「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(138ページ目) - Weblio英語例文検索

In the production process, current block layers 17 and 18 are formed by epitaxial growth, following to formation of the ridge 1 excepting the upper surface of the ridge 1, the support layer 2 is formed by next epitaxial growth, and then the recess 2a is formed by etching.例文帳に追加

その作製工程は、リッジ１形成後の結晶成長によりリッジ１の上面以外に電流ブロック層１７、１８が積層され、次の結晶成長によりサポート層２が積層され、凹部２ａがエッチングにより形成される。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with high connection reliability and its manufacturing method, by forming a hardening body layer on the surface of the wall of a through hole before a pressing process, and by maintaining the shape of a via hole.例文帳に追加

プレス工程以前に貫通孔の壁面に硬化体層を形成し、ビアホールの形状を維持することによって接続信頼性の高いプリント配線基板及びその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The process is characterized by supplying the particle into the dispersion medium, and performing organic material decomposition treatment in which an oxidizing agent is supplied into the dispersion medium, and an organic material adhered to the surface of the particle is decomposed and removed in the dispersion medium.例文帳に追加

分散媒中に粒子を供給すると共に、分散媒中に酸化剤を供給して粒子の表面に付着した有機物を分散媒中で分解除去する有機物分解処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a coating film which does not significantly lose the intrinsic conductivity of the polyester film even in an in-line coating method carrying out coating in a process of producing a polyester film, has a low surface resistivity and combines transparency and economical efficiency.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの製造工程中で塗布を行う方法（インラインコーティング）においても、本来持つ導電性を大きく損なわず、表面固有抵抗率が低く、透明性、また経済性を兼ね備えた塗布フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a clad welding method capable of preventing occurrence of fusion defects while suppressing the dilution of weld metal with a comparatively simple process and covering the surface of a base material with the weld metal over a wide range.例文帳に追加

比較的簡易な手法にて、溶接金属の希釈を抑制しつつ、融合不良の発生を防止して、当該溶接金属で母材の表面を広範囲に亘って覆うことができるクラッド溶接方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a process liquid for a waterless planographic printing plate having a silicone rubber layer as an ink repelling layer, the liquid having excellent reproducibility of a high-definition image (minute dots) and hardly causing scratches on the surface of the silicone rubber layer.例文帳に追加

シリコーンゴム層をインキ反発層とする水なし平版印刷版の処理液として、高精細画像（微小網点）の再現性に優れ、シリコーンゴム層表面傷の発生しにくい水なし平版印刷版用処理液を提供すること。 - 特許庁

An image forming layer containing a photothermal conversion agent is formed on a metal support which is subjected to at least, an electrolytic surface roughening process and also is anodized at 10 A/dm2-60 A/dm2 average current density.例文帳に追加

少なくとも電解粗面化処理され、且つ平均電流密度１０Ａ／ｄｍ^^2〜６０Ａ／ｄｍ^2で陽極酸化処理された金属支持体上に、光熱変換剤を含有する画像形成層を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method which can form unevenness even on the surface of a membrane having a complex shape, does not need a cleaning process in the course of forming the unevenness, has no problem in drainage treatment, and can form the unevenness on the membrane without environmental pollution.例文帳に追加

入り込んだ複雑な形状をもつ皮膜の表面にも凹凸を形成することが出来、その形成する過程で洗浄工程を必要とせず、排液処理の問題もなく、無公害に皮膜に凹凸を形成する。 - 特許庁

The band-shaped projection 74 is formed to the height higher than the surface of the ITO film 83 in the display area 10b, so as to trap foreign substances generating during a rubbing process and to prevent foreign substances from entering other display area 10b.例文帳に追加

帯状の凸部７４は、表示領域１０ｂのＩＴＯ膜８３の表面より突出するように形成され、ラビング処理時に発生する異物をトラップすると共に、他の表示領域１０ｂへの異物の進入を防ぐ。 - 特許庁

The method for soil surface protection is provided, with which the development and growth of weeds are suppressing and a natural ground is maintained in a state of bare ground by omitting a process for sowing or planting the plant.例文帳に追加

また、上述の発明においてなされている、目的植物の播種あるいは植栽工程を除いたことにより、雑草の発生と生育を抑制し、自然地盤を裸地状態に維持する地表面保護方法を提供する。 - 特許庁

After a step of the CMP process of polishing the formed film on the semiconductor wafer by the polishing cloth, while the slurry containing polishing particles is supplied, a step of hydrophile-processing the surface of the polishing cloth is executed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、研磨粒子を含むスラリーを供給しながら研磨布により半導体ウェーハ上の成膜をポリッシングするＣＭＰ処理工程の後に、研磨布表面を親水性処理する工程を実施する。 - 特許庁

The recessed hole closing device is press-fitted in a recessed hole 5 in a boss 7 integrated with a resin product such as a radiator grille in the beginning of a plating process, and comprises a core 2 and a press-fit part 3 to cover its outer surface.例文帳に追加

本発明の凹穴閉塞装置１はラジエータグリル６等の樹脂製品に一体的に形成されるボス７の凹穴５内にメッキ工程の初期に圧入されるものであり、心材２とその外面を被覆する圧入部３からなる。 - 特許庁

To provide a plating process for applying a copper film, or the like, onto a semiconductor wafer, or the like, which well embeds a concave part on a substrate, improves the film-forming speed and inhibits void generation and surface roughness in the plated film.例文帳に追加

半導体ウェハ等に銅膜等をめっき処理するに際し、被処理体上の凹部の埋め込み性に優れ、成膜速度を向上でき、しかも、めっき膜中のボイド発生及び表面荒れを防止めっき方法を提供する。 - 特許庁

In an etching method of a silicon wafer, silicon wafers, having a process degenerated surface layer are sequentially impregnated with in an acid-etching solution having a chemical composition of a reaction rate limiting type including a hydrofluoric acid and a nitric acid fully stored in two to six etching tanks sequentially, and the wafers are etched.例文帳に追加

２〜６槽のエッチング槽に満たされたフッ酸及び硝酸を含む反応律速型の化学組成を有する酸エッチング液に加工変質層を有するシリコンウェーハを順次浸漬させてウェーハをエッチングする方法である。 - 特許庁

To provide a fabric for polishing used in a texturing process for magnetic recording disc etc. capable of managing well with a lower Ra value and suppressing generation of scratches at the surface processed while a sufficient processing rate, uniformity of texture marks, and sharpness are held.例文帳に追加

磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨用織物を提供する。 - 特許庁

To greatly improve head characteristics by highly flattening a slope, a side face, even a bottom surface or the like inside a groove, which is difficult by a wrapping process to form a metal magnetic thin film, in the manufacturing method of a bulk thin film type magnetic head.例文帳に追加

バルク薄膜型磁気ヘッドの製造法において、金属磁性薄膜を成膜されるラップ処理では困難であった溝の内側の斜面、側面、底面等まで高度に平坦化させ、ヘッド特性の大幅な向上を可能にする。 - 特許庁

Because of the simplicity of the manufacturing process by this method, manufacturing cost can be reduced and also excellent competitive power can be secured with respect to porosity, specific surface area, etc., as compared with that of the product manufactured by the conventional method.例文帳に追加

このような本発明の方法は、製造工程が簡単であるので、製造原価の低減のみならず、従来の方法によって製造された製品と比較して気孔率と比表面積等の面で優れた競争力を確保できる。 - 特許庁

As a central part of the work is polished thinner than an outer peripheral edge part by this polishing, the outer peripheral edge part is made to match thickness of the central part by polishing it at the time of a secondary polishing process by the polishing device of the both surfaces or the one single surface.例文帳に追加

この研磨によってワークの中央部は外周縁部より薄く研磨されるので、両面または片面の研磨装置による二次研磨工程の時に外周縁部を研磨して中央部の厚みに合わせるようにする。 - 特許庁

The conference support system supports process of a conference, which comprises a conference management server, an input board which comprises a board surface for inputting information by hand writing, and an image accumulating device, being connected each other through a network.例文帳に追加

会議管理サーバ、板面を有し、手書き情報を入力する入力ボード、画像蓄積装置がネットワークを介して相互に接続されて構成される、会議に関する処理の実行を支援するための会議支援システムである。 - 特許庁

CUTTING METHOD FOR PERIPHERAL SURFACE OF CYLINDRICAL MEMBER, MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR UNIT, MANUFACTURING METHOD FOR DEVELOPER CARRIER, MANUFACTURING METHOD FOR DEVELOPER CARRIER UNIT, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加

円筒状部材の周面の切削方法、電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体ユニットの製造方法、現像剤担持体の製造方法、現像剤担持体ユニットの製造方法、プロセスカートリッジ、および、電子写真装置 - 特許庁

To provide hot-rolling equipment and a hot-rolling method which are used in the hot-rolling stage of an iron and steel manufacturing process, especially, used for suppressing the rough surface and seizure of work rolls.例文帳に追加

鉄鋼製造プロセスにおける熱間圧延工程で使用される熱間圧延設備及び方法であって、特にワークロールの肌荒れや焼付きなどを抑制するための熱間圧延設備及び熱間圧延方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method for providing a material having high purity as a material to be used in the next process, by peeling off a surface layer provided on a glass substrate constituting a display in advance and recovering it.例文帳に追加

本発明は、表示装置をなすガラス基板上に設けた表面層を予め剥離して回収することで、簡易な方法で、高純度の材料を、次工程の材料として提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In a boundary area coating process, a rotary spray head type coater 31 is arranged to be inclined to the body 12 toward the boundary area, a B- colored coating material is sprayed toward the body 12 only with the centrifugal force to form a boundary coating film surface PB1.例文帳に追加

次に境界エリア塗装工程では回転霧化頭型塗装機３１をボディ１２に対し境界エリアに向けて傾けて配置し、Ｂ色塗料を遠心力だけでボディ１２に向け噴霧し境界塗膜面ＰＢ1 を形成する。 - 特許庁

To flatten a surface of one substrate of a pair of substrates between which a liquid crystal layer is held by a simple manufacturing process in an electro-optical device such as a liquid crystal device adopting an in-plane switching method such as an IPS driving method for instance.例文帳に追加

例えば、ＩＰＳ駆動方式等の横電界駆動方式を採用する液晶装置等の電気光学装置について、液晶層を挟持する一対の基板の一方の表面を簡便な製造プロセスで平坦化する。 - 特許庁

To provide a transfer sheet which can form a porous surface roughened layer, exhibiting superior adhesion between a metal film and an inorganic substrate of glass or ceramics, while preventing stripping of the metal film and which can be fired in the subsequent process.例文帳に追加

ガラスやセラミックス等の無機基板と金属膜との密着性に優れ、該金属膜の剥離を防止することができ、後工程の焼成をも可能とする多孔質性の表面粗化層を形成し得る転写シートを提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a liquid crystal display device which is capable of producing the liquid crystal display device having terminal electrodes formed of metal allowing the easy formation of an insulative oxidized film on the surface by inspecting the lighting thereof with high reliability.例文帳に追加

表面に絶縁性の酸化膜が形成されやすい金属で形成された端子電極を備える液晶表示装置を高い信頼性で点灯検査して製造できる、液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The aluminum foil is characterized in that an aluminum foil is used as a substrate, and an aluminum film is formed on at least part of its surface by an electrolytic process in which an electrolytic aluminum plating solution having a water content of 10-2,000 ppm is used.例文帳に追加

アルミニウム箔を基材として用い、その表面の少なくとも一部に、含水量が１０〜２０００ｐｐｍの電解アルミニウムめっき液を用いた電解法によってアルミニウム被膜が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

Since the land 2 is not pressed by the screw head 3a even if it is exposed to elevated temperature in a process for connecting the screw head 3a electrically with the land 2 by solder, lifting of the land 2 from the surface of the substrate 1 can be controlled.例文帳に追加

ネジ頭部３ａを半田にてランド２と電気的に接続する工程で高温化に曝されも、ネジ頭部３ａによってランド２が圧迫されることが無いので、ランド２が基板１の表面から浮き上がることが抑制できる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and its production process that control deformation of an end surface through-hole and peeling of a metallic film at an edge portion and allows favorable productivity by, e.g., doing drilling with two or more boards superimposed.例文帳に追加

端面スルーホールの変形やエッジ部の金属膜の剥がれが抑制され、例えば基板を複数枚重ね合わせた状態でドリル加工が行える等の生産性の良好な、プリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The equipment and method of depositing a film includes a function (process) of removing at least a part of a deposition film by allowing fine particles 107 to collide against a flexible substrate 101 with the deposition film on the surface while feeding out the substrate 101.例文帳に追加

表面に堆積膜が形成された可撓性基板１０１を繰り出しながら微粒子１０７を衝突させることによって堆積膜の少なくとも一部を除去する機能（工程）を有することを特徴とする。 - 特許庁

The electromagnetic-wave shield material manufacturing method has a metal film forming process for forming the metal film on the surface of the fine carbonized-rubber powder, by immersing the fine carbonized-rubber powder derived from the waste tires into an electroless plating solution.例文帳に追加

また、廃タイヤ由来のゴム炭化微粉末を無電界メッキ液に浸漬させて、前記ゴム炭化微粉末の表面に金属被膜を形成する金属皮膜形成工程を有する電磁波シールド材料の製造方法である。 - 特許庁

To provide a processing process of a wafer in which backside grinding and splitting along a street of the wafer can be carried out without reducing productivity, and adhesion of cut waste to the surface of a device can be prevented.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、ウエーハの裏面研削およびストリートに沿った分割を実施することができるとともに、切削屑のデバイスの表面への付着を防止することができるウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method for a silicon wafer which can suppress deterioration of surface roughness even when rapid thermal process (RTP) is performed under high temperature at which annihilation force of void defects is high, and can also suppress occurrence of a concave-shaped pit.例文帳に追加

ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To restrain thickening and gelling in the process in which glass dielectrics powder having specific surface area over 1.5m^2/g and basicity over PH8.5 is dispersed with binder resin, in manufacture of a dielectric paste for a plasma display.例文帳に追加

プラズマディスプレイ用誘電体ペーストを製造する際に、比表面積が１．５ｍ^2／ｇよりも大きく、ｐＨが８．５よりも高い塩基性を示すガラス誘電体粉をバインダ樹脂を用いて分散させる工程での増粘やゲル化を抑制する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in the profile of an isolated pattern and hardly producing contaminations on the resist pattern surface in the process of forming a pattern by irradiation of active rays or radiation, in particular, electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A caulked part 37 which keeps the inner ring 43 and pulser ring 60 fixed to the outer peripheral surface of the cylindrical shaft 35 by being plastically deformed so as to be enlarged radially outside by a caulking process is formed in one end of the cylindrical shaft 35.例文帳に追加

筒軸３５の一端部には、かしめ加工によって半径方向外側に拡開状に塑性変形されて内輪４３及びパルサーリング６０を筒軸３５の外周面に固定するかしめ部３７が形成されている。 - 特許庁

To provide a shadow mask in which defects due to dust generated by the peeling of a thin film accumulated on the surface in the process of vacuum deposition, sputtering or the like are prevented, and which can be stably used over a long period.例文帳に追加

真空蒸着やスパッタリングなどの過程においてシャドーマスクの表面に累積した薄膜の剥離によって生じる粉塵による欠陥を防止して、長期間安定して用いることができるシャドーマスクを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which has a surface layer having durability against mechanical external force and which maintains high picture quality without producing black spots for long-term use, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the above photoreceptor.例文帳に追加

機械的外力に対して耐久性を有する表面層を有し、耐久黒ポチが発生しない高品位の画質を保つ電子写真感光体を供給し、それを有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing process, a protective film is stuck to the surface in which the ejection port of the nozzle is formed (S3) before a nozzle is formed in a plate becoming the nozzle plate, and the nozzle is formed under a state where the protective film is stuck (S4).例文帳に追加

製造工程において、ノズルプレートになるプレートにノズルが形成される前に、ノズルの吐出口が形成される表面に保護フィルムが貼り合わされ（Ｓ３）、保護フィルムが貼り合わされたままノズルが形成される（Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a production process of a conductive resin molding equipped with conduction terminals, which can form conduction terminals of sufficient adhesion and conductivity on the surface of the conductive resin molding without spoiling appearance quality.例文帳に追加

外観品位を損なうことなく、導電性樹脂成形品の表面に、十分な密着性および導通性を備えた導通端子を形成可能な導通端子を備えた導電性樹脂成形品の製造方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a mixed mounting process using Pb-free solder capable of preventing soldering failures generated by Pb-free of solder, and maintaining high reliability of the connection strength with a surface mounting part.例文帳に追加

はんだのＰｂフリー化に伴い発生するはんだ付け欠陥を防止でき、しかも表面実装部品との接続強度の高信頼性を維持できるようにしたＰｂフリーはんだを用いた混載実装方法を提供することにある。 - 特許庁

A first α-Si film is formed on the surface of a quartz substrate 11 for patterning, and then a second α-Si film is formed over it, which is crystalized in a thermal process with Ni as a catalyst for form a CGS film 16.例文帳に追加

石英基板１１表面に第１のα−Ｓｉ膜を形成してパターニングした後、その上に第２のα−Ｓｉ膜を形成し、Ｎｉを触媒として熱処理によって結晶化して、ＣＧＳ膜１６を形成する。 - 特許庁

(B) This is the step of transporting a molding precursor to a second heating step (C), and a conveyance step 2 in which each of the surface temperature and the center temperature of the molding precursor in-process satisfies the particular relationship.例文帳に追加

（Ｂ）成形品前駆体を第二の加熱工程（Ｃ）に搬送する工程であって、かかる工程中における成形品前駆体の表面温度および中心温度のそれぞれが、特定の関係を満たす搬送工程２。 - 特許庁

To provide a vapor-phase content removing device, which when attached to a post stage of a CVD apparatus for forming a film on the surface of a semiconductor wafer, efficiently collects vapor-phase components of the process gas exhausted from the CVD apparatus.例文帳に追加

半導体ウェハの表面に成膜をなすＣＶＤ装置の後段に装着され、当該ＣＶＤ装置から排気される処理ガスの気相成分を効率よく補集することのできる気相成分除去装置を提供する。 - 特許庁

Since the PSG film and the BSG film are higher in etching rate than the surface and the rear insulating films of the front and the rear surfaces, the films of PSG and BSG can be removed by only wet etching without using a further photoetching process, and contact holes for electrodes can be formed.例文帳に追加

ＰＳＧ，ＢＳＧ膜は，表面，裏面絶縁膜よりエッチング速度が速いので，更なる写真エッチング工程を用いずに，湿式エッチングのみで，ＰＳＧ，ＢＳＧ膜部を除去でき，電極用の接触孔を形成できる。 - 特許庁