文帳に追加

第１の複合ナノ結晶層４を電気化学的に酸化するこで強電界ドリフト層６を形成し、マスク層１３を除去してから、例えば蒸着法などによって金薄膜からなる表面電極７を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

Next, a Ti film 108 is deposited by a physical vapor phase growth method, a TiCN film 109 is deposited by a chemical vapor phase growth process, and the surface of the film 109 is exposed to N2 plasma to form a TiN film 110.例文帳に追加

次に物理的気層成長法によりＴｉ膜１０８を、続いて化学的気層成長法によりＴｉＣＮ膜１０９を堆積し、ＴｉＣＮ膜１０９の表面をＮ_2 プラズマに暴露することによりＴｉＮ膜１１０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical article with a mirror coat layer, which is capable of reducing the number of kinds of coating liquids, simplifying manufacturing process and acquiring a sufficient surface peak reflectance, and to provide an optical article manufactured by the method.例文帳に追加

塗布液の種類を減らすことが可能で、製造工程を簡略化でき、十分な表面ピーク反射率を獲得できるミラーコート層を有する光学物品の製造方法及び同方法で製造した光学物品を提供すること。 - 特許庁

By drying by smoking a lumber wherein a borate aqueous solution of an optimum amount is injected into a surface layer part by a means such as a pressure method, an impregnation method, a spray method or the like, it is found that the borate can be permeated to the inside without a curing process.例文帳に追加

加圧法、含浸法、スプレー法等の手段により表層部に適量のホウ酸塩水溶液を注入した製材を燻煙乾燥することにより、養生工程無しでホウ酸塩を内部まで浸透させ得ることが分かった。 - 特許庁

To prevent dross caused in cutting from sticking to a surface and rewelding to a section, in a segmentation process of cutting a pre-sealed substrate with a laser beam, to make efficient segmentation possible, and to improve quality of segmented electronic components.例文帳に追加

封止済基板をレーザ光にて切削する個片化工程において、切削時に生じたドロスの表面付着及び切断面への再溶着を防ぎ、効率的な個片化を可能にするとともに、個片化された電子部品の品質向上を図る。 - 特許庁

In a first process, the pressure in the inside of a quartz reaction tube 6 is reduced to 6.65×10^3 to 1.33×10^4 Pa by using an exhaust system, and a single crystal is grown on the surface of an SiC seed crystal 2 at a growth rate of ≤0.5 mm/h.例文帳に追加

まず、第１工程として、排気機構を用いて石英反応管６内を減圧し、６．６５×１０^3〜１．３３×１０^4Ｐａにして、ＳｉＣ種結晶２の表面に単結晶を０．５ｍｍ／ｈ以下の成長速度で成長させる。 - 特許庁

An anodic oxide film 11 having a plurality of through-holes 12 and wall holes 14 is formed and then, at first, openings of the surface O side on arbitrary through-holes 12 among the plurality of through-holes 12 are clogged by coating films 15 (First clogging process).例文帳に追加

複数の貫通孔１２及び壁孔１４を有する陽極酸化膜１１を形成した後、まず皮膜１５により複数の貫通孔１２のうち任意の貫通孔１２における表面Ｏ側の開口を塞ぐ（第１目詰工程）。 - 特許庁

When the process cartridge is replaced, the photoreceptor drum 1 is rotated at a fixed speed and the information mark pattern 102 formed on the circumferential surface of the photoreceptor drum is detected by an optical sensor 103, to obtain the information of the information mark pattern 102.例文帳に追加

プロセスカートリッジが交換された場合、感光体ドラム１を一定速度で回転させて、感光体ドラム周面に形成された情報マークパターン１０２を光学センサ１０３で検知して、情報マークパターン１０２の情報を取得する。 - 特許庁

In the third process, the absorptive main body 2 and the peeling sheet are joined, the adhesive material 11 for oozing is oozed to the surface of the nonwoven fabric sheet 3 by pressurization, and the adhesive layer 11A and the tackiness layer 12A are joined with each other and fused.例文帳に追加

第３工程では吸収性本体２剥離シートを接合すると同時に滲出用接着剤１１を、加圧により不織布シート３の表面に滲出させて接着層１１Ａを粘着層１２Ａと互いに接合して融合させる。 - 特許庁

When the entire seed film 5 on the outside of the recessed part 3 is removed, as shown in figure (h), and the surface 2a of the insulation film 2 on the outside of the recessed part 3 is exposed, the CMP process is finished, thereby a pattern for a metal wiring 7 is obtained.例文帳に追加

そして、図１(h) に示すように、凹部３外のシード膜５がすべて除去されて、絶縁膜２の凹部３外の表面２ａが露出した時点で、このＣＭＰ処理を終了することにより、金属配線７のパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a cleaning tool for steamers which can simply and quickly clean the inner peripheral surface of a mesh cylinder in the steamer, can reduce the work load on a worker, and can improve the work efficiency of a process of steaming tea leaves.例文帳に追加

蒸機における網胴の内周面を簡単かつ短時間に清掃することができ、作業者の作業負担を軽減することができるとともに茶の葉の蒸熱工程の作業効率を向上させることができる蒸機用清掃用具を提供する。 - 特許庁