「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(141ページ目) - Weblio英語例文検索

The carrier film used in a prepreg pressing process for manufacturing a metal-stuck laminate plate is characterized by being a stretched film having a resin layer (I) consisting of 99 to 90 mass% of a thermoplastic polyester resin (a) and a 1 to 10 mass% of a thermoplastic resin (b) which is incompatible in the thermoplastic polyester resin (a) on one surface layer or both surface layers.例文帳に追加

金属貼り積層板製造時のプリプレグプレス工程において使用されるキャリアフィルムであって、熱可塑性ポリエステル樹脂（イ）９９〜９０質量％と熱可塑性ポリエステル樹脂（イ）とは非相溶の熱可塑性樹脂（ロ）１〜１０質量％からなる樹脂層（Ｉ）を片面または両面の表層に有する延伸フィルムであることを特徴とする。 - 特許庁

In the process for manufacturing a torque sensor detecting a variation in the permeability of a magnetostrictive material 2 caused by a torque acting on a torque transmission shaft 1 by means of coils 23 and 24, a protruding and recessed part 3 is formed at the outer circumferential surface part of the torque transmission shaft 1 by form rolling, its surface is subjected to centerless polishing and then plated with the magnetostrictive material 2.例文帳に追加

トルク伝達軸１に作用するトルクによる磁歪材２の透磁率変化をコイル２３，２４により検出するトルクセンサを製造する方法において、トルク伝達軸１の外周面部に転造によって凹凸部３を形成し、その後にその表面にセンタレス研磨を施し、その後にその表面に磁歪材２をメッキにより設けるようにした。 - 特許庁

To simplify the manufacturing process of the reflection surface of a reflection type liquid crystal display device which are manufactured by many processes and also to provide a plastic substrate for display element, which has a reflection surface in itself by making a substrate which is conventionally manufactured of glass, from plastic and moreover to provide a reflection type liquid crystal display device using the plastic substrate.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In the induction current detection type defect detection process, the surface of the electrophotographic photoreceptor and at least one detection electrode are relatively moved, an induction current is generated at least on one detection electrode by a potential change on the surface of the electrophotographic photoreceptor, and by detecting the induction current, the defective part of the electrophotographic photoreceptor is detected.例文帳に追加

誘導電流検出式欠陥検出工程は、電子写真感光体の表面と少なくとも１つの検知電極とを相対的に移動させ、電子写真感光体の表面の電位変化により少なくとも１つの検知電極に誘導電流を発生させ、誘導電流を検出することによって電子写真感光体の欠陥部を検出する。 - 特許庁

In the process for manufacturing an armature, an armature core having a plurality of coils arranged circumferentially is constituted and coils are formed by winding a wire on the opposite side faces on the coil side on teeth having a surface substantially parallel with the coil side boundary surface and a level difference of a height substantially equal to an integer times of the average thickness of each layer of the coil.例文帳に追加

コイルを円周状に複数配列した電機子のコアを構成し、コイルサイド側の両側面に、コイルサイド境界面と略平行な面、及びコイルの各層の平均の厚みの整数倍と略等しい高さの段差を有するティース上に、電線を巻回してコイルを形成することを特徴とする電機子の製造方法。 - 特許庁

In a mold for photo fabrication having a coating layer on the molding surface of the main body of the mold which is produced by a repeated process in which a photo-curable resin material is laminated and photo-cured, a material forming the coating layer penetrates to the depth of at least 500 μm from the molding surface of the main body.例文帳に追加

光硬化性樹脂材料を積層し光硬化させる工程を繰り返して製造してなる光造形型本体の成形表面に皮膜層を有する光造形型であって、前記皮膜層を形成している材料が光造形型本体の成形表面から５００μｍ以上の深さまで含浸している光造形型。 - 特許庁

This laser marking method comprises a first step of forming a membrane 2 or adhesion on the surface of a marked material 1 composed of a transparent body or a laser light transmitting body, and a second step of radiating a laser beam LB to the membrane or the adhesion and to form projection and depression on the surface of the marked material in a process for removing the membrane or the adhesion from the marked material.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材(1) の表面に膜(2) 又は付着物を形成する第一工程と、膜又は付着物にレーザ光線LBを照射し、膜又は付着物が被マーキング材から除去される過程で被マーキング材の表面に凹凸を形成する第二工程とからなる。 - 特許庁

There is provided an artificial marble excellent in water- repellence, oil-repellence, antifouling property, and antibacterial and mildewproof property, which is obtained by chemically bonding a silane-based surface active agent 4 having-CF3 group at one end and having a chlorosilyl group or alkoxysilyl group at the other end on the surface of an artificial marble 3 treated in a forming process with a resin component and an inorganic filler.例文帳に追加

樹脂成分と無機充填剤を含んで成形加工された人工大理石３の表面に、一端に−ＣＦ_3基を有し、他端にクロロシリル基またはアルコキシシリル基を有するシラン系界面活性剤４を化学結合させたもので、撥水撥油性および防汚性、抗菌防カビ性に優れた人工大理石を提供することができる。 - 特許庁

To provide an optical disk mounting mechanism of an optical disk device capable of stabilizing the write-in or read-out of data with respect to the optical disk with less surface wobbling of the optical disk at a low cost by figuring for improving the verticality of the optical disk mounting surface to a rotary shaft of a motor with the simple structure and the simple process.例文帳に追加

簡単な構成及び簡単な工程で、モータ回転軸に対する光ディスク装着面の垂直度を向上させる面出しを行い、もって低コストで光ディスク面振れが少なく光ディスクに対するデータ書き込み又は読み取りの安定化を図ることが可能な光ディスク装置の光ディスク装着機構を提供する。 - 特許庁

In a method for processing a solid surface to make it even by using a gas cluster ion beam, at least during part of a period of a gas cluster ion beam radiation process, a radiation angle made by the normal line of a solid surface and the gas cluster ion beam is made larger than 70°, and the gas cluster ion beam is focused using a lens mechanism without separating the monomer ion, thus radiating it.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を７０度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 - 特許庁

A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor comprises the steps of forming (etching to cut-surface chemical conversion, carbonization process) a capacitor element having an anode body with an anode oxide film formed on its surface, impregnating an oxide reagent to the capacitor element by immerging the capacitor element in an oxide reagent solution, and then impregnating a monomer to the capacitor element by immerging the capacitor element in a monomer soluion.例文帳に追加

表面に陽極酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成し（エッチング〜切り口化成・炭化処理）、該コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子に酸化剤を含浸させ（酸化剤含浸）、その後、該コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子にモノマーを含浸させる（モノマー含浸）。 - 特許庁

To provide a lubricant applying device which prevents the occurrence of an abnormal image such as an uneven image and reduces dependence on image area and transfer paper size by uniformizing application quantity of a lubricant on a surface of an image carrier, and which can ensure control and uniformity of application quantity of the lubricant applied on the surface of the image carrier, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体表面への潤滑剤塗布量を均一にすることによって、画像ムラ等の異常画像を防止し、画像面積や転写紙サイズの依存度を低下し、像担持体表面に塗布された潤滑剤の塗布量の制御や均一性を確保することのできる、潤滑剤塗布装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Since an active surface 4f of the substrate 4a can be protected against flaws or contamination only by forming a protective layer 4c on the active surface 4f of the substrate 4a having a wiring pattern 4b or the like formed, a troublesome process of packaging substrates one by one and then packing or the like is not necessary, and automatic packing can be done in a conveyer-line method.例文帳に追加

配線パターン４ｂ等が形成された基板４ａの能動面４ｆに保護層４ｃを形成するだけで当該基板４ａの能動面４ｆを傷や汚染から保護することができるので、基板を一つ一つパッケージしてから梱包する等の煩雑な工程は必要なく、流れ作業で自動的に梱包を行うことができる。 - 特許庁

The process for producing a bond magnet in which a protective layer is formed on the surface of a bond magnet element containing a rare earth element comprises a step for forming a protective layer containing phosphor on the surface of a bond magnet element by touching the bond magnet element to solution containing a phosphate and acid ions.例文帳に追加

本発明のボンド磁石の製造方法は、希土類元素を含むボンド磁石素体の表面上に保護層を形成するボンド磁石の製造方法であって、ボンド磁石素体を、リン酸塩及び酸イオンを含む溶液に接触させて、ボンド磁石素体の表面上にリンを含む保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

The cast iron member is used for insert casting working using a high pressure aluminum die casting process, and is provided with a modification coating layer for improving its adhesion with an aluminum material on the surface, and also, its surface roughness (Ra) is 5 to 150 μm.例文帳に追加

上記課題を達成するため、高圧アルミニウムダイキャスト法を用いて鋳包み加工に供される鋳鉄部材であって、当該鋳鉄部材は、その表面にアルミニウム材との密着性を向上させるための改質被覆層を備え、且つ、その表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ〜１５０μｍであることを特徴とした鋳包み用鋳鉄部材を採用する。 - 特許庁

The process for producing a surface-treated particulate water-absorbing resin according to the present invention comprises adding a treatment solution containing a radical polymerizable compound to a particulate water-absorbing resin as a base polymer, and then surface-treating the particulate water-absorbing resin by irradiating the resin with an active energy ray while flowing the resin.例文帳に追加

本発明にかかる表面処理された粒子状吸水性樹脂の製造方法は、ラジカル重合性化合物を含む処理液をベースポリマーとしての粒子状吸水性樹脂に添加した後に、当該粒子状吸水性樹脂を流動させながら活性エネルギー線を照射して表面処理することを特徴とする。 - 特許庁

In the irradiation process, at least one end of the joining end surface (interior of a hollow body) among both joining end surfaces is irradiated with a laser beam in a reduced pressure atmosphere to allow the molten resin of the joining end surface of the absorbable resin material 2 to flow toward the reduced pressure atmosphere to fill the gap between the joining end surfaces with the molten resin.例文帳に追加

この照射工程で、接合端面の周りのうち該接合端面の少なくとも一端側（中空体の内部）を減圧雰囲気としながらレーザ光の照射を行うことにより、吸収性樹脂材２の接合端面における溶融樹脂を減圧雰囲気側に流動させて、接合端面間の隙間を該溶融樹脂で埋める。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a surface shape that can keep cleaning property even when the surface shape of the electrophotographic photoreceptor subjected to a roughening treatment to improve the cleaning property is flattened by long-term use or the like compared to the initial shape; and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the photoreceptor.例文帳に追加

クリーニング性改善の目的で表面の粗面化を施された電子写真感光体の表面形状が、長期の使用等によって初期の形状に比べて平坦化してしまうような場合にも、なお、クリーニング性を維持し得る表面形状を有する電子写真感光体、これを有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

The process for compacting in this invention includes: an applying step of applying a higher fatty acid-based lubricant to a surface of a metallic workpiece whose major component is an active metallic element and/or a working surface of a compacting die; and a compacting stage of compacting the metallic workpiece by the compacting die in an warm state.例文帳に追加

本発明の成形加工方法は、活性金属元素を主成分とした金属素材の表面および／または成形加工金型の加工面に高級脂肪酸系潤滑剤を塗布する塗布工程と、この成形加工金型により金属素材を温間状態で成形加工する成形加工工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

A thin-film transistor (TFT) manufactured by back surface exposure uses the oxide semiconductor as a channel layer, negative resist on a conductive film is exposed from a back surface side of a substrate using an electrode on the substrate as a mask, and then removed except an exposed part of the negative resist, and the conductive film is etched using the exposed part as an etching mask to process the electrode.例文帳に追加

裏面露光により製造される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）において、チャネル層として酸化物半導体を用い、基板上の電極をマスクとして、基板の裏面側から導電膜上のネガレジストを露光し、ネガレジストの露光部分を残し前記ネガレジストを除去し、露光部分をエッチングマスクとする導電膜のエッチングにより、電極を加工する。 - 特許庁

To provide a filter consisting of a nickel porous body which can inhibit generation of product failure by surely removing fine particles contained in washing water used in a surface treatment process of an aluminum material to inhibit adhesion of the fine particles to the surface of the aluminum material after being washed, and can be used repeatedly by backwashing.例文帳に追加

本発明は、アルミニウム材料の表面処理工程において使用される洗浄水中に含まれる微粒子を確実に除去し、洗浄後のアルミニウム材料の表面における微粒子の付着を防いで、製品不良の発生を抑えるとともに、逆洗により繰り返し使用することのできるニッケルの多孔質体のフィルターを提供することにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor light-emitting device includes a process of forming a laminate including the semiconductor layer which has a light-emitting layer on a principal surface of a substrate and is separated into a plurality of pieces by separation grooves and an insulating film which covers the semiconductor layer and a bottom surface of the separation grooves, and is more flexible and thicker than the semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体発光装置の製造方法は、基板の主面上に、発光層を有し分離溝によって複数に分離された半導体層と、半導体層及び分離溝の底面を覆い、半導体層に比べて柔軟性があり且つ厚い絶縁膜とを含む積層体を形成する工程を有する。 - 特許庁

In a substrate processing by the substrate processing apparatus, a hydrophobizing step (S101) for selectively hydrophobizing the peripheral edge of the main surface of the substrate and a liquid film forming step (S102) for supplying the processing liquid to the substrate which is horizontally held after the hydrophobizing process is performed and forming the liquid film of processing liquid covering the main surface of the substrate are performed.例文帳に追加

この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程（Ｓ１０１）と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程（Ｓ１０２）とが実行される。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer surface-protecting adhesive tape which can reduce melting and heat shrinkage of the semiconductor wafer surface-protecting adhesive tape even if used in a heating process, rarely causes breakage of a semiconductor wafer, poor peeling of the adhesive tape or the like, and can reduce adhesive power by irradiating radioactive rays.例文帳に追加

加熱工程で使用されても半導体ウエハ表面保護用粘着テープの溶融や熱収縮を低減でき、半導体ウエハの破損や該粘着テープの剥離不良等を生じることが少なく、放射線を照射することにより粘着力を低下させることができる半導体ウエハ表面保護用粘着テープを提供する。 - 特許庁

The printing method includes a process of absorbing a solvent using the solvent absorber whose surface in contact with the surface of the silicone blanket is formed of a composition containing silicone rubber and dimethyl silicone oil with a kinematic viscosity of 1-5,000 mm^2/s at 3-50 pts.mass per 100 pts.mass of silicone rubber.例文帳に追加

印刷方法は、前記溶剤吸収体として、シリコーンブランケットの表面に接触させる面を、シリコーンゴムと、前記シリコーンゴム１００質量部あたり３質量部以上、５０質量部以下の、動粘度が１ｍｍ^２／ｓ以上、５０００ｍｍ^２／ｓ以下であるジメチルシリコーンオイルとを含む組成物によって形成したものを用いて溶剤を吸収する工程を含む。 - 特許庁

In a second process, by inserting the lead of an insertion component 19 having a lead 21 from a second opening 13b of the second main surface side into the hole for lead insertion, the lead is protruded from a first opening 13a of the hole for the lead insertion of the first main surface side, and the lead is fixed by the lead fixing member while being inserted.例文帳に追加

第２過程では、リード２１を有する挿入部品１９のリードを第２主表面側の第２開口１３ｂからリード挿入用孔部に挿入することによって、リードを第１主表面側のリード挿入用孔部の第１開口１３ａから突出させるとともに、挿入した状態でリードをリード固定部材によって固定する。 - 特許庁

To provide, in relation to polishing slurry and polishing method used for polishing in a process for forming wirings of a semiconductor device and the like, a polishing slurry capable of giving a polished surface having high flatness even if the polished surface is made of two or more substances, and further, capable of suppressing metal residues and scratches after polishing, and a method of chemical mechanical polishing using the same.例文帳に追加

半導体デバイスの配線形成工程等における研磨に使用される研磨液及び研磨方法に関し、被研磨面が複数の物質からなっていても平坦性が高い被研磨面が得られ、さらに研磨後の金属残渣や研磨キズを抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。 - 特許庁

On a surface of aluminum foil, a roll-pressed mark of the aluminum foil is removed, and multiple recessed parts each having a tip with an acute angle are present, and the colorimetric value (L value of Hunter Lab) on the surface of the aluminum foil is set to 65-80, whereby positive electrode foil high in capacitance can be provided by improving pit density by an etching process and uniformizing pit length.例文帳に追加

アルミニウム箔の表面が、アルミニウム箔の圧延傷が取り除かれて先端が鋭角を有する凹部が多数存在し、かつ該アルミニウム箔の表面の測色値（ハンターＬａｂのＬ値）を６５〜８０とすることにより、エッチング処理によるピット密度の向上とピット長さを均一化し、静電容量の高い陽極箔を得ることができる。 - 特許庁

In the method for manufacturing of the elastic roller for electrophotography having an axis body and a coating film on the outer peripheral surface thereof, after the coating material is applied on the axis body, a process for moving the lower supporting shaft upward further to remove the axis body coated with the coating material and a ring seal from a center hole is executed without making a contact between a lower supporting shaft and a lower surface of the ring seal.例文帳に追加

軸芯体と、その外周面に塗膜を有する電子写真用弾性ローラの製造方法において、塗料を軸芯体に塗工後、下支持軸を更に鉛直上方に移動させて塗料が塗工された軸芯体及びリングシールを中心孔から離脱させる工程を、下支持軸とリングシール下面とを接触させることなく行なう。 - 特許庁

In a printing control part, a test printing mode is provided whereby a solid image is printed as a test image to one side surface of the recording paper (process in step 4 is carried out), and a predetermined mark is printed to a specific position which passes a printing position at the time of the switching operation of the one side surface (processes in step 8 and step S9 are carried out).例文帳に追加

プリント制御部において、記録紙の一側面にテスト画像としてベタ画像を印刷する（ステップ４の処理を実行する）とともに、該一側面のうち踏換え動作時に印刷位置を通過する特定位置に所定マークを印刷する（ステップ８及びステップＳ９の処理を実行する）テスト印刷モードを備えるようにした。 - 特許庁

To provide an air conditioner, in particular, including a fixing structure for an extrusion molded product capable of being inexpensively and easily demounted from a front panel, with respect to the air conditioner in which the extrusion molded product on a surface (design surface) of which vapor deposition process (for example, metal-effect, grain pattern and the like) is performed, is attached to the front panel of an indoor unit.例文帳に追加

表面（意匠面）に蒸着処理（例えば金属調や木目柄など）を施した押出成形品が室内ユニットの前面パネルに取り付けられる空気調和機であって、特に、安価で容易に前面パネルへの取り外しが可能な押出成形品の固定構造を備えた空気調和機を提供することを課題とする。 - 特許庁

In this noncontact data carrier having a resin base material, a metallic antenna coil 13 formed on one surface of the base material and an IC chip 20 connected to the coil 13, an insulating resist material used for an etching process is left on the surface of an antenna layer as a protective film 14.例文帳に追加

本発明の非接触データキャリアは、樹脂基材と、樹脂基材の一方の面に設けられた金属製アンテナコイル１３と、アンテナコイルに接続されたＩＣチップ２０とを有する非接触データキャリアにおいて、アンテナ層表面にはエッチング工程で使用した絶縁性のレジスト材料が保護膜１４として残存していることを特徴とする。 - 特許庁

To uniformly make flatness in the total surface of a semiconductor substrate, and attain uniform polishing up to in the vicinity of a wafer edge, in a polishing device or a polishing pad for use in a mechanical flatting process smoothing by polishing a surface of an insulation layer or metal wiring formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を研磨により平滑にする機械的な平坦化工程で使用するための研磨装置または研磨パッドにおいて、半導体基板全面が均一に平坦化されまたウェーハエッジ近くまで均一な研磨が達成できる技術を提供するものである。 - 特許庁

A semiconductor layer formation process is performed, where a semiconductor layer 13 made of an n-type low-resistance region having higher impurity concentration than a semiconductor substrate 1 at the scheduled formation part (inside the semiconductor substrate 1 at one surface side of the semiconductor substrate 1) of the electrical heating element 3 at one surface side of the semiconductor substrate 1 made of a p-type silicon substrate.例文帳に追加

ｐ形シリコン基板からなる半導体基板１の一表面側における発熱体３の形成予定部位（半導体基板１の上記一表面側における半導体基板１内）に半導体基板１よりも不純物濃度が高いｎ形の低抵抗領域からなる半導体層１３を形成する半導体層形成工程を行う。 - 特許庁

A process comprising: providing a composition comprising silver-containing nanoparticles and molecules of an initial stabilizer on the surface of the silver-containing nanoparticles; and mixing a replacement stabilizer comprising a carboxylic acid with the composition to replace at least a portion of the initial stabilizer with the replacement stabilizer, resulting in molecules of the replacement stabilizer on the surface of the silver-containing nanoparticles.例文帳に追加

銀含有ナノ粒子と、銀含有ナノ粒子の表面に初期安定剤の分子とを有する組成物を生成し、カルボン酸を有する置換安定剤を組成物と混合して、初期安定剤の少なくとも一部を置換安定剤と置換し、銀含有ナノ粒子の表面に置換安定剤の分子を生じさせる方法を提供する。 - 特許庁

A metal forming a nitride is stuck to a pit 8 or a crack penetrating from the front surface to the rear surface of a self-standing substrate 7 of a nitride semiconductor in a manufacturing process, and then a nitride is formed by nitriding the metal in order to bury the penetrated pit or crack by the formed nitride.例文帳に追加

表面から裏面まで貫通する貫通ピット８又は貫通クラックをその製造過程で有する窒化物半導体の自立基板７に対し、前記貫通ピット８又は貫通クラックに窒化物を形成可能な金属を付着させた後、前記金属を窒化させて窒化物を形成し、前記窒化物により前記貫通ピット又は貫通クラックを埋める。 - 特許庁

To solve the problems relating to a yield and reliability caused by the cracks of a glass substrate or the like due to the exposure of the entire cutting area during dicing, in a method of manufacturing a semiconductor device, which has a process of bonding the glass substrate on the first surface of a semiconductor substrate, and etching the semiconductor substrate from the second surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の第１の面上にガラス基板を接着して、当該半導体基板の第２の面から当該半導体基板をエッチングする工程を有する半導体装置の製造方法において、ダイシング時の切断領域全体を露出することによるガラス基板等のクラック等に基づく歩留上、信頼性上の問題の解決を図る。 - 特許庁

To provide a method of suppressing in-process contamination and a defect in outward appearance of a polarizing plate due to production of a particulate substance even when a surface of a cycloolefin-based resin film is treated by a corona discharge when the polarizing plate is manufactured by sticking the cycloolefin-based resin film on at least one surface of a polyvinyl-alcohol-based polarizing film.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系偏光フィルムの少なくとも一方の面にシクロオレフィン系樹脂フィルムを貼り合わせて偏光板を製造する際、シクロオレフィン系樹脂フィルムの表面にコロナ放電処理を施しても、微粉末状物質の発生による工程内汚染や偏光板の外観不良を抑制しうる方法を提供する。 - 特許庁

In a speaker equipment creation process, other peripheries of the diaphragm 3 are fixed to a voice coil bobbin 5 and a dumper 4 with the adhesive and the cutting surface near other peripheries of the diaphragm is covered with the adhesive, thus preventing the cutting surfaces from being brought into contact with air and hence increasing the rust-preventive properties in the cutting surface without applying any rustproofing treatment.例文帳に追加

スピーカ装置作成工程では、その振動板3の他の周縁部とボイスコイルボビン5及びダンパー4とを接着剤で固着すると共に、その振動板の他の周縁部近傍の切断面を接着剤により被覆するのでそれらの切断面と空気との接触が遮断され、防錆処理せずにそれらの切断面の防錆性が向上する。 - 特許庁

A fabrication process of a Schottky barrier diode comprises a step for forming an n-type SiC layer 10, a step for forming a trench 30 on the surface of the n-type SiC layer 10, and a step for heat treating the n-type SiC layer 10 while supplying silicon and nitrogen to the surface of the n-type SiC layer 10 after the step for forming a trench 30.例文帳に追加

ショットキーバリアダイオードの製造方法は、ｎ型ＳｉＣ層１０を形成する工程と、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にトレンチ３０を形成する工程と、トレンチ３０を形成する工程の後で、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にケイ素と窒素とを供給した状態でｎ型ＳｉＣ層１０を熱処理する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a surface potential control method for a photoreceptor which is adaptable to the uncertainty that the characteristics and surface potential properties of the photoreceptor cannot be stabilized by repeating an image forming process and to the above uncertainty due to environmental variation such as humidity or temperature variation, and by which stabler image formation can be performed on the first time and on and after the second time.例文帳に追加

画像形成プロセスを繰り返すことで感光体の特性や表面電位特性が安定し得ない不確定性や、湿度、温度等の環境変化に起因する上記不確定性に対応でき１回目と２回目以降においてより安定した画像形成を行うことができる感光体への表面電位の制御方法を提案する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, having first and second back-surface conductors 3 and 4 provided to the back surface of a semiconductor substrate 1, which includes an inspecting process of inspecting the semiconductor device without dividing the semiconductor substrate 1 into chips, and to provide an inspecting device for the semiconductor used therefor.例文帳に追加

半導体基板１の裏面に備えられた第１、第２裏面導体３、４を有する半導体装置において、半導体基板１をチップ単位に分割することなく、半導体装置の検査を行うことができる検査工程を含む半導体装置の製造方法およびそれに用いられる半導体装置の検査装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing the propylene-based polymer comprises separating slurry containing the solvent and the propylene-based polymer into the solvent and the propylene-based polymer by using a centrifugal separator in which the inner surface of ball of the centrifugal separator and screw conveyer surface are polished, in a production process of the propylene-based polymer by the solvent polymerization method.例文帳に追加

溶媒重合法によるプロピレン系重合体の製造プロセスにおいて、遠心分離機のボウル内表面およびスクリュウコンベアー表面が研磨された遠心分離機を用いて溶媒およびプロピレン系重合体を含むスラリーを溶媒及びプロピレン系重合体に分離することを特徴とするプロピレン系重合体の製造方法。 - 特許庁

In the process for joining the ceramic material to Al-containing stainless steel, the surface of the stainless steel to which the ceramic material is to be joined is coated with a metal, and the metal-coated surface is brazed to the ceramic material with a brazing metal or a ceramic powder-containing brazing metal.例文帳に追加

セラミック材料とＡｌを含むステンレス鋼の接合方法であって、セラミック材料を接合するステンレス鋼側の接合面に金属をコーティングした後、該コーティング金属面とセラミック材料との間を金属ろう材、またはセラミックス粉を含む金属ろう材でろう付けすることを特徴とするセラミック材料とＡｌを含むステンレス鋼の接合方法。 - 特許庁

To provide a process for preparing a molded article of a cycloolefin polymer which causes no stickiness on a metal mold surface and a molded article surface in a mass polymerization such as the reaction injection molding and no corrosion on a metal-made mold and also almost no odor of a monomer because of a considerably decreased content of an unreacted monomer in the molded article.例文帳に追加

反応射出成形のような塊状重合において金型成形面および成形品表面にベタツキを生じることがなく、金属製型の腐食を生じることなく、さらに成形品の未反応モノマー含有量が大幅に低減されてモノマー臭気が少ないシクロオレフィンポリマー成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁