「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(142ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion capable of preventing a surface defect such as dishing, erosion, scratch or fang in a planarization process of a polishing object surface by chemical mechanical polishing, and to provide a chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparing set excelling in long-term preservation stability, even in a condensed state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥を抑制することができる化学機械研磨用水系分散体の調製方法、および濃縮状態においても長期保存安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体調製用セットを提供することにある。 - 特許庁

A substrate provided with a wiring pattern 2 which has the land part 3 is prepared and after preliminary solder 4 is provided on at least the surface of the land 3 as a preliminary solder forming method, a resist layer 5 formed of thermosetting resin, etc., is applied onto the entire surface of the substrate as a resist layer forming process and dried and half-hardened.例文帳に追加

ランド部３を有する配線パターン２が設けられた基板１を用意し、まず予備半田形成方法として、少なくともランド部３の表面に予備半田４を設けた後、レジスト層形成工程として、基板１上の全面に熱硬化性樹脂等からなるレジスト層５を塗布し、このレジスト層５を乾燥して半硬化させる。 - 特許庁

To simplify the manufacturing process of a reflecting surface of a semitransmission type liquid crystal display device which has been manufactured in a large number of stages, to provide a plastic substrate for a display element having the reflecting surface in the substrate itself by forming the substrate heretofore made of glass using plastic and to provide a semitransmission type liquid crystal display device using it.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた半透過型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた半透過型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a plated layer with a uniform film thickness, by improving a setting of a rotation speed of a semiconductor wafer W and a circulation flow rate of a plating solution 3 for driving out bubbles A without fail, in a plating process in which bubbles A are driven out from a treated surface of the semiconductor wafer W not to influence on the surface.例文帳に追加

半導体ウエハＷの被処理面から気泡Ａを確実に追い出し気泡Ａの影響を排除して銅メッキを施すようにしているが、気泡Ａを確実に追い出す際の半導体ウエハＷの回転速度やメッキ液３の循環流量の設定が難しく、均一な膜厚のメッキ層を得ることが極めて難しい。 - 特許庁

A method for polishing a surface of the workpiece by holding the workpiece through the backing pad 4 attached to a holding panel main body 3 and bringing the workpiece into slide-contact with an abrasive cloth comprises a process for removing water or polishing liquid that at least a surface layer part of the backing pad contains before and/or after holding the workpiece.例文帳に追加

保持盤本体３に取り付けられたバッキングパッド４を介してワークを保持し、該ワークを研磨布に摺接させてワーク表面を研磨する方法において、前記ワークの保持前及び／又は保持後に、前記バッキングパッドの少なくとも表層部に含まれている水又は研磨液を除去する工程を含むことを特徴とするワークの研磨方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the thermoplastic resin film by a melting and extrusion process, the extruded molten thermoplastic resin film is heated and, before the entirety of the film does melt, it is clamped using a thermally pressurizing device having a metallic or a silicon single crystalline plate with a smooth surface having an average surface roughness of Ra 1,000 nm or less.例文帳に追加

溶融押出法で熱可塑性樹脂フィルムを製造する方法において、溶融押出された熱可塑性樹脂フィルムを加熱し、該フィルム全体が溶融しないうちに、平均表面粗さＲａ１０００ｎｍ以下の表面平滑な金属あるいはシリコン単結晶板を有する加熱加圧装置で圧締することを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの製造方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the planographic printing plate, including a process for distributing small drops of a fluid on the surface of a planographic receiving material according to data by ink jet printing, the fluid contains an oleophilizing agent and the oleophilizing agent has a phosphorus-containing group capable of reacting with the surface of the planographic receiving material in its chemical structure.例文帳に追加

流体の小滴を平版受容体の表面にインキジェット印刷により情報通りに分配することを含んで成る平版印刷版の製造方法において、該流体が親油化剤を含有し、該親油化剤はその化学構造において該平版受容体の該表面と反応することができるリン含有基を有することを特徴とする方法。 - 特許庁

This film deposition method includes a process in which, by FIB assist deposition in which a material having an Si-O-Si bond and an Si-H bond is fed to the surface of a structure, and further, a desired part in the surface fed with the above material is irradiated with a focused ion beam, a silicon oxide film is deposited.例文帳に追加

本発明の成膜方法は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合及びＳｉ−Ｈ結合を有する材料を構造体の表面に供給するとともに前記材料を供給された前記表面の所望の部分に集束イオンビームを照射するＦＩＢアシストデポジションによりシリコン酸化膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The solar battery manufacturing method includes a process for forming pn-junction by heating after applying a phosphoric acid aqueous solution to the main surface of a p-type crystal silicon substrate, and is characterized by forming a silicon nitride thin film on the main surface of the p-type crystal silicon substrate before being applied with the phosphoric acid aqueous solution.例文帳に追加

ｐ型結晶シリコン基板の主面上にリン酸水溶液を塗布した後に加熱することによりｐｎ接合を形成する工程を備え、前記リン酸水溶液を塗布する前に、前記ｐ型結晶シリコン基板の主面上に薄い窒化シリコン膜を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法により、上記の課題を解決する。 - 特許庁

In this case, since the multilayer film has printability and exhibits such an effect that prevents white turbidity, crack and the like from generating when in a bending process after bonded with kinds of substrates, the surface decorative material capable of bonding to a woody material such as wood, plywood and particleboard as a surface decorative material such as a decorative sheet can be obtained.例文帳に追加

本発明の多層フィルムは、印刷適性を有し、各種基材と貼り合わせた後の折り曲げ加工時の白濁や亀裂の発生等を抑制することができるなどの効果を奏するため、化粧シート等の表装材として、木材、合板、集成材などの木質系材料に貼り合わせる表装材を得ることができる。 - 特許庁

The concealment test paper used in the toning process of repairing color coating has a gray part and a silver part and the 105° maximum reflectivity of the surface of the gray part at a wavelength of 400-700 nm is 0.8-1.2 times the 105° maximum reflectivity of the surface of the silver part at the wavelength of 400-700 nm.例文帳に追加

補修用着色塗料の調色工程において用いられる隠蔽試験紙であって、グレー部分及びシルバー部分を有し、上記グレー部分の表面の波長４００〜７００ｎｍにおける１０５度最高反射率は、上記シルバー部分の表面の波長４００〜７００ｎｍにおける１０５度最高反射率の０．８〜１．２倍である隠蔽試験紙。 - 特許庁

To provide an identification code reading and transferring device capable of reading all of an identification code put on a side surface of a storage rack and an identification code put on a bottom surface of a plurality of compact works housed in the storage rack during a process of the transferring work of the storage rack in the condition that the compact works are housed in the storage rack.例文帳に追加

保管用ラックの移載作業の工程中に保管用ラックの側面に添付された識別コードと当該保管用ラックに収容された複数の小型ワークの底面に添付された識別コードを、小型ワークを保管用ラックに収容した状態のまま一括して読み取ることを可能な識別コード読取移載装置を提供すること。 - 特許庁

In the process for fabricating a semiconductor device where the shape of skin surface is detected by detecting the capacitance of the skin surface and a conductive film through a silicon nitride and polyimide film of passivation film, a polyimide film having a thickness of 400-700 nm is formed on the uppermost layer of the semiconductor device at a temperature of 350-380°C.例文帳に追加

パシベーション膜である窒化シリコン及びポリイミド膜を介して皮膚表面と導電膜との容量を検出し、皮膚表面の形状を検出する半導体装置の製造方法において、その半導体装置の最上層に膜厚が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下のポリイミド膜を硬化温度を３５０℃以上３８０℃以下で形成する。 - 特許庁

The process for forming the metallic layer on the surface of the substrate comprises a step wherein a metal halide layer is formed from a halogen-containing precursor and a metal-containing precursor on at least part of the surface and a step wherein the metal halide layer is exposed to a reducing agent to yield the metallic layer.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属層を堆積する方法において、前記表面の少なくとも一部の上で、ハロゲン含有前駆体及び金属含有前駆体から金属ハライド層を成長させる工程、及び前記金属ハライド層を還元剤に曝露して前記金属層を提供する工程が含まれるように構成する。 - 特許庁

To keep a treating liquid so as not to lower the temp., while the treating liquid spreads on the whole surface of a substrate by supplying hot water to the back surface side of the substrate to heat to accurately control the temp. of the treating liquid supplied to the substrate in a wet process performed by supplying the treating liquid to the substrate as the substrate is rotated.例文帳に追加

基板を回転させながら、この基板に処理液を供給することにより行われるウエットプロセスにおいて、基板の裏面側に温水を供給して加温することによって、基板に供給された処理液の温度を正確に管理して、この処理液が基板の全面に広がる間にその温度が低下しないように保持する。 - 特許庁

In order to apply, in particular, the CVD process, the gas is divided into partial flows, and the particle concentration or the retention time of the partial flows on the substrate surface or immediately in the vicinity of the substrate surface is regulated so that the particles of the equal quantity are deposited or reacted for each unit area or each unit time.例文帳に追加

基板の面を所望の範囲で被覆し、又はガスと反応させて処理し、その際特にＣＶＤ法を適用するために、ガスを部分流に分割し、単位面積及び単位時間につき等量の粒子が析出ないしは反応するように、基板の面上又は面の直近の、部分流の粒子濃度ないしは滞留時間を調整する。 - 特許庁

A seawater dropping means 1 for dropping seawater and scattering preventing nets 3 are arranged at least on both sides of a dropping surface in parallel to the dropping surface and, in a process wherein dropped seawater falls between the nets formed so as to prevent the scattering of seawater, moisture is evaporated by the contact with the atmosphere or a wind or solar rays to concentrate seawater.例文帳に追加

海水を滴下させる海水滴下手段１と、飛散防止ネット３を滴下面に対し平行に少なくとも両側に配置し、海水の飛散を防止するように形成されたネット間を滴下海水が落下する過程で、大気や風との接触または太陽熱で水分が蒸発して海水が濃縮される構造にした。 - 特許庁

In a mastering process, a tabular member consisting of a silicon wafer or metal and the like having a mirror finished surface is used as a substrate 1 and the resist film thickness t of the photoresist 14 formed on the substrate 11 is so set as to attain ≥70% of the reflectivity in the mirror finished surface section of the substrate 1 before coating application of the resist at an exposure wavelength.例文帳に追加

マスタリング工程において、基板１１として鏡面を有するシリコンウエハあるいは金属などからなる板状部材を用い、この基板１１上に形成するフォトレジスト１４のレジスト膜厚ｔを、露光波長において当該レジストを塗布する前の基板１１における鏡面部反射率の７０％以上となるように設定する。 - 特許庁

The method for recovering the silk protein comprises the following process: A silk protein-containing liquid consisting of a fibroin solution or sericin solution is dripped on and spread over a hot drum outer circumferential surface of a drum dryer and heated to dryness, and a filmy solid formed on the hot drum outer circumferential surface is peeled off with a scraper and recovered, and as necessary, ground into powdery sericin or fibroin.例文帳に追加

フィブロイン水溶液またはセリシン水溶液からなる絹蛋白含有液状物をドラムドライヤーの加熱ドラム外周面上に滴下して展延すると共に、加熱乾燥させ、これにより加熱ドラム外周面に生成した膜状の固形物をスクレーパーで剥離して回収し、必要に応じて粉砕して粉末状のセリシンまたはフィブロインとする。 - 特許庁

This is a separator for a solid polymer fuel cell in which titanium or titanium alloy having an excellent corrosion resistance is covered on the surface of iron, copper, aluminum, magnesium or alloy of these having a high conductivity by plastic forming by means of rolling or extrusion process, and a clad material is formed, and a carbon system material is covered on at least one surface of this clad material.例文帳に追加

導電性の高い鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム又はこれらの合金の表面に、耐食性の優れたチタン又はチタン合金を、圧延又は押出しによる塑性加工により被覆してクラッド材を形成し、このクラッド材の少なくとも一方の表面にカーボン系の材料を被覆してなる固体高分子型燃料電池のセパレータを用いる。 - 特許庁

To provide a method for accurately detecting the presence or absence of foam generation on a reaction liquid surface and actual generation amount by mechanical automation in various chemical reactions for generating foams on the reaction liquid surface in a reaction process and an apparatus for accurately controlling the addition period and actual addition amount of an antifoaming agent by mechanical automation by using the method.例文帳に追加

反応工程で反応液の表面に気泡が発生する種々の化学反応において、反応液面での気泡の発生の有無や実際の発生量を機械的に自動化して正確に検知する方法と、その方法を用いて消泡剤の添加の時期や実際の添加量を機械的に自動化して的確に制御する装置。 - 特許庁

To provide a high ductility and high strength alloyed hot-dip galvanized steel sheet capable of obtaining satisfactory alloyed hot-dip galvanizing properties without being subjected to a complicated process, and having excellent surface properties and brittle resistance to secondary processing by suppressing slab cracking upon continuous casting and surface defects upon hot rolling, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく良好な合金化溶融亜鉛めっき性を得ることができ、連続鋳造時のスラブ割れおよび熱延時の表面欠陥を抑制した、表面性状および耐二次加工脆性に優れる高延性高強度合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The process for production of the carbon black pigment includes: reacting the functional group on the surface of the carbon black particle with a diphenyl compound having an isocyanate group at its both terminals in a non-reactive organic solvent; causing the diphenylmethane group to be urethane-bonded to the surface of the carbon black particle; and bonding a polysiloxane to the resulting compound in the silicone oil.例文帳に追加

カーボンブラック粒子表面の官能基と両末端にイソシアネート基を有するジフェニル化合物を非反応性の有機溶媒中で反応させて、カーボンブラック粒子表面にジフェニルメタン基をウレタン結合させ、次いで、シリコーンオイル中でポリシロキサンを結合させることを特徴とする電子ペーパー用カーボンブラック顔料の製造方法。 - 特許庁

As a result, when the contents and conditions of the surface roughening process for the layer 3 are altered, and thus even if the tone of color of the surface of the layer 3 is changed, the tone or brightness of color of a nonshielded region Af does not change, which thus makes modifications in image photographing conditions, image analyzing conditions, or the like unnecessary, and hence improves the efficiency.例文帳に追加

その結果、コア配線パターン層３に対する面荒らし処理の内容や条件が変更されて、コア配線パターン層３の表面色調や明度が仮に変化しても、非遮蔽領域Ａｆの色調あるいは明度は変化せず、画像撮影条件あるいは画像解析条件等の変更も不要となるので能率的である。 - 特許庁

The manufacturing method of a transparent substrate with black matrix comprises a process of manufacturing the black matrix containing an ink-repellent agent on the transparent substrate, wherein, upon heat curing of the black matrix, the heat curing is performed, so that the black matrix-formation surface side of the transparent substrate is heated and the black matrix-nonformation surface side of the transparent substrate is cooled.例文帳に追加

透明基板上に撥インク剤を含有したブラックマトリクスを製造する方法において、前記ブラックマトリクスの熱硬化時に、該透明基板のブラックマトリクス形成面側を加熱し、かつ、該透明基板のブラックマトリクス非形成面側を冷却して熱硬化を行うことを特徴とするブラックマトリクス付き透明基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a fine particle laminated substrate having a fine particle accumulated layer of high quality wherein functional fine particles are formed on the surface of a base material in an oriented state so as to become high density in the vicinity of the surface of the base material, and a manufacturing method capable of easily forming the fine particle laminated substrate by a simple process by controlling a fine particle accumulating method.例文帳に追加

基材表面に機能性微粒子が、表面近傍が高密度となるように配向状態で形成された、高品質な微粒子集積層を有する微粒子積層基板、及び、微粒子の集積方法を制御することで、前記微粒子積層基板を簡易な工程で容易に形成することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

This process comprises a step of providing a set of parametric elementary curved surfaces, and each parametric elementary curved surface has edges including vertices joining adjacent edges, and each elementary curved surface has internal continuity Cj which is at least equal to required continuity Gi, and the geometrical continuity between at least two elementary curved surfaces across their common edge is less than the required continuity Gi.例文帳に追加

プロセスは、一連のパラメトリック基本曲面を提供するステップを備え、各パラメトリック基本曲面は、隣接エッジを結合する頂点を含むエッジを有し、所要の連続Ｇｉと少なくとも等しい内部連続Ｃｊを有し、共通エッジと交わる少なくとも２つのパラメトリック基本曲面間の幾何的連続は、所要の連続Ｇｉより少ない。 - 特許庁

In a process for growing a compound semiconductor crystal on the compound semiconductor wafer by using metal organic vapor phase epitaxy, in-plane temperature distribution is controlled so that the surface temperature of the periphery of the compound semiconductor wafer may be within a range of +15°C to +30°C with respect to the surface temperature of the center of the compound semiconductor wafer.例文帳に追加

化合物半導体ウェハの表面に、有機金属気相成長法を用いて化合物半導体結晶を成長させる方法において、上記化合物半導体ウェハの外周部の表面温度が、上記化合物半導体ウェハの中心部の表面温度の＋１５℃〜＋３０℃の範囲内となるように面内温度分布を制御する。 - 特許庁

Since the surface is hardened with the protection material in this process, the semiconductor wafer can be ground thinner without producing a warp and the surface can be used as attaching face for grinding without producing distortion at the protrusion part of semiconductor tips because the protection material protects all the semiconductor tips.例文帳に追加

これにより、半導体ウエーハを研削により薄型化しても、硬化した表面保護材料により、反りを発生させないで研削することができるとともに、表面保護材料が半導体チップの全体を保護するので、研削時にその表面を固定面としても、半導体チップの突起部分に歪を発生させないようにすることができる。 - 特許庁

In the display method for displaying a simulation result of an injection molding process, the maximum temperature out of temperature computed at each point existing within a predetermined range from an object point on the shaped surface of the molding is displayed as the temperature of the object point on the shaped surface of the molding.例文帳に追加

射出成形プロセスのシミュレーション結果を表示する表示方法であって、成形品の形状表面上の対象点から所定範囲内に存在するそれぞれの点において算出された温度のうち最大温度を前記成形品の形状表面上の対象点の温度として表示することを特徴とする表示方法を提供する。 - 特許庁

The potential on the surface of an image carrier that reaches a primary transfer part at the timing when discharged toner, which has been transferred from a second charging member to an intermediate transfer body, passes through the primary transfer part is smaller in the absolute value of the same polarity than the potential on the surface of an image carrier charged by a first charging member in a cleaning process.例文帳に追加

第二の帯電部材から前記中間転写体に転移された吐き出しトナーが一次転写部を通過するタイミングで一次転写部に到達する像担持体の表面の電位は、クリーニング工程において第一の帯電部材に帯電された像担持体の表面の電位よりも、同極性で絶対値が小さいことを特徴とする。 - 特許庁

The substrate processing device comprises a fixed station 8, a carrying means 10 provided on a side surface of the fixed station for carrying the substrate in the upright position, and processing means 17, 18, 19 for carrying out a predetermined process to the substrate carried in the upright position by the carrying means on the side surface of the fixed station.例文帳に追加

基板を処理する処理装置において、固定ステーション８と、この固定ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段１０と、上記固定ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段１７，１８，１９とを具備する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which achieves high removal performance while suppressing the wear of a surface moving member to be cleaned and a cleaning blade, and can more reliably maintain the contact state of the surface moving member and the cleaning blade, and to provide an image forming apparatus equipped with the cleaning device, a process cartridge, a recording material conveyance unit and an intermediate transfer unit.例文帳に追加

クリーニング対象である表面移動部材及びクリーニングブレードの摩耗を抑止しつつ高い除去性能が得られ、且つ、表面移動部材とクリーニングブレードとの当接状態を経時でより確実に維持できるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置、プロセスカートリッジ、記録材搬送ユニット、及び、中間転写ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for producing a cake with patterns comprises the following process: preparing media for projecting the patterns desired to be displayed on the cake; projecting the patterns on the surface of the cake via an optical means 30 using the prepared media; and drawing the patterns at the upper surface 33a of the cake 33 with edible material using an extruder according to the projected patterns 34.例文帳に追加

ケーキ上に表示することを希望する絵柄を投影するための媒介物を作成し、作成された媒介物を用いて光学的手段３０によりケーキ表面に前記絵柄を投影し、投影された絵柄３４に従って可食性材料を抽出用器具３８によりケーキ３３の上面３３ａに絵柄を描写する。 - 特許庁

To provide a holding device effective for uniformizing the temperature of the heating surface of a semiconductor wafer in a holding section, in addition to the prevention of discharges at a conductive terminal section and corrosion of the conductive terminal section by a process gas and the shortening of the device lifetime and in addition to being quickly changeable the temperature of the heating surface of the holding section.例文帳に追加

導通端子部での放電を防ぎ、かつ導通端子部がプロセスガスによって腐食し装置寿命が短くなることを防ぐのに加えて、半導体ウェハ保持部の加熱面の温度を迅速に変化させ得るのに加えて、保持部の半導体ウェハ加熱面の温度を均一化させる点で有効な保持装置を提供する。 - 特許庁

To provide a warehouse device capable of efficiently carrying out a depositing and delivery process of a specified article group at one time by most suitably arranging the article group in accordance with an environment of a warehouse, effectively making use of a flat surface of an existing warehouse and constructing a new warehouse favorable in use of a flat surface of the warehouse and an article control method.例文帳に追加

倉庫の環境に合わせて物品群を最適に配置して、一回で所定の物品群の搬入出処理を効率よく行うことができて、既存の倉庫の平面を有効に活用したり、倉庫の平面活用がよい新規倉庫を構築することができる倉庫装置および倉庫装置における物品管理方法を提供する。 - 特許庁

In manufacture, an unwanted portion on the STI film in the second polycrystalline silicon film for formation of the floating gate electrode and the unwanted portion on the source formation region are removed separately by the first mask covering the whole surface of the stripe-form active region and the second mask covering the whole surface of the drain formation region in place of being removed in one process.例文帳に追加

製造時には、フローティングゲート電極形成用の第２の多結晶シリコン膜におけるＳＴＩ膜上の不要部分及びソース形成領域上の不要部分を一度の工程で除去する代わりに、ストライプ形状の活性領域の全面を覆う第１のマスクと、ドレイン形成領域の全面を覆う第２のマスクとにより別々に除去する。 - 特許庁

A conductive substrate, of the electrophotographic photoreceptor having an under-coating layer consisting of an organic material and a photosensitive layer on the cylindrical conductive substrate consisting of an aluminum alloy, consists of a non-machined pipe and its substrate surface is roughened by dry blasting process to a surface roughness of 0.1 to 2.0 μm in Rmax.例文帳に追加

アルミニウム合金からなる円筒状の導電性基体上に有機材料からなる下引き層，感光層を備えてなる電子写真用感光体において、導電性基体が無切削管からなり、その基体表面が乾式ブラスト処理により表面粗さがＲ_max で０．１μｍないし２．０μｍに粗面化されている電子写真用感光体とする。 - 特許庁

This process has a semi-cured seamless belt forming stage for casting a polyimide resin stock solution to the inside surface of a rotating drum-shaped metal mold 2 and molding an endless semi-cured seamless belt B' material and a thermal molding stage for coating the outside surface of a ceramic cylinder 3 with the semi-cured seamless belt B' and thermally molding the belt.例文帳に追加

ポリイミド樹脂原液を回転するドラム状金型（２）の内面に流し込んで無端の半硬化シームレスベルト（Ｂ′）材料を成型する半硬化シームレスベルト成形工程と、前記半硬化シームレスベルト（Ｂ′）をセラミック製シリンダ（３）外面に被覆して加熱成形する加熱成形工程を備えたポリイミド樹脂製の無端ベルト製造方法。 - 特許庁

The two or more types of process chambers are used to deposit the one or more silicon-containing layers and the one or more metal-containing layers in the same substrate processing system without breaking the vacuum, taking the substrate out of the substrate processing system to prevent surface contamination, oxidation, etc., such that additional cleaning or surface treatment steps can be eliminated.例文帳に追加

２つ以上のタイプの処理チャンバは、真空を破ることなく、基板処理システムから基板を取り出して、同一の基板処理システムで１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を蒸着するために使用され、表面汚染、酸化などを防ぎ、別の洗浄や表面処理ステップを排除することができる。 - 特許庁

To provide a high pressure processor and a high pressure processing method which stably applies a cleaning process having a superior cleaning effect to the surface of a target object while a treating fluid of high pressure carbon dioxide or a mixture of carbon dioxide with chemicals are contacted to the surface of the work.例文帳に追加

高圧二酸化炭素あるいは高圧二酸化炭素と薬剤との混合物を処理流体として被処理体の表面に接触させて被処理体の表面に対して洗浄処理を施すに際して、優れた洗浄効果で、しかも安定して洗浄処理を行うことができる高圧処理装置および高圧処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor that achieves excellent durability as well as stable electric characteristics and formation of high-quality images for a long period of time by using a surface protective layer having high wear resistance and smooth surface property and hardly causing changes in the electric characteristics, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

耐摩耗性が高く、平滑な表面性を有し、電気特性の変動が殆どない表面保護層を用いることにより、優れた耐久性と共に、安定な電気特性及び高品質の画像形成を長期間にわたり実現できる電子写真感光体、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

In a manufacturing method of an electron source having plural surface conduction electron emission elements arranged on a substrate, conductivity forming is carried out for the plural surface conduction electron emission elements by dividing them in plural groups electrically opened, and electrical connections are made among respective groups after the conductivity forming process which is carried out for these respective groups.例文帳に追加

基体上に配置された複数の表面伝導型電子放出素子を有する電子源の製造方法において、複数の表面伝導型電子放出素子を、電気的に開放した複数群に分けて通電フォーミングを行い、これら各群に対して行われる通電フォーミング工程の後に、各群間を電気的に接続する。 - 特許庁

The inner structure of the syringe comprises special materials, especially glass, plastics, quartz and/or corundum, and the surface is reformed by an etching agent, e.g. acid or caustic alkali solution, especially the chromic acid mixture, uninterruptedly after removal of the etching agent and cleaning of the syringe, and the surface of the syringe inner structure is especially sterilized by a pressurized heating process according to circumstances.例文帳に追加

注射器の内部構造は特別な材料、特にガラス、プラスチック、石英および／またはコランダム、からなり、その表面は特にエッチング剤、例えば酸または苛性アルカリ溶液、特にクロム硫酸で改質され、引き続きエッチング剤の除去と注射器の洗浄後に場合によっては注射器内部構造の表面が、特に加圧熱処理によって、滅菌される。 - 特許庁