「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(145ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lining method for a metallic pipe, which adheres a thermoplastic resin pipe to the inner surface of the metallic pipe closely and stably while high in productivity without spending any unnecessary too-long cooling time in a cooling process.例文帳に追加

金属管のライニング方法に関し、熱可塑性樹脂管を金属管の内面に安定して密着させ、また冷却工程で不必要に長く冷却時間を費やすことのない生産性の高い金属管のライニング方法を提供する。 - 特許庁

After etching, a facet-free good etching shape can be obtained without forming a metallic oxide film in the surface of the first buried wiring 8 by using a reducing gas in an ashing process for removing the resist pattern 13.例文帳に追加

エッチング後、前記レジストパターン１３を除去するアッシング工程において、還元性ガスを用いることにより、第一埋め込み配線８の表面に金属酸化膜を形成することなく、ファセットのない良好なエッチング形状を得ることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device capable of suppressing variations in film thickness and the amount of impurities between semiconductor wafers and between lots for obtaining stable element characteristics in plasma surface reforming and an impurity introduction process.例文帳に追加

プラズマ表面改質や不純物導入工程において、半導体ウェーハ間やロット間で膜厚や不純物量のばらつきが抑制され、安定した素子特性が得られる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The product with radiation hormesis effect is obtained by coating the surface of a base material with a suspension liquid of fine powder of mineral ore containing glassy components and fine powder of mineral ore containing low-level radioactive substances in water and then executing the baking process.例文帳に追加

ガラス質成分を含有する鉱石の微細粉と、低レベル放射性物質を含有する鉱石の微細粉とを水に懸濁させた懸濁液を基材の表面にコーティングし、その後に焼付け処理して得られたものであることを特徴とする。 - 特許庁

The agent is released at a zero-order or an approximately linear rate because the release rate of the agent will entirely be governed by erosion from exposed core surfaces; the surface area of which does not change substantially during the release process.例文帳に追加

この剤形では薬剤の放出速度は露出されたコア表面からの侵食によって完全に支配され、その表面積は放出過程中実質的に変化しないので、薬剤は０次オーダーまたはほぼ線状の速度で放出される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polishing sheet including a process for forming a groove on the surface of the polishing sheet by using a cutting edge for cutting, a part in contact with the polishing sheet in the cutting edge for cutting is made of nonmetal.例文帳に追加

切削用切刃を用いて研磨シート表面に溝を形成する工程を含む研磨シートの製造方法であって、前記切削用切刃の研磨シートと接触する部分が非金属であることを特徴とする研磨シートの製造方法。 - 特許庁

The process of ashing is carried out in or after the etching to prevent the etching rate from decreasing owing to sputtering of the reaction products deposited on the surface of the target material, thereby obtaining the stable etching rate.例文帳に追加

本発明では、このアッシング工程をエッチング途中またはエッチング後に実行することによって、ターゲット材の表面に堆積した反応生成物のスパッタ作用に起因するエッチングレートの低下を防止し、安定したエッチングレートを得ることができる。 - 特許庁

This porous molded SiC has an SiC coating layer formed by CVD process on the surface of a porous molded SiC article composed of a constitution structure comprising an SiC whisker skeleton integrated with SiC formed by the heat-treatment of a polycarbosilane.例文帳に追加

ＳｉＣウイスカーの骨格と、ポリカルボシランを熱処理して生成したＳｉＣとが一体化した組織構造からなる多孔質炭化珪素成形体の表面に、ＣＶＤ法によるＳｉＣ被膜が形成されてなる多孔質ＳｉＣ成形体。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which has superior productivity without a flax washing process, and can reduce warpage caused by grinding a back surface of a semiconductor wafer, and the semiconductor device manufactured by using the same.例文帳に追加

フラックス洗浄工程が不要で生産性に優れ、かつ半導体ウエハの裏面を研削した際の反りを低減することが可能な半導体装置の製造方法およびその製造方法で製造された半導体装置を提供すること。 - 特許庁

Barrier metals 17 and bump electrode materials are laminated on electrode pads 14 through a power feed layer 16 by an electroplating method, and thereafter oxide films are formed on surfaces of the barrier metals 17 and the bump electrode materials by executing a surface oxidation process.例文帳に追加

電極パッド１４上に、給電層１６を介して電気めっき法によりバリアメタル１７及びバンプ電極材料を積層した後、表面酸化処理を行ってバリアメタル１７及びバンプ電極材料の表面に酸化膜を形成する。 - 特許庁

A processing electrode device which is placed on an electrode 2 to process a texture in a vacuum atmosphere comprises an electrode integrating a magnet configured so that the magnetic line can be at least 45° relative to the surface of a silicon spherical body 14.例文帳に追加

電極２上に載置して真空雰囲気内でテクスチャーを加工される加工電極装置は、シリコン球状体１４の表面に対して、磁力線が少なくとも４５°の角度になるように構成した磁石組み込み電極を有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the master disk of an optical disk capable of transferring a concave/convex pattern, which is formed on an inorganic resist layer by use of a thermochemical reaction, to a stamper without causing a minute concave defect in a surface by an electroforming process.例文帳に追加

熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a long laminated film by which, when a coating layer is formed by pressing a coating head against a surface of a long film running on two supporting guide rollers to apply a paint thereon, stripe-like irregularity in the coating layer is not caused.例文帳に追加

長尺フィルムを２本のガイドロールで支持して走行させながら、長尺フィルムの表面に塗布ヘッドを押し付けて、塗料を塗布し、塗布層を形成した場合にも縞状ムラを生じない長尺積層フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The right and left pair of the line markers 10R shaken out to the outside of a machine body of a traveling machine body and drawing a traveling scheme line on a field surface for the next process of transplanting is provided by being driven by a marker motor 15 and also operated by an implement-operating lever.例文帳に追加

走行機体の機体外側に振り出されて、植付け次工程における走行予定線を圃場面に線引きする左右一対の線引マーカ１０Ｒは、マーカモータ１５によって駆動されると共に、作業機操作レバーによって操作される。 - 特許庁

To provide a solid drawing material producible by a high-temperature molding process such as injection molding, and having excellent erasing property of written mark with an eraser to enable easy erasure of written mark not only on a raised part but also on a dent part of a paper surface.例文帳に追加

射出成型など高温で成型する製造工程で作ることが出来、紙面の凸部の筆跡のみならず凹部の筆跡も容易に消去することが可能な、筆跡の消しゴム消去性に優れた固形描画材を提供する。 - 特許庁

Thus, curved face sections 1b, 1d created by rollover and contiguous to sheared face sections 1a, 1c on the outer peripheral surface of the disk body 1 are formed on the respective outer peripheral edge parts of the respective side faces on one side and the other side in the thickness direction of the disk body 1 manufactured according to the process.例文帳に追加

この方法で製造したディスク本体１の板厚方向一方と他方の各側面の外周エッジ部には、ディスク本体１の外周面の剪断面部分１ａ，１ｃに連続するダレによる曲面部１ｂ，１ｄが形成される。 - 特許庁

To provide a sulfuric acid base copper plating liquid for a semi-additive which can produce wiring in which the surface of the cross-section in the width direction is made flat as wiring of an ultrafine pitch by a semi-additive process, and to provide a method for producing a printed circuit board using the same.例文帳に追加

超ファインピッチの配線としても幅方向の断面（横断面）の表面が平坦となる配線をセミアディティブ法で製造できるセミアディティブ用硫酸系銅めっき液及びこれを用いたプリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, a third coating liquid essentially including an organic silicon compound is applied on the low-refractive index layer by wet process, and a second high-refractive index layer is formed by heat treatment, whereby a mirror coat layer having a surface peak reflectance of 7% or higher is formed.例文帳に追加

次いで低屈折率層上に有機ケイ素化合物を主成分とした第３の塗布液を湿式法によって塗布し加熱処理をし第２の高屈折率層を形成させ、表面ピーク反射率が７％以上のミラーコート層を形成させる。 - 特許庁

To solve the problem wherein, while it is necessary to cut the peripheral edge so that a protective tape does not bulge to the polishing surface, in the process of polishing a semiconductor wafer, such a cutting is very troublesome because merely a slight load or resistance can cause cracks or chipping.例文帳に追加

半導体ウエハの研磨加工中に保護用テープが研磨面に膨出しないように周縁を切断する必要があるが、その切断は僅かな負荷や抵抗が係るだけで割れたり欠けたりして、非常に厄介なものと成っている。 - 特許庁

A film antenna according to this invention includes a carrier film 11 on which mold releasing process is performed, an adhesive layer 12, a base film 13, a conductive pattern 14 provided on a surface of the base film 13, and an overcoat layer 15 having an opening 15a at a part.例文帳に追加

本発明のフィルムアンテナは、離型処理を施したキャリアフィルム１１と、粘着層１２と、ベースフィルム１３と、ベースフィルム１３の表面に設けられる導体パターン１４と、一部に開口部１５ａを有するオーバーコート層１５とを備える。 - 特許庁

This carrier mechanism 8 is constituted by having a large number of the upper and lower carrier rollers 15 to be used in a manufacturing process of a printed wiring board to perform surface-treatment by jetting treatment liquid while carrying the printed wiring board material and to deliver the printed wiring board material by holding it.例文帳に追加

この搬送機構８は、プリント配線基板材を搬送しつつ処理液を噴射して表面処理する、プリント配線基板の製造工程にて用いられ、プリント配線基板材を挟んで送る上下多数の搬送ローラー１５を有してなる。 - 特許庁

The coating layer 5 is made of a resin material that can reduce friction of a surface near the weld part 14, and when the wire body 10 is covered in the process for forming the coating layer 5, the coating layer 5 is formed substantially without heating the wire body 10.例文帳に追加

被覆層５は、溶接部１４付近の表面の摩擦を低減し得る樹脂材料にて構成され、被覆層５を形成する工程にて、ワイヤ本体１０に被覆する際に、実質的に、ワイヤ本体１０を加熱せずに形成される。 - 特許庁

While conveying a film-shaped base material a from a first winding roller 2_1 to a second winding roller 2_2 via a cooling drum 3, a pre-plasma process is performed by performing plasma processing on a surface of the film-shaped base material a by a plasma generation unit 6.例文帳に追加

第１巻出巻取ローラ２_１から冷却ドラム３を介して第２巻出巻取ローラ２_２にフィルム状基材ａを搬送しつつ、プラズマ発生ユニット６によりフィルム状基材ａの表面にプラズマ処理を施す前プラズマ工程を行う。 - 特許庁

The method for producing the gene transfer agent, including a process for performing a photo-irradiation living polymerization in a solution, is characterized by performing the photo-irradiation in a state that a photo-irradiation means whose solution contact surface comprises a light-transmissible resin is soaked in the solution.例文帳に追加

溶液中での光照射リビング重合を行う工程を含む遺伝子導入剤の製造方法において、接液面が光透過性の樹脂で構成された光照射手段を該溶液に浸漬させて光照射を行う。 - 特許庁

The surface resistivity of the conductive molded object can be enhanced by containing a process for stretching an extruded molded object in a draw ratio of twice or above in a manufacturing method performing the extrusion molding of a conductive molded object material.例文帳に追加

導電性成形体材料を押出成形する製造方法において、押し出された成形体を延伸倍率２倍以上で延伸する工程を含むことにより、導電性成形体の表面抵抗性を大きくすることができる。 - 特許庁

A substrate for epitaxial growth is used, the substrate not degrading by roughening over a surface roughness of 10 nm during a temperature-rise process up to a growth temperature when a nitride-based compound semiconductor layer is directly epitaxially grown at a growth temperature of 900°C to 1,050°C.例文帳に追加

９００℃〜１０５０℃の成長温度で窒化物系化合物半導体層を直接エピタキシャル成長させる際に、成長温度までの昇温プロセスにおいて表面粗さが１０ｎｍを超えて劣化しないエピタキシャル成長用基板を用いる。 - 特許庁

The device includes a semiconductor substrate 12, a main electrode 22 with plating which undergoes a plating process and is fixed to a principal surface of the semiconductor substrate 12, and a pressure welding electrode which is pressure welded so as to overlap a face in which plating 22a of the main electrode 22 with plating is formed.例文帳に追加

半導体基体１２と、めっき処理され、該半導体基体１２の主面に固着されためっき付き主電極２２と、該めっき付き主電極２２のめっき２２ａが形成された面に重なるように圧接された圧接電極と、を備える。 - 特許庁

The method for producing an optical member includes a process of immersing an aluminum oxide film formed by feeding the aluminum oxide precursor sol to the surface of a base material into hot water of 60 to 100°C to form a rugged structure of aluminum oxide boehmite.例文帳に追加

前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に供給して形成した酸化アルミニウム膜を６０℃以上１００℃以下の温水中に浸漬して酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成する工程を有する光学用部材の製造方法。 - 特許庁

To provide an inexpensive setter for firing a ceramic green sheet without including a process such as scattering or removal of powder on the surface of the setter in every firing of the ceramic green sheet and without causing breaking, strain, warpage or the deterioration in characteristics.例文帳に追加

セラミックグリーンシートの焼成毎にセッター表面に粉末の散布と除去を行う等の工程を含まずに、割れや歪み、反りが生じたり、特性に劣化が生じることなく焼成でき、安価なセラミックグリーンシート焼成用セッターを提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing a polycarbonate resin composition having stable productivity upon production, excellent appearance without causing a surface defect such as a silver streak and stable flame retardancy, and to provide a molded article obtained by injection-molding the polycarbonate resin composition.例文帳に追加

製造時の生産性が安定し、また、シルバーストリーク等の表面欠陥の発生がなく、外観性に優れ、かつ、安定した難燃性を有するポリカーボネート樹脂組成物の製造方法及びそれを射出成形して得られた成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a molded article, whose surface is fully or selectively modified to allow application, e.g. electroless plating, without roughening during injection molding operation, its manufacturing process, a die and injection molding equipment used for it.例文帳に追加

射出成形加工時に表面を粗面化することなく表面を全体的又は選択的に、例えば、無電解メッキに適用可能なように改質された成形品、その製造方法、それに使用される金型及び射出成形装置を提供する。 - 特許庁

In a wire cleaning process, ultraviolet rays are radiated to a surface of the wire 11 from a light emitting part 24 for a predetermined period in an ozone supplying device 25, while ozone-containing gas is supplied from an ozone generating device 27 to the ozone supplying device 25.例文帳に追加

ワイヤ洗浄工程においては、オゾン発生装置２７からオゾン供給部２５にオゾン含有ガスを供給しながら、このオゾン供給部２５内で光照射部２４より紫外線をワイヤ１１の表面に所定時間、照射する。 - 特許庁

To improve lowering of hFE and degradation in reliability with a low current caused by the increase of a surface recoupling current by preventing the exposure of a silicon part in a bipolar transistor forming area when forming the sidewall of an MOS transistor in a Bi-CMOS process.例文帳に追加

Ｂｉ−ＣＭＯＳプロセスにおいて、ＭＯＳトランジスタのサイドウォール形成時にバイポーラトランジスタ形成領域のシリコン部分の露出を防いで、表面再結合電流の増加による低電流でのｈ_FEの低下、信頼性の悪化を改善する。 - 特許庁

In a surface process, a protective layer 4 for protecting the design 3 against a ball running down onto the game board 22 is formed by the transfer or inkjet printing, with paint predominantly composed of a see-through synthetic resin, on the dried layer of the design 3.例文帳に追加

表面工程で意匠図３が乾燥した層の上に遊技盤２２上に流下する球から意匠図３を保護するための保護層４を透視性の有る合成樹脂を主成分とする塗料で転写やインクジェットによる印刷で形成する。 - 特許庁

In this forming method of the thin film, the raw material gas containing metal atoms and silicon atoms is supplied into a treatment atmosphere, and the raw material gas component is adsorbed by the treatment surface of a substrate, and the process (S101) for forming a layer containing the metal atoms and the silicon atoms is carried out.例文帳に追加

金属原子およびシリコン原子を含む原料ガスを処理雰囲気に供給し、原料ガス成分を基板の処理表面に吸着させて、金属原子およびシリコン原子の層を形成する工程（Ｓ１０１）を行う。 - 特許庁

Resists 19a, 19b as liquid materials are discharged and formed by the use of the ink jet method in an area including a part of connection lands 7a, 7b, and a part of the main surface 3 of a piezo-electric body 2, in a first process S10.例文帳に追加

第一の工程としてのＳ１０で接続ランド部７ａ，７ｂ部の一部及び圧電体２の主表面３の一部を含む領域にインクジェット法によって、液状材料としてのレジスト１９ａ，１９ｂが吐出されて形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor light-emitting element comprises a process in which, related to a semiconductor layer comprising a nitride III-V compound grown on the main surface of a substrate, the cleavage of the semiconductor layer is performed by scribing the rear face of the substrate.例文帳に追加

基板の主面上に成長した窒化物系III-Ｖ族化合物からなる半導体層において、前記基板の裏面をスクライブすることによって、前記半導体層をへき開する工程を特徴とする半導体発光素子の製造方法。 - 特許庁

Since the stress from the insulating film 9 is centralized to the defective region 8 in the post-process, an occurrence of the defective region in the vicinity of an upper surface of the substrate 1 on which the current flows at the time of operation of the semiconductor element is prevented.例文帳に追加

後工程において絶縁膜９から受けるストレスを、欠陥領域８に集中させることができるので、半導体素子の動作時に電流が流れる基板１の上面近傍に欠陥領域が生じるのを防ぐことができる。 - 特許庁

To solve problems of deteriorating the activity of a seed during preservation, deteriorating the preserving power and lowering the germination results by ultrafine dirt or waxy substances on the surface of a seed coat in a process of harvesting the rice seed, carrying out separation, performing a treatment, drying the seed and preserving the dried seed.例文帳に追加

〔課題〕 稲種子を収穫し、選抜、処理をし乾燥し保存するかていにおいて、種皮の表面の極細かいよごれや、蝋状物質が、保存中の種子の活性を悪化して、保存力を悪化させ、発芽成績を低下している。 - 特許庁

The polyester film for the supporter, usable as the supporter in the process for forming a plastic film has 5.0-10 nm Ra value on one surface of the film, and 1.405-1.415 g/cm^3 density.例文帳に追加

プラスチックフィルムを成形する工程において支持体として用いられるポリエステルフィルムであって、一方のフィルム表面のＲａが５．０〜１０ｎｍの範囲であり、密度が１．４０５〜１．４１５ｇ／ｃｍ^３の範囲であることを特徴とする支持体用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide the structure of a flexible optical disk in which a recording film is deposited by a vacuum process, capable of suppressing the temperature increase of a film surface as much as possible while securing necessary rigidity during recording film deposition, and its manufacturing method.例文帳に追加

真空プロセスで記録膜を形成するフレキシブル光ディスクについて、必要な剛性を確保しつつ、記録膜成膜中のフィルム表面の温度上昇を可及的に抑制できる光ディスクの構造及びその製造方法を工夫すること。 - 特許庁

To provide a paper exfoliation mechanism, which can minimize the risk of damage on a photoreceptor surface by contact of a claw body, and preventing contamination of carried paper with toner adhered to the claw body as much as possible; and a process unit provided with the same.例文帳に追加

爪体の接触による感光体表面の傷付きの懸念を少なくすると共に、爪体に付着するトナーの搬送用紙に対する汚染を可及的に抑えることができる用紙剥離機構と、これを備えたプロセスユニットを提供する。 - 特許庁

To provide an annealing device for a high quality single crystal with which the occurrence of a vacancy in the single crystal when used is suppressed, and sticking of chromium atoms to the crystal surface is avoided, and to provide a production method for the single crystal including a heat treatment process.例文帳に追加

使用時に単結晶における空孔の発生を抑制し、結晶表面にクロム原子が付着することのない高品質な単結晶のアニーリング装置及び、熱処理工程を含む単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a foam roller capable of increasing the cell opening area to an area within a specified range by opening closed cells at the peripheral surface of a rubber foam body produced through the molding process of the foam roller and suppressing fluctuation of the opening area.例文帳に追加

発泡ローラの成形工程で生じたゴム発泡体外周面の未開口セルを開口し、また開口面積のバラツキを抑え、所定範囲の面積にセル開口を拡大可能な発泡ローラの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To prevent wrong detections of a boundary part of an oil adhering part as an edge in image processing due to excessive oil adhering to an inspected face, when a vehicle body panel is inspected in-line in a pressing process, for example, by means of a conventional surface-flaw inspecting device.例文帳に追加

従来の表面欠陥検査装置では、例えばプレス工程のインラインで車体パネルを検査しようとすると、被検査面に付着した過剰な油により、画像処理において油付着部分の境界部がエッジとして誤検出される。 - 特許庁