「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(149ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a composite structure by which the structure of a dense brittle material is formed on the surface of a porous material of ceramics or metal by using an aerosol deposition process, and to provide the structure produced by the method.例文帳に追加

本発明においては、エアロゾルデポジション法を用いて、セラミックスや金属の多孔質材料の表面に緻密な脆性材料の構造物を形成させる複合構造物の形成方法、および当該方法で形成した構造物を提供する。 - 特許庁

A base 22 includes a screwing hole 26 for fixing the base 22 to a mold that is a mold form of a basket in a basket manufacturing process, and a tip of the bolt 27 is protruded from the lower surface of the base 22 through the screwing hole 26.例文帳に追加

ベース２２には、バスケット製造過程においてベース２２をバスケットの型枠であるモールドに固定するためのネジ止め孔２６が空けられており、ボルト２７はこのネジ止め孔２６を貫通して、先端がベース２２の下面から突出している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a circuit pattern capable of forming a high resolution resist pattern by efficiently removing the resist on the surface of a substrate, wherein resist peeling speed is high when a resist peeling process using ozone water is carried out.例文帳に追加

オゾン水を用いたレジスト剥離工程を行う場合に、レジスト剥離速度が速く、基板表面のレジストを高効率に除去することにより、高解像度のレジストパターンを形成することが可能な回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manganese battery cell reducing peeling of a glue material layer formed on a surface of a separator in a manufacturing process, suppressing air bubbles remaining in a separator or between the separator and positive and negative electrodes and which is superior in high discharging property.例文帳に追加

製造過程においてセパレータ表面に形成されている糊材層の剥離を低減するとともに、セパレータ内やセパレータと正負極との間に気泡が残留するのを抑制し、高率放電特性に優れたマンガン乾電池を提供する。 - 特許庁

A multiple quantum well layer 4 to detect infrared rays by utilizing transition between sub-bands and a reflection electrode layer 9 situated on a surface are separated farther than a distance in which the metal of the reflection electrode 9 is dispersed by a heat history during a manufacturing process.例文帳に追加

サブバンド間遷移を利用して赤外線を検出する多重量子井戸層４と表面に在る反射電極９とが製造工程中の熱履歴で該反射電極９の金属が拡散する距離以上に離隔して設けられている。 - 特許庁

To provide a sound-proof wall excellent in antifouling performance, further concretely, the surface of the sound-proof wall having photocatalytic activity for a long period of time and/or highly-developed hydrophilicity, hard to be stained and easy to be cleaned without needing a complicated process.例文帳に追加

防汚性能に優れた遮音壁、具体的には、遮音壁の表面が長期間にわたり光触媒活性及び／または高度に親水性である、汚れにくく、清掃しやすい遮音壁を、煩雑な工程を必要とせずに提供する。 - 特許庁

To provide a sticker which does not need a drawing process, whose formation cost is reduced, on front and reverse surface of which different display contents can be displayed, and in which the display contents of print layers can clearly be viewed even through a transparent stuck object.例文帳に追加

型抜き工程を必要とせず、作成コストを低減でき、且つ表裏面に別個の表示内容を表示することができ、透明な貼付対象物を透しても印刷層の表示内容を鮮明に視認しうるステッカーを提供する - 特許庁

To eliminate the sticking of unnecessary materials on the surface of a substrate in a chemical washing process and to improve washing effect of the substrate when washing the substrate with a chemical, washing it with pure water in one treating tank.例文帳に追加

１つの処理槽内において基板を薬液で洗浄した後に純水で水洗する場合に、薬液洗浄の過程で不要物が基板の表面に付着することを無くし、基板の洗浄効果を高めることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a CMOS image sensor in which the contact resistance of a read out circuit in a unit pixel can be reduced while suppressing variation thereof by preventing the surface of a photodiode from being etched thereby minimizing a dark current.例文帳に追加

フォトダイオードの表面がエッチングされないようにして暗電流を最小にし、単位画素内のリードアウト回路部のコンタクト抵抗の減少と、コンタクト抵抗の変化を減少させることのできるＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring formation method which enables a certain elimination of a metal film on the level-difference lower surface of a substrate having the level difference and the manufacturing method of a liquid droplet discharge head equipped with the wiring, with controlling the manufacturing process and cost.例文帳に追加

製造プロセス及び製造コストを抑制した上で、段差を有する基板の段差下面の金属膜を確実に除去することができる配線形成方法及びその配線を備えた液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To economically provide a method for transferring a state of the surface of a mold to a molding precisely without using a complex apparatus and a complex mold by preventing solidification and viscosity rise of a thermoplastic resin in a resin packing process in the injection molding of the resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂の射出成形において、樹脂充填工程中の樹脂の固化や粘度上昇を防止し、金型表面状態を高度に成形品に転写する方法を、複雑な装置や金型を使用せず経済的に提供する。 - 特許庁

To prevent electronic components which have been soldered in a first soldering process from falling off in a second soldering operation and to restrain solder balls from being generated when electronic components are mounted on each surface of a printed wiring board by the use of lead-free solder.例文帳に追加

本発明は、両面に電子部品を実装するプリント配線板で鉛フリーはんだで実装する際、２回目のはんだ付け時に１回目にはんだ付けした電子部品の落下を防止し、はんだボールの発生を抑制することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed matter with a pattern having visual cubic effects by combining a specified printing technique with a low cost printing technique as a base such as an offset printing for producing a flat printing surface and a process printing.例文帳に追加

平坦な印刷面を作製するオフセット印刷やプロセス印刷等の安価な印刷技法をベースにし、これを特定の印刷技法と組み合わせることで、図柄に視覚的な立体感を有する印刷物の製造方法等を提供する。 - 特許庁

In a liner molding process, the gap 7 is closed by pressing the flexible resin 19 extruded to the outside of the internal leg section 5, and a liner 23 which is press-bonded to the upper end section of the container mouth section extending to the total periphery, is molded on the rear surface of the top plate 2.例文帳に追加

ライナー成形工程において、中足部５の外側に押し出された軟質樹脂１９を押圧して隙間７を塞ぐとともに、容器口部１３の上端部に全周にわたり圧接するライナー２３を天板２の裏面に成形する。 - 特許庁

The production process of this synthetic resin fibrous material comprises: forming a number of small longitudinal cuts in a uniaxially oriented thermoplastic resin filmy sheet almost over the whole surface, so that they are deviated from each other in the transverse direction; and then, cutting the resulting filmy sheet into short pieces.例文帳に追加

一軸延伸された熱可塑性合成樹脂のフィルム状体に、小さな縦方向の切れ込みを横方向にずらして多数形成し、これを短寸に裁断してなることを特徴とするセメント強化用合成樹脂繊維状体。 - 特許庁

The protecting coating film is self-formed by an oxidation process of a silicon-based ceramic part comprising the reaction of a silicic acid (SiO2) layer on the surface of the silicon-based ceramic with a rare earth metal oxide present in the silicon-based ceramic part.例文帳に追加

ケイ素に基づくセラミックの表面上のケイ酸（ＳｉＯ_2）皮膜層と、ケイ素に基づくセラミック部品の内部に存在している希土類酸化物との間の反応に関連するケイ素に基づくセラミックの酸化プロセスにより、保護塗膜を自己形成する。 - 特許庁

In an etching process K5 by etching the semiconductor substrate from the surface opposite from the circuit-formed one, the semiconductor substrate is divided into a plurality of semiconductor elements while removing a fractured layer generated on the ground and cut surfaces and also removing the parts left untouched.例文帳に追加

エッチング工程Ｋ５では、反対側表面から半導体基板をエッチングすることによって、研削面および切削面に生じた破砕層を除去するとともに、切り残し部を除去して半導体基板を複数の半導体素子に分割する。 - 特許庁

Next, the wiring protecting metal film 9 in other than the area under the columnar electrode 10 is removed by the etching process with the columnar electrode 10 as a mask to expose the upper surface of the wiring 8 in other than the area under the columnar electrode 10.例文帳に追加

次に、柱状電極１０をマスクとして、柱状電極１０下以外の領域における配線保護金属膜９をエッチングして除去し、柱状電極１０下以外の領域における配線８の上面を露出させる。 - 特許庁

To provide a method for molding a high density inorganic fiberboard with a fineness of 48-300 kg/m^3 having a smooth flat sheetlike shape on one surface thereof by one process for compressing, heating and curing an inorganic fiber web, and the inorganic fiberboard.例文帳に追加

一方の面が平滑な平板状であり、繊維度が４８kg／ｍ^３〜３００kg／ｍ^３という高密度の無機質繊維板を、無機質繊維ウエブの圧縮、加熱硬化という１工程のみで成形する方法と当該無機質繊維板とを提供すること。 - 特許庁

Radius of at least 0.1mm carries out R chamfering processing of the corners of semiconductor manufacturing equipment structural, and sharpening process to at most surface roughness Ra 1.6 μm is performed, thereby restraining concentration of electric charge in corners and preventing generation of arcing.例文帳に追加

半導体製造装置用部材の角部を半径０．１ｍｍ以上のＲ面取り加工処理し、かつ表面粗さＲａ１．６μｍ以下に研磨加工処理することで、角部における電荷の集中を抑制し、アーキングの発生を防止する。 - 特許庁

A detector for detecting electrons generated from a surface of the substrate is composed of divided detection elements, desired control according to a sample state is executed to orbits of the electrons, and a calculation process of an obtained output signal of each element is carried out.例文帳に追加

基板表面から発生する電子を検出する検出器を分割した検出素子で構成し、電子の軌道に対し試料状態に応じた所望の制御を行い、得られた各素子の出力信号の演算処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high-strength plate mass- shaped artificial stone which shows a beautiful surface appearance and can be easily worked after molding, on account of a non-gel coat technique of a casting process and a joining method by which the joint borderline between the obtained artificial stones is not conspicuous.例文帳に追加

注型法のノンゲルコート工法で表面美観に優れ成形後の加工が容易な高強度板塊状の人工石材の製造方法、及び得られた人工石材間の接合境界が目立たない接合方法を提供する。 - 特許庁

In the process of inserting the stud into the installation aperture 2a of a dummy support B, the wedge pieces 17 are pushed into the pipe through slits 18 and pushed out again to be retained by the dummy support B, so that the heat-resistant block is fixed to the wall surface.例文帳に追加

耐熱ブロックの支持金具Ｂの取り付け孔２ａにスタッドを挿入させる工程で、楔片部１７はスリット１８からパイプ内に押し込められた後再び突出し、支持金具に係合することで、耐熱ブロックは壁面に固定される。 - 特許庁

The method for joining the plurality of the superalloy substrates includes a process in which the superalloy substrates are diffusion-joined by thermal-pressing the joint after directly applying an active material on the surface of the joining joint.例文帳に追加

複数の超合金基板を接合する方法であって、接合されるジョイント表面に活性体を直接適用した後に、ジョイントを熱加圧することによって、超合金基板を拡散接合する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

This artificial bone is formed by covering the support body surface with the apatite/collagen complex, and the artificial bone production method has a process of dipping the support body in dispersion liquid of fiber-like apatite/collagen complex and drying it.例文帳に追加

支持体の表面をアパタイト／コラーゲン複合体で被覆してなることを特徴とする人工骨、及び支持体を繊維状のアパタイト／コラーゲン複合体の分散液に浸漬し乾燥する工程を有することを特徴とする前記人工骨製造方法。 - 特許庁

In this method for relieving the defective surface stresses generated in a semiconductor device in a semiconductor device manufacture process, plasma is generated, a positive voltage is applied to the semiconductor substrate (2), and electrons (5) are selectively irradiated from the plasma.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程において半導体デバイスに発生した欠陥性表面応力の緩和方法であって、プラズマを発生させ、半導体基板（２）に対して正の電圧を印加し、プラズマから電子（５）を選択的に照射する。 - 特許庁

To irradiate a semiconductor wafer with an ultraviolet light quantity intrinsically required for the ultraviolet irradiation process regardless of the change of the reflectance or the absorptance of ultraviolet rays dependent on the state of the semiconductor wafer surface in an ultraviolet irradiation device for the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハの紫外線照射装置において、半導体ウエハ表面の状態による紫外線の反射率または吸収率の変化によらずに、本来紫外線照射プロセスに必要とされる紫外線光量を照射する。 - 特許庁

In the process for fabricating a semiconductor device, surface of a crystalline semiconductor film 20 having two or more face orientations is planarized and thinned by chemical mechanical polishing, and then a semiconductor element is formed using a planarized crystalline semiconductor film 21.例文帳に追加

面方位が２以上有る結晶性半導体膜２０の表面を化学的機械的研磨により平坦化、及び薄膜化した後、平坦化結晶性半導体膜２１を用いて半導体素子を形成する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

Although mixing and treatment in the halogenation process are specifically not limited if halogen can be introduced into the surface or the inside of the material for negative active material, by adopting mechanochemical treatment, the halogen element can be introduced more stably.例文帳に追加

このハロゲン化工程における混合・処理については負極活物質材料の表面または内部にハロゲンが導入出来るものであれば限定しないが、メカノケミカル処理を採用することで、より安定的にハロゲン元素を導入できる。 - 特許庁

In order to prevent collapse of microfibril in the cellulose raw material, the cellulose is dried with avoiding surface tension of water contained in the cellulose and crystallization of water in the freezing process of water to cause the collapse and then the cellulose is carbonized or graphitized.例文帳に追加

セルロース原料中のミクロフィブリルの崩壊を防止するために、本発明では、その原因となるセルロース中に含まれる水の表面張力、水の凍結過程における結晶化を回避して、セルロースを乾燥させ、その後炭化又は黒鉛化する。 - 特許庁

To provide a method for processing a semiconductor wafer, which can planarize the entire surface with high accuracy and can process it with high throughput, and also to provide a plasma etching apparatus which can be used for processing of such a semiconductor wafer.例文帳に追加

ウエーハ表面全体にわたって高精度に平坦化することができるとともに、高いスループットで処理することができる半導体ウエーハの加工方法、及びそのような半導体ウエーハの加工に使用できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

In some examples, contacting silicone hydrogel ophthalmic lens products with a liquid composition that contains alcohol, water, and a surfactant can significantly reduce or prevent surface distortion of the ophthalmic lens resulting from the extraction process.例文帳に追加

いくつかの実施例において、シリコンハイドロゲル眼科用レンズ製品をアルコール、水及び界面活性剤液体組成物と接触させることにより、抽出工程の結果起こる眼科用レンズの表面の歪みを有意に減少させる又は防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyether-ester-amide causing less environmental pollution, having a high degree of polymerization, and giving a molding having excellent surface appearance efficiently within a short time by performing the polycondensation reaction without using any antimony compound.例文帳に追加

アンチモン系化合物を用いることなく重縮合反応を行うことにより、環境汚染性が少なく、高重合度でかつ成形品の表面外観の優れたポリエーテルエステルアミドを短時間で効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide hydrogen storage alloy powder equipped with intended activity by easily removing oxide and hydroxide deposited on the surface thereof at an alkali treatment process within a short period, and to provide an alkaline storage battery excellent in characteristics.例文帳に追加

アルカリ処理工程において水素吸蔵合金表面に析出した酸化物および水酸化物を容易かつ短時間に除去することにより、所望の活性度を有する水素吸蔵合金粉末および特性に優れたアルカリ蓄電池を提供する。 - 特許庁

To provide a holed-headrest cover material, a method for sewing the same and a holed-headrest capable of manufacturing the holed-headrest cover material with less joints, not requiring frequently turning the surface in a sewing process and simply and easily manufacturing the headrest.例文帳に追加

継目が少ない穴あきヘッドレスト用表皮材を製造し、縫製過程で頻繁に表返す必要がなく、簡易にヘッドレストを製造することができる穴あきヘッドレスト用表皮材及び縫製方法、並びに穴あきヘッドレストを提供する。 - 特許庁

To provide a delineator excellent in stain-proof performance, further concretely, the surface of the delineator having highly-developed hydrophilicity for a long period of time, hard to be stained and easy to be cleaned without needing a complicated process.例文帳に追加

防汚性能に優れた視線誘導標示体、具体的には、視線誘導標示体の表面が長期間にわたり高度に親水性である、汚れにくく、清掃しやすい視線誘導標示体を、煩雑な工程を必要とせずに提供する。 - 特許庁

Before the metal wiring is formed, an organic insulating film including epoxy resin and urethane resin or the like is formed on the active surface of the electronic element on which the metal wiring is to be formed (an insulating ink treatment process) thereby improving adhesion.例文帳に追加

本発明においては、金属配線を形成する前に、当該金属配線が形成される電子素子の能動面にエポキシ樹脂やウレタン樹脂等からなる有機絶縁膜を形成し（絶縁インク処理工程）、密着性を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving plasma processing capability without deteriorating the capability of surface activation process by ultraviolet irradiation of a UV irradiation means adjacently installed with a plasma supply means.例文帳に追加

プラズマ供給手段と隣り合って設置した紫外線照射手段の紫外線照射による表面活性化処理の能力を低下させないようにして、プラズマ処理の能力を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for measuring protease activity includes a process for contacting the sample comprising at least one species of protease substrate, a hard membrane agent and two or more species of protease inhibitors with a membrane formed on the surface of a support.例文帳に追加

プロテアーゼ活性の測定方法であって、少なくとも１種のプロテアーゼ基質、硬膜剤、及び２種以上のプロテアーゼ・インヒビターを含み支持体表面に形成された薄膜に対して、プロテアーゼを含む試料を接触させる工程を含む方法。 - 特許庁

Then, the protective layer 52 directly above the MTJ laminate structure 20 is selectively removed by etching after selectively removing the silicon oxide layer 53 other than an MTJ laminate structure 20 region by planarizing and polishing the entire surface by the CMP process.例文帳に追加

その後、ＣＭＰプロセスにより全面を平坦化研磨してＭＴＪ積層構造２０領域以外のシリコン酸化物層５３を選択的に除去した後、エッチングにより、ＭＴＪ積層構造２０の真上にある保護層５２を選択的に除去する。 - 特許庁

This invention relates to: the new aqueous resorcinol-formaldehyde-latex dispersions containing at least one surface-deactivated diisocyanate; the process for their production; and their use to improve adhesiveness to a tire.例文帳に追加

本発明は、少なくとも１つの表面不活性化ジイソシアネートを含む新規の水性レゾルシノール−ホルムアルデヒド−ラテックス分散系に、前記分散系の製造方法に、およびタイヤにおける接着性を向上させるための前記分散系の使用に関する。 - 特許庁

The electrodeposition coating process consists of 1) electrodeposition of a coating layer of an electrodeposition coating agent that contains a thermally curable binder system onto the surface of an electrically conductive substance and 2) thermal curing of the electrodeposited coating layer by irradiation with near infrared radiation.例文帳に追加

本発明は、１）電気伝導性物質の表面上に熱硬化可能な結合システムを含む電着塗装剤による塗膜層の電着、および ２）近赤外線の照射による電着塗膜層の熱硬化より成る電着塗装方法である。 - 特許庁

The image fixing apparatus for the electrophotographic type image forming apparatus is provided with a fixing member having a surface layer containing a catalyst for deodorization, thereby reducing the odor caused in the toner fixing process by a simple method.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成装置の画像定着装置において、消臭用触媒を含有する表面層を有する定着部材を備えることにより、簡易な方法でトナーの定着時に発生する臭気を低減することができる。 - 特許庁

The method for producing the cellulose ester has a step to process a cellulose ester with silicon dioxide particles with specific surface areas within a range of 30-1,000 m^2/g, and a step to remove the silicon dioxide particles from the cellulose ester after processing.例文帳に追加

セルロースエステルを比表面積が３０〜１０００ｍ^２／ｇの範囲内である二酸化ケイ素粒子で処理し、前記処理後のセルロースエステルから当該二酸化ケイ素粒子を除去する工程を有することを特徴とするセルロースエステルの製造方法。 - 特許庁