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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9598件
To provide a restrained damping sheet excellent in oil surface adhesion, water resistance and solvent resistance wherein shifting and peeling are not caused even in a high temperature of a paint baking process of an automobile and even after being used for a long period of time and paste hardly remains when being peeled off.例文帳に追加
自動車の塗装焼付け工程のような高温でも、また、長期間の使用後でもズレや剥離を起こさず、油面密着性、耐水性、及び耐溶剤性が良好で、剥離した時に糊残りしにくい拘束型制振シートを提供する。 - 特許庁
As the raw material used for the formation of a Cu film on the surface of a substrate by a Cu-CVD process, the liq. raw material made by adding any of 2-butyne, tmvs, 3-Hex and 1,5-COD to Cu (hfac) (atms) is used.例文帳に追加
Cu−CVDプロセスによって基板表面にCu膜を形成する方法に使用される原料として、Cu(hfac)(atms)に2−butyne、tmvs、3−Hex、1,5−CODのうちいずれかを添加して作られる液体原料が使用される。 - 特許庁
The opening area percentage of each of the openings 11a-13a is 30-90%; and on the surface of the remainings 11b-13b, unevenness of 0.1-100 μm is formed by a roughening process, such as a satin treatment.例文帳に追加
開口部11a〜13aの開口率は30%以上90%以下であり、残存部11b〜13bの表面には梨地処理等の粗し加工により形成された0.1μm以上100μm以下の凹凸が形成されている。 - 特許庁
A first measuring process is performed, in which, with an outer ring 3 fixed and an inner ring 6 pressed in the axial direction, the inner ring 6 is rotated and vibration in a rolling surface 1 on one end 3a side in the axial direction of the outer ring 3 is measured during the rotation.例文帳に追加
外輪3を固定して、内輪6をアキシャル方向に加圧した状態で、内輪6を回転させて、回転中に外輪3の軸方向一端部3a側の転走面1における振動を測定する第1測定工程を行う。 - 特許庁
A manufacturing method includes a heat press process in which metal foils 4 and 5 are overlaid on the surface and rear 1A and 1B of a copper plate 1 or a layered printed interconnection board with prepregs 2 and 3 therebetween respectively and the layered body is held between a pair of interposed bodies KT1 and KT2 to be heated and compressed.例文帳に追加
銅板1または被積層プリント配線板10,20の表裏面1A,1Bに、それぞれプリプレグ2,3を介して金属箔4,5を重ね、2つの介挿体KT1,KT2の間に挟んで加熱プレスする加熱プレス工程を備える。 - 特許庁
To provide a white polyester film for a liquid crystal reflector, the film superior in preventing production of burrs or deposition of dust in a punching process in handling properties, when the film is prepared as sheets, and in preventing precipitation of oligomers, and to provide a surface light source that uses the film.例文帳に追加
本発明は、打ち抜き加工時のバリ発生や埃の付着防止、枚葉にしたときの取り扱い性、オリゴマー析出防止性などに優れた液晶反射板用白色ポリエステルフィルムおよびそれを用いた面光源を提供するものである。 - 特許庁
Simultaneously, an elastic material 14 as a rubber plate is arranged between an end plate 15 of a metal die for lamination and an end surface in the laminating direction of the laminated material 11 in the hot-press process and hardness of the elastic material 14 in this case is specified to Hs 40 to 70.例文帳に追加
それとともに、熱プレス工程では積層用金型の端部板15と積層体11の積層方向の端面との間にゴム板である弾性体14を配置して、その際の弾性体14の硬度をHs40〜70に規定する。 - 特許庁
At the time of forming a bump electrode 23 by electroplating on a pad electrode 17 exposed from a surface protective film in the pre-process of forming the pad electrode, the forming temperature of an aluminum-based wiring material is turned to 200-450°C.例文帳に追加
表面保護膜から露出されたパッド電極17に電界メッキによりバンプ電極23を形成するとき、前記パッド電極を形成する前工程では、アルミニウム系配線材料の形成温度を200度C乃至450度Cとする。 - 特許庁
In this manner, shroud parts 30, 40 and 60 formed with a plate can be manufactured only by canning work so that uneven thickness accompanying machining and process hardening on the surface are eliminated, and the possibility of stress-corrosion cracking can be reduced.例文帳に追加
これにより板材から成形した胴部分30,40,60を製缶加工のみによって製造することが可能となるから、機械加工に伴う偏肉や表面の加工硬化をなくして応力腐食割れの可能性を減少させることができる。 - 特許庁
To provide a highly-durability and high-stability electrophotographic photoreceptor which stably exhibits superior electrophotographic properties, even in repetitive use and is free of deterioration of its surface properties over a prolonged period of time, while maintaining high productivity, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
繰り返し使用時にも安定して優れた電子写真特性を示し、長期間に亘りその表面性が低下することのない高耐久、高安定な電子写真感光体を高い生産性を維持しつつ提供することにある。 - 特許庁
After a dry etching process of the semiconductor substrate, when the cleaning liquid composition for the semiconductor substrate is used for surface cleaning of the semiconductor substrate, damage is minimized in a metal layer and an oxide film, and an impurity left on the substrate is easily removed.例文帳に追加
半導体基板のドライエッチング工程後、半導体基板の表面洗浄に前記洗浄液組成物を用いると、金属層及び酸化膜の損傷を最小化し、基板上に残留する不純物の除去を容易にすることができる。 - 特許庁
The packaging film for pocket tissue is constituted of a laminated film for which the satin-finished film treated with roughening process on both surfaces, a printing layer formed on one surface of the satin-finished film, and a transparent film for covering the printing layer are laminated.例文帳に追加
ポケットティシューにおける包装用フィルムを、両面が粗面化処理された梨地フィルムと、その一方面に形成された印刷層と、その印刷層を被覆する透明フィルムと、が積層された積層フィルムで構成することにより解決される。 - 特許庁
To manufacture a high performance solid-state imaging apparatus by properly controlling the thickness of a reflection preventing film provided to a photodiode surface, and the thickness of a sidewall provided to a gate electrode side wall of an MOS transistor without increasing manufacturing process.例文帳に追加
製造工程を増加させることなく、フォトダイオード表面に設けられた反射防止膜の膜厚およびMOSトランジスタのゲート電極側壁に設けられたサイドウォール厚を適正に制御して、高性能な固体撮像装置を作製する。 - 特許庁
The conductive circuit formation method is a sputtering method where metal atoms sputtered from a target 2 provided in a cathode electrode 1 are deposited on the surface of a substrate 3, relating to the conductive circuit formation method having a process for forming a conductive film 4 to form a circuit on the substrate 3.例文帳に追加
カソード電極1に設けたターゲット2からスパッタさせた金属原子を基板3の表面に堆積させるスパッタリング法で、基板3に回路形成用の導体膜4を形成する工程を有する導電性回路形成方法に関する。 - 特許庁
To provide a means for ensuring a mold releasing property of acrylic rubber from a metallic surface without causing deficiency such as poor adhesion in a processing process of a mixed and kneaded rubber composition nor having apprehensions of poor dispersion to rubber or influence to vulcanization.例文帳に追加
混練後のゴム組成物の加工工程における接着不良などの不具合を起こすこともなく、また、ゴム中への分散不良、加硫への影響などが懸念することなく、アクリルゴムを金属面からの離型性を確保するための手段の提供。 - 特許庁
Curing systems are provided that include a planar support surface for supporting a substrate having at least one layer deposited thereon, at least one curing device for curing the at least one deposited layer, and a control system for controlling the overall curing process.例文帳に追加
少なくとも1つの堆積層を有する基板を支持する平坦な支持面と、少なくとも1つの堆積層を硬化させる少なくとも1つの硬化装置と、全体的な硬化過程を制御する制御システムとを含む硬化システムが提供される。 - 特許庁
To obtain a satisfactory image quality regardless of intrusion of conductive foreign matters to the surface of a photoreceptor with respect to an image forming apparatus which performs contact electrification of the photoreceptor, and a process cartridge freely detachably loaded to the image forming apparatus.例文帳に追加
感光体に接触帯電を行なう画像形成装置、およびその画像形成装置に着脱自在に装着されるプロセスカートリッジに関し、感光体表面に導電性の異物が混入したとしても良好な画質を低コストに得る。 - 特許庁
To provide a toner and a toner storage container using it, a developer and a process cartridge using it, and an image forming device each capable of controlling a contamination on a surface of an electrostatic latent image holding body having both a good transfer property and a cleaning property.例文帳に追加
良好な転写性とクリーニング性を両立させつつ静電潜像保持体表面の汚染を抑制し得るトナー及びそれを用いたトナー収容容器、現像剤及びそれを用いたプロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
In the gas phase synthesis process, since an oxide powder having a structure in which a primary particle with a nanosize is normally aggregated in a chain-shape is provided, a contact area between primary particles is small, the growth of a particle is suppressed, and a decrease in specific surface area is suppressed.例文帳に追加
気相合成法によれば、一般にナノサイズの一次粒子が鎖状に凝集した構造の酸化物粉末となるので、一次粒子どうしの接触面積が小さく粒成長が抑制され、比表面積の低下が抑制される。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor wherein the problem that a protective layer is peeled from a photosensitive layer is not generated even if the electrophotographic photoreceptor has the protective layer provided as a surface layer, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
表面層として保護層を設けた電子写真感光体であっても、保護層が感光層から剥がれるという問題が発生しない電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁
Using a thermal head and a fixing film, a gloss processing device 300 performs heat treatment on an area to be heated on a recording material, which can be set in an arbitrary shape, thereby mirror face gloss different from a surface subjected to a fixing process by a fixing device F1 is provided.例文帳に追加
光沢処理装置300は、サーマルヘッドと定着フィルムを用いて任意の形状に設定可能な記録材上の被加熱領域を加熱処理して定着装置F1による定着処理面とは異なる鏡面光沢を形成する。 - 特許庁
To provide a method for producing an anti-slip glove with a number of recesses on its surface, so designed as have a specified wall thickness of the recessed parts to even when the mechanical strength of the recessed parts is lowered, and also to provide a method having the easy process management in its production.例文帳に追加
表面に多数の凹部を有する滑り止め手袋を製造する方法において、凹部の存在する部分でも所定の肉厚を有することにより強度低下がなく、また製造時の工程管理が容易な方法を提供する。 - 特許庁
To provide a carton having a whole vessel prevented from being deformed due to a warp even when a surface of a vessel main body is subjected to various treatments, is free from poor adhesion occurring in a manufacturing process, and capable of being easily opened and closed.例文帳に追加
容器本体の表面に各種処理を施した場合であっても、容器本体が反りによって変形するのを抑制し、製造工程における接着不良を防止できるとともに、開閉操作を容易に行うことができるカートンを提供する。 - 特許庁
The coating method is characterized in that, in the process of coating the base material by placing the flat base material on a surface plate and relatively moving the single plate type slot die coater to/from the base material, the coating start part is provided with a leading part, then the base material is continuously coated.例文帳に追加
定盤上に平坦な基材を載置し、該基材に対して単板型スロットダイコータを相対的に移動させて上記基材上に塗布する際、塗布開始部に先導部を設け、該基材に対し連続的に塗布することを特徴とする。 - 特許庁
This method is provided with a process for removing an inter- layer insulting film 15 located on the outer periphery side of a silicon substrate 10, so that the outer diameter of the inter-layer insulating film 15 can be reduced rather than that of the silicon substrate 10 and a silicon can be exposed on a side surface 28 of the silicon substrate 10.例文帳に追加
層間絶縁膜15の外径をシリコン基板10の外径より小径にし、シリコン基板10の側面28にシリコンが露出するようシリコン基板10の外周側に位置する層間絶縁膜15を除去する工程を設ける。 - 特許庁
To solve a problem that emission of light becomes uneven due to uneven thickness of a film when an organic light emitting layer is formed by a wet film forming method on the upper surface of an inorganic hole injecting layer, because a pin-hole or a foreign matter is easily generated on the inorganic hole injecting layer in the process of forming a film.例文帳に追加
無機物の正孔注入層に成膜工程でピンホールや異物が発生し易いため、その上面に有機発光層を湿式法で成膜する際の膜厚ムラに起因する発光ムラが発生する問題を解決する。 - 特許庁
Signs of this process still exist, including a large-scale river terrace with four layers around Aseri, Kyotanba-cho in Funai-gun located on the upper reaches of the Yura-gawa River, and a diluvial upland with high terrace surface at Osadano in the city. 例文帳に追加
また、これらの名残としては、由良川上流域に当たる船井郡京丹波町安栖里(あせり)周辺の4段にもなる大規模な河岸段丘の存在、市内の長田野(おさだの)の高位段丘面を持つ洪積台地の存在などがある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
This artificial bone is formed by covering the support body surface with the apatite/collagen complex, and the artificial bone production method has a process of dipping the support body in dispersion liquid of fiber-like apatite/collagen complex and drying it.例文帳に追加
支持体の表面をアパタイト/コラーゲン複合体で被覆してなることを特徴とする人工骨、及び支持体を繊維状のアパタイト/コラーゲン複合体の分散液に浸漬し乾燥する工程を有することを特徴とする前記人工骨製造方法。 - 特許庁
In this method for relieving the defective surface stresses generated in a semiconductor device in a semiconductor device manufacture process, plasma is generated, a positive voltage is applied to the semiconductor substrate (2), and electrons (5) are selectively irradiated from the plasma.例文帳に追加
半導体デバイス製造工程において半導体デバイスに発生した欠陥性表面応力の緩和方法であって、プラズマを発生させ、半導体基板(2)に対して正の電圧を印加し、プラズマから電子(5)を選択的に照射する。 - 特許庁
To irradiate a semiconductor wafer with an ultraviolet light quantity intrinsically required for the ultraviolet irradiation process regardless of the change of the reflectance or the absorptance of ultraviolet rays dependent on the state of the semiconductor wafer surface in an ultraviolet irradiation device for the semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウエハの紫外線照射装置において、半導体ウエハ表面の状態による紫外線の反射率または吸収率の変化によらずに、本来紫外線照射プロセスに必要とされる紫外線光量を照射する。 - 特許庁
In the process for fabricating a semiconductor device, surface of a crystalline semiconductor film 20 having two or more face orientations is planarized and thinned by chemical mechanical polishing, and then a semiconductor element is formed using a planarized crystalline semiconductor film 21.例文帳に追加
面方位が2以上有る結晶性半導体膜20の表面を化学的機械的研磨により平坦化、及び薄膜化した後、平坦化結晶性半導体膜21を用いて半導体素子を形成する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
The manufacturing method of element comprises a process for forming the aluminum alloy film on a substrate to form the wiring circuit by etching the aluminum alloy film, the aluminum alloy film is formed and, thereafter, the surface of aluminum alloy film is oxidized.例文帳に追加
基板上に、アルミニウム合金膜を形成し、当該アルミニウム合金膜をエッチングして配線回路を形成する工程を備える、素子の製造方法において、アルミニウム合金膜を形成後、アルミニウム合金膜表面を酸化させるものとした。 - 特許庁
In order to prevent collapse of microfibril in the cellulose raw material, the cellulose is dried with avoiding surface tension of water contained in the cellulose and crystallization of water in the freezing process of water to cause the collapse and then the cellulose is carbonized or graphitized.例文帳に追加
セルロース原料中のミクロフィブリルの崩壊を防止するために、本発明では、その原因となるセルロース中に含まれる水の表面張力、水の凍結過程における結晶化を回避して、セルロースを乾燥させ、その後炭化又は黒鉛化する。 - 特許庁
Although mixing and treatment in the halogenation process are specifically not limited if halogen can be introduced into the surface or the inside of the material for negative active material, by adopting mechanochemical treatment, the halogen element can be introduced more stably.例文帳に追加
このハロゲン化工程における混合・処理については負極活物質材料の表面または内部にハロゲンが導入出来るものであれば限定しないが、メカノケミカル処理を採用することで、より安定的にハロゲン元素を導入できる。 - 特許庁
The method for joining the plurality of the superalloy substrates includes a process in which the superalloy substrates are diffusion-joined by thermal-pressing the joint after directly applying an active material on the surface of the joining joint.例文帳に追加
複数の超合金基板を接合する方法であって、接合されるジョイント表面に活性体を直接適用した後に、ジョイントを熱加圧することによって、超合金基板を拡散接合する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for processing a semiconductor wafer, which can planarize the entire surface with high accuracy and can process it with high throughput, and also to provide a plasma etching apparatus which can be used for processing of such a semiconductor wafer.例文帳に追加
ウエーハ表面全体にわたって高精度に平坦化することができるとともに、高いスループットで処理することができる半導体ウエーハの加工方法、及びそのような半導体ウエーハの加工に使用できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁
In some examples, contacting silicone hydrogel ophthalmic lens products with a liquid composition that contains alcohol, water, and a surfactant can significantly reduce or prevent surface distortion of the ophthalmic lens resulting from the extraction process.例文帳に追加
いくつかの実施例において、シリコンハイドロゲル眼科用レンズ製品をアルコール、水及び界面活性剤液体組成物と接触させることにより、抽出工程の結果起こる眼科用レンズの表面の歪みを有意に減少させる又は防ぐことができる。 - 特許庁
To provide a process for producing a polyether-ester-amide causing less environmental pollution, having a high degree of polymerization, and giving a molding having excellent surface appearance efficiently within a short time by performing the polycondensation reaction without using any antimony compound.例文帳に追加
アンチモン系化合物を用いることなく重縮合反応を行うことにより、環境汚染性が少なく、高重合度でかつ成形品の表面外観の優れたポリエーテルエステルアミドを短時間で効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a delineator excellent in stain-proof performance, further concretely, the surface of the delineator having highly-developed hydrophilicity for a long period of time, hard to be stained and easy to be cleaned without needing a complicated process.例文帳に追加
防汚性能に優れた視線誘導標示体、具体的には、視線誘導標示体の表面が長期間にわたり高度に親水性である、汚れにくく、清掃しやすい視線誘導標示体を、煩雑な工程を必要とせずに提供する。 - 特許庁
Before the metal wiring is formed, an organic insulating film including epoxy resin and urethane resin or the like is formed on the active surface of the electronic element on which the metal wiring is to be formed (an insulating ink treatment process) thereby improving adhesion.例文帳に追加
本発明においては、金属配線を形成する前に、当該金属配線が形成される電子素子の能動面にエポキシ樹脂やウレタン樹脂等からなる有機絶縁膜を形成し(絶縁インク処理工程)、密着性を向上させる。 - 特許庁
To provide a plasma processing device capable of improving plasma processing capability without deteriorating the capability of surface activation process by ultraviolet irradiation of a UV irradiation means adjacently installed with a plasma supply means.例文帳に追加
プラズマ供給手段と隣り合って設置した紫外線照射手段の紫外線照射による表面活性化処理の能力を低下させないようにして、プラズマ処理の能力を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
The method for measuring protease activity includes a process for contacting the sample comprising at least one species of protease substrate, a hard membrane agent and two or more species of protease inhibitors with a membrane formed on the surface of a support.例文帳に追加
プロテアーゼ活性の測定方法であって、少なくとも1種のプロテアーゼ基質、硬膜剤、及び2種以上のプロテアーゼ・インヒビターを含み支持体表面に形成された薄膜に対して、プロテアーゼを含む試料を接触させる工程を含む方法。 - 特許庁
Then, the protective layer 52 directly above the MTJ laminate structure 20 is selectively removed by etching after selectively removing the silicon oxide layer 53 other than an MTJ laminate structure 20 region by planarizing and polishing the entire surface by the CMP process.例文帳に追加
その後、CMPプロセスにより全面を平坦化研磨してMTJ積層構造20領域以外のシリコン酸化物層53を選択的に除去した後、エッチングにより、MTJ積層構造20の真上にある保護層52を選択的に除去する。 - 特許庁
To provide hydrogen storage alloy powder equipped with intended activity by easily removing oxide and hydroxide deposited on the surface thereof at an alkali treatment process within a short period, and to provide an alkaline storage battery excellent in characteristics.例文帳に追加
アルカリ処理工程において水素吸蔵合金表面に析出した酸化物および水酸化物を容易かつ短時間に除去することにより、所望の活性度を有する水素吸蔵合金粉末および特性に優れたアルカリ蓄電池を提供する。 - 特許庁
The method for producing the cellulose ester has a step to process a cellulose ester with silicon dioxide particles with specific surface areas within a range of 30-1,000 m^2/g, and a step to remove the silicon dioxide particles from the cellulose ester after processing.例文帳に追加
セルロースエステルを比表面積が30〜1000m^2/gの範囲内である二酸化ケイ素粒子で処理し、前記処理後のセルロースエステルから当該二酸化ケイ素粒子を除去する工程を有することを特徴とするセルロースエステルの製造方法。 - 特許庁
To provide a holed-headrest cover material, a method for sewing the same and a holed-headrest capable of manufacturing the holed-headrest cover material with less joints, not requiring frequently turning the surface in a sewing process and simply and easily manufacturing the headrest.例文帳に追加
継目が少ない穴あきヘッドレスト用表皮材を製造し、縫製過程で頻繁に表返す必要がなく、簡易にヘッドレストを製造することができる穴あきヘッドレスト用表皮材及び縫製方法、並びに穴あきヘッドレストを提供する。 - 特許庁
This invention relates to: the new aqueous resorcinol-formaldehyde-latex dispersions containing at least one surface-deactivated diisocyanate; the process for their production; and their use to improve adhesiveness to a tire.例文帳に追加
本発明は、少なくとも1つの表面不活性化ジイソシアネートを含む新規の水性レゾルシノール−ホルムアルデヒド−ラテックス分散系に、前記分散系の製造方法に、およびタイヤにおける接着性を向上させるための前記分散系の使用に関する。 - 特許庁
The electrodeposition coating process consists of 1) electrodeposition of a coating layer of an electrodeposition coating agent that contains a thermally curable binder system onto the surface of an electrically conductive substance and 2) thermal curing of the electrodeposited coating layer by irradiation with near infrared radiation.例文帳に追加
本発明は、1)電気伝導性物質の表面上に熱硬化可能な結合システムを含む電着塗装剤による塗膜層の電着、および 2)近赤外線の照射による電着塗膜層の熱硬化より成る電着塗装方法である。 - 特許庁
The image fixing apparatus for the electrophotographic type image forming apparatus is provided with a fixing member having a surface layer containing a catalyst for deodorization, thereby reducing the odor caused in the toner fixing process by a simple method.例文帳に追加
電子写真方式の画像形成装置の画像定着装置において、消臭用触媒を含有する表面層を有する定着部材を備えることにより、簡易な方法でトナーの定着時に発生する臭気を低減することができる。 - 特許庁
In this method in which a magnet 6 is moved, and magnetron sputtering is executed, in the process of the movement of the magnet, it is moved to the direction vertical to the surface in accordance with the increase and decrease of the voltage of magnetron discharge, and the voltage of the discharge is retained to the approximately certain one.例文帳に追加
マグネット6を移動させてマグネトロンスパッタリングする方法に於いて、該マグネットをその移動中にマグネトロン放電の電圧の増減に応じて該表面と垂直方向へ移動させてその放電の電圧をほぼ一定に維持する。 - 特許庁
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