| 例文 |
surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9599件
To produce an oxygen-containing hydrocarbon reforming catalyst which contains copper and has excellent heat resistance and remarkably improved activity per unit surface area and to provide a process for producing hydrogen or a synthesis gas, and an excellent fuel cell system provided with a reformer having the excellent reforming catalyst and a fuel cell in which the hydrogen to be produced by the reformer is used as fuel.例文帳に追加
銅を含有し、かつ耐熱性に優れ、単位表面積当たりの活性が大きく向上した酸素含有炭化水素の改質触媒、及び水素又は合成ガスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus capable of quickly detecting a defective region on the entire surface of a body to be inspected and reflecting the detection result on processes after the inspection process, and to provide an inspection method.例文帳に追加
本発明は、被検査体全面において短時間で不良領域を検出でき、かつ検出結果を検査工程以降の工程に反映することのできる検査装置及び検査方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In a process (b), after forming a TiSi film 5 on the surfaces of the diffusion layer 3 and the gate electrode 4, an oxide film 6 is formed over the whole of the surfaces of the TiSi film 5 and the insulation film 2 to expose to the external the surface of the gate electrode 4 by polishing the oxide film 6.例文帳に追加
工程(b)で、拡散層3及びゲート電極4の表面にTiSi膜を形成し、該表面全体に酸化膜6を形成し、酸化膜6を研磨してゲート電極4の表面を露出させる。 - 特許庁
In the single-wafer processing apparatus, having an electrically insulative mount 3 for mounting a work w in a process chamber 2, the mount 3 has a conductive film 10 on the surface for relieving charged static electricity.例文帳に追加
処理容器2内に被処理体wを載置する電気絶縁性の載置台3を備えた枚葉式処理装置において、前記載置台3の表面に、帯電した静電気を逃がすための導電性被膜10を形成してなる。 - 特許庁
To provide a flexible intermediate member such as a belt (ITB) improved in the surface topology of a seal of a welded overlapping part while maintaining the strength of a joint, and a process for preparing the flexible belt.例文帳に追加
フレキシブルな中間転写部材、例えば、継ぎ目強度を維持しながらその溶接された重複部分のシールの改良された表面トポロジを有するベルト(ITB)など、およびフレキシブルベルトを調製するためのプロセスを提供する。 - 特許庁
By irradiating the plasma derived from a process gas which at least contains a gas having an oxygen atom on a surface of an insulating film set on the substrate for the electronic device, the base film is formed in an interface between the insulating film and the substrate for the electronic device.例文帳に追加
電子デバイス用基材上に配置された絶縁膜の表面に、少なくとも酸素原子含有ガスを含む処理ガスに基づくプラズマを照射して、該絶縁膜と電子デバイス用基材との界面に下地膜を形成する。 - 特許庁
During this cleaning process, the discharging fluid control lable of charging is supplied to the semiconductor wafer W and charges are removed from the front surface side of the semiconductor wafer W at the time of cleaning.例文帳に追加
この洗浄処理工程中において、帯電量が制御可能な帯電された除電用流体を半導体ウエハWに供給して、洗浄処理工程の際に半導体ウエハWの表面側に帯電する電荷を除去する。 - 特許庁
The polyester film for RFID tags includes an antistatic layer having surface electrical resistance of 1×10^13 Ω/square or less on at least one side of the film, wherein the antistatic layer is provided in a film manufacturing process.例文帳に追加
1×10^13Ω/□以下の表面抵抗を有する帯電防止層を少なくともフィルム片面に有し、当該帯電防止層がフィルム製造工程内で設けられたものであることを特徴とするRFIDタグ用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide a method for producing an inexpensive roller which has prescribed surface roughness and is reduced in thickness nonuniformity, a roller by the method, a development roller by the method, a development device having the development roller, and a process cartridge having the development device.例文帳に追加
所定の表面粗さを有し、厚みムラの少ないローコストなローラの製造方法、該製造方法によるローラおよび現像ローラ、該現像ローラを具備する現像装置、該現像装置を有するプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
The process for fabricating a semiconductor device further includes a step of removing the metal by polishing so that the upper surface of both the first gate 30 and second gate 31 is exposed and the metal is left in the first gate 30 and second gate 31 with different thickness.例文帳に追加
また、第1のゲート部30及び第2のゲート部31の上面が共に露出するようにメタルを研磨除去し、第1のゲート部30と第2のゲート部31で厚みの異なるメタルを残す工程を備えて構成される。 - 特許庁
In the third process, the cup 1 is led to the work 5 under guidance of the guide hole 45a of the guide bushing 45 with the aid of a first arbor 15, and part of the cup 1 is fitted in an inside surface groove 6 by the resilient force of the cup 1.例文帳に追加
第3工程において、第1アーバ15によりカップ1をガイドブッシュ45の案内穴45aにガイドさせてワーク5に導き、カップ1の有する弾性力によりカップ1の一部を内径溝6に嵌入させる。 - 特許庁
Since the protection film 3 can be formed on the reflecting film 2 directly without the aid of a formation process of the slit pattern after forming the reflecting film 2, the high-quality reflecting surface having few defects such as a dirt, a flaw or deterioration can be acquired.例文帳に追加
反射膜2の成膜後、スリットパターンの形成工程を経由しないで、直ちに、反射膜2上に保護膜3を成膜することができるため、汚れ、疵、劣化等の不具合が少ない良質の反射面を得ることが可能となる。 - 特許庁
To provide a gas flow cell allowing accurate consecutive high-sensitivity gas analysis without contamination of a surface of a mirror, an optical window or the like present in each of both ends of the gas flow cell caused by particles occurring inside a process chamber.例文帳に追加
プロセスチャンバーの内部で発生したパーティクルによって、ガスフローセルの両端にあるミラーや光学窓等の表面が汚染されることがなく、正確な高感度ガス分析を継続して行なうことが可能なガスフローセルを提供する。 - 特許庁
After prefiring, at least one surface of an oxide superconductive material, which is treated by compression molding process, is successively irradiated with laser by changing irradiation positions and after that, sintered.例文帳に追加
予備焼成後,加圧成形プロセスを経た酸化物超伝導材料の少なくとも一つの面に,レーザー光を,照射位置を変えながら,照射領域が連続するように照射し,その後,前記酸化物高温超伝導材料を本焼成する。 - 特許庁
To provide a method for efficiently manufacturing a resin-coated metal sheet wherein the surface of a metal sheet is coated with a polyolefin, by simplifying a process, and the resin-coated metal sheet manufactured thereby.例文帳に追加
工程の簡略化を図ることによって、金属板の表面をポリオレフィン被覆した樹脂被覆金属板を効率良く製造する方法およびその方法によって製造された樹脂被覆金属板を提供することにある。 - 特許庁
To provide a production process of a formaldehyde decomposition treatment agent which is capable of effectively decomposing gasified and released formaldehyde without causing any deterioration of an agent used for a building material or furniture, such as surface finishing agent.例文帳に追加
ガス化して放出されるホルムアルデヒドを効果的に分解せしめると共に、建材、家具類に用いられている表面仕上げ剤などの使用剤を劣化させることのない、ホルムアルデヒド分解処理剤の製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the surface modified inorganic fine particle includes a process of exposing a mixture containing the inorganic fine particle and the organometallic compound under a pressurized atmosphere in the contact of the inorganic fine particle with the organometallic compound.例文帳に追加
このような表面改質無機系微粒子の製造方法は、無機系微粒子に有機金属化合物を接触させる際に、無機系微粒子と有機金属化合物を含む混合物を加圧下雰囲気に曝す工程を含む。 - 特許庁
The surface of the silicon boat is etched in the etching process with the mixed liquid of nitric acid and hydrofluoric acid to remove a processing distortion layer containing metal impurities and metal impurities (not mixed with an organic matter) on the processing distortion layer.例文帳に追加
エッチング工程で硝酸及びフッ酸の混合液により、シリコンボートの表面をエッチングして、金属不純物を含有する加工歪層及び加工歪層上の金属不純物(有機物と混ざっていないもの)を除去する。 - 特許庁
When a developing process is conducted by exposing the overcoat material 20 via a photomask 21 (C), the overcoat material 20 is patterned into the pattern shape of photomask 21 and is left only at he center of the surface of the micro-lens 17 (D).例文帳に追加
フォトマスク21を介してオーバーコート材料20を露光し(C)、現像処理を行なうと、オーバーコート材料20は、フォトマスク21のパターン形状にパターニングされ、マイクロレンズ17の表面中央部のみにオーバーコート材料20が残る(D)。 - 特許庁
To effectively remove a BN thin piece attaching to a rear face of a semiconductor substrate when the semiconductor substrate is subjected to process treatment while holding the semiconductor substrate in a sample base whose outermost surface layer is pyrolytic boron nitride (PBN).例文帳に追加
熱分解窒化ホウ素(PBN)を最表面層とする試料台に半導体基板を保持して該半導体基板にプロセス処理を行ったときに、該半導体基板の裏面に付着したBN薄片を効果的に除去する。 - 特許庁
In the first wet oxidation process, wet oxidation at a treatment temperature of about 875°C is performed to an exposed surface of an epitaxial layer 1b through an aperture part 18a of a silicon nitride film 18, and a thin oxide film 6a is formed.例文帳に追加
第1のウエット酸化工程では、エピタキシャル層1bの露出面に対して、窒化シリコン膜18の開口部18aを通して約875℃の処理温度でのウエット酸化を施すことにより薄い酸化膜6aを形成する。 - 特許庁
To provide a composition which forms a cured coated film having both a very high water repellency of ≥150° and colorless transparency and also an excellent surface hardness, a molding having such characteristics and their manufacturing process.例文帳に追加
150度以上の超撥水性と無色透明性を兼ね備え、しかも表面硬度に優れる硬化塗膜の形成が可能な組成物、およびそのような特性を有する成形物、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Then, a film 50 made of a synthetic resin is formed over the entire surface of the ice-making substrate 14 in which the steam generating tube 22 is arranged in the coating process and each of a horizontal plate and a vertical plate in the partition board 16.例文帳に追加
次いでコーティング工程で蒸発管22が配設された製氷基板14と、仕切板16における横板および縦板との夫々について、その表面全体に亘って合成樹脂を材質とする被膜50を形成する。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing an epoxy resin that is greatly improved in curability and heat resistance, markedly less of the mold fouling and the fouling on a molded product surface compared with the conventional one, and has good color.例文帳に追加
硬化性や耐熱性が飛躍的に改善されるとともに、従来に比較して著しく金型汚れおよび成型品表面の汚れが少なく、かつ色相が良好であるエポキシ樹脂の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a drip sheet capable of increasing productivity by preventing the generation of static electricity in the manufacturing process while holding high water repellency of a porous resin film surface for reducing the remaining amount of a drip.例文帳に追加
ドリップの残量を少なくするために有孔樹脂フィルム表面の高い撥水性を保持しつつ、その製造工程における静電気の発生を抑制して生産性を高めることのできるドリップシートの製造方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing a product having an antifouling layer comprises a process to form an antifouling layer using a fluorine containing composition on a surface of an organic based reflection prevention layer which is a substrate layer of an antifouling layer.例文帳に追加
防汚層を有する製品の製造方法であって、防汚層の下地層である有機系反射防止層の表面に、フッ素含有組成物を用いて防汚層を形成する工程を有する製造方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, this method has a process of capturing a metal catalyst 30 to the functional group 21 of the other end of the silane coupling agent 20, and of covering the surface of the resin particles 10 with a metal plating membrane 40 by using the metal catalyst 30.例文帳に追加
この方法は更に、シランカップリング剤20の他端の官能基21に金属触媒30を捕捉させ、金属触媒30を用いて樹脂粒子10の表面を金属めっき膜40で被覆する工程を有する。 - 特許庁
To provide a pretreating method for metal analysis and its device capable of preventing recontamination such as re-oxidation of the surface of a sample in a sputtering process, and thus providing a correct analyzed value always even when the sputtering is repeated.例文帳に追加
スパッタリングの過程で生ずる再酸化などの試料表面の再汚染を防止し、それによりスパッタリングを繰り返しても常に正しい分析値を与えることのできる金属分析の予備処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
A thermosensitive coating material produced by a multilayer simultaneous coating process, is characterized in that the average diameter of moisture evaporation pores of its outermost coating surface the moisture evaporation pores is 1.5 μm or less.例文帳に追加
多層同時塗布法により製造される感熱塗膜材料であって、その最上層塗膜表面の水分蒸発孔の平均直径が1.5μm以下であることを特徴とする塗膜材料であることを特徴とする。 - 特許庁
The above process is carried out in a magnetic field having a magnetic flux density distribution, ruggednesses are provided on a catalyst ink surface by magnetic power, by which, adhesion stability of the electrode catalyst layer 1 and a polymer electrode membrane is improved.例文帳に追加
上記工程を磁束密度分布のある磁場内で行い、磁気力によって触媒インク表面に凹凸形状を設け、該凹凸形状により、電極触媒層1と高分子電解質膜との密着安定性向上を図る。 - 特許庁
To improve processing accuracy, to reduce processing time and to suppress the diffusion of solvent components inside and outside an apparatus by efficiently sticking solvent vapor to the surface of a resist pattern without using an ultraviolet irradiation process.例文帳に追加
紫外線照射処理を行わずに、レジストパターンの表面に溶剤蒸気を効率よく付着させて、処理精度の向上を図ると共に、処理時間の短縮を図り、かつ、溶剤成分の装置内外への拡散を抑制すること。 - 特許庁
Therefore, when the surface treatment of the support 1 is used, the glass-filler reinforced plastic substrate 3 in which the element is manufactured without introducing an additional process including use of solvent and laser or the like is easily separated from the support 1.例文帳に追加
このように、支持体1の表面処理を用いると、素子が溶媒及びレーザー使用などを含む追加工程の導入無しに製作されたガラスフィラー強化プラスチック基板3を支持体1から容易に分離することができる。 - 特許庁
A manufacturing method for the glass blank for press forming includes a deposition process of supplying a hydrocarbon to a reactor in which the glass blank is housed and pyrolyzing the supplied hydrocarbon to deposit a carbon-based film on the surface of the glass blank.例文帳に追加
ガラス素材を収容した反応器に炭化水素を供給し、供給した炭化水素を熱分解させて炭素系膜をガラス素材表面に形成する成膜工程を含む、プレス成形用ガラス素材の製造方法。 - 特許庁
To make it possible to manage the dimensions of magneto-resistive elements(MR elements) in accordance with the shapes or sizes of patterns for process monitor appearing on a polished surface when more precisely obtaining the dimensions of the MR element by polishing.例文帳に追加
研磨加工によって磁気抵抗効果素子(MR素子)の寸法を追い込む際に、研磨面に表われる加工モニタ用パターンの形状または寸法に基づいて磁気抵抗効果素子(MR素子)の寸法を管理できるようする。 - 特許庁
The process unit 1 is a vacuum device such as a vapor deposition device, a molecular beam epitaxial device, or an ion beam spatter device, or a film growing device, a surface treatment device or the like such as an organic metal vapor phase growing device, a liquid phase epitaxial device or the like.例文帳に追加
プロセス装置1は、蒸着装置、分子ビームエピタキシャル装置、イオンビームスパッタ装置等の真空装置や、有機金属気相成長装置、液相エピタキシャル装置等の薄膜成長装置、表面加工装置等である。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, where a layer is improved in uniformity through its surface so as to be enhanced in performance and reliability when the layer in a disused region is polished in a process where a CMP(chemical mechanical polishing) method is used.例文帳に追加
CMP法を使用して、不要な領域の層を研磨する工程を有する場合、面内均一性が向上できて、層の高性能化および高信頼度化ができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the heat treatment process of the molded product made of the synthetic resin, a thin film due to a plasma CVD method is formed to the outer peripheral surface of the core member inserted in the molded product when used so as to be capable of being pulled out of the molded product.例文帳に追加
合成樹脂製成形品の熱処理工程において、前記成形品内に抜き出し可能に挿入して使用するコア部材において、外周面にプラズマCVD法による薄膜を形成した構成とする。 - 特許庁
In the boring process, a hole 29 is bored from the bottom surface 14a of the cylinder head 14 to the tip of the protruding part 28, with the hole being biased with respect to the axis L1 of the protruding part 28 in the direction A of deviation of cooling water.例文帳に追加
穴あけ工程では、突起部28の中心軸L1に対して冷却水の偏向方向Aへ偏心させた状態で、シリンダヘッド14の底面14aから突起部28の先端に向けて穴29をあける。 - 特許庁
To provide a bag formed of a thermoplastic synthetic resin sheet having a handle which is less easily damaged at a heat-bonded portion of inner and outer surfaces of a double-surface part and in the vicinity thereof without changing a material, or without complicating any manufacturing process.例文帳に追加
素材を替えることなくかつ製造工程を複雑化することもなく二重面部の内外両面部の熱融着部及びその近傍が破損し難い提げ手付き熱可塑性合成樹脂薄材製袋を提供する。 - 特許庁
To solve the problem of a conventional construction method with an externally watertightness and heat insulation that an extra working process in needed resulting in high cost and long period of construction work because construction work for rendering watertight the outer surface of a circumferential wall and for thermally insulating is carried out after formation of the peripheral wall.例文帳に追加
従来の外防水、外断熱型枠工法は、周壁を形成した後、その周壁の外面に防水、断熱工事を行っていたので、この作業工程が余分にかかり、工費が高くつくと共に、工期も長引く。 - 特許庁
The high-temperature flexible cable 1 comprises a terminal part 3 at the both ends of the flexible conductor part 2 formed by a braided wire, and the braided wire is formed of stainless-clad Cu wire that is made by cladding process of stainless steel on the surface of a copper wire.例文帳に追加
高温用フレキシブルケーブル1は、編組線にて形成された可撓性導体部2の両端に端子部3を有し、編組線は、銅線の表面にステンレス鋼のクラッド加工を施したステンレスクラッドCu線で形成される。 - 特許庁
To provide a coating material having a surface hardly scratched in a molded article having low scratch resistance after coating and uses a water-containing solvent as a diluent solvent for the purpose of reducing the amount of an organic solvent to be used during the coating process.例文帳に追加
耐擦傷性の低い成型品において、被覆後に傷が付きにくい表面を発現し、かつ塗装時に使用する有機溶剤量を低減するために含水溶剤を希釈溶剤として用いた被覆塗料の提供。 - 特許庁
To provide a simple method for producing an ALC(autoclaved lightweight concrete) capable of suppressing occurrence of voids in a foaming process, having no voids on the surface and excellent appearance and few voids in the interior, preventing cracks, etc., in use for years.例文帳に追加
発泡過程での空洞の発生を抑制して、表面に空洞がなく外観的に優れると共に、内部の空洞も少なくして経年使用でのヒビ割れなどを防止できる、簡単なALCパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a light emitting substrate capable of forming a layer containing a nano particule iron silicide on a surface region in a simple manufacturing process and a light emitting element manufactured by using this method.例文帳に追加
簡易な作製工程で、表面領域にナノ粒子状鉄シリサイドを含有する層を形成することを可能とする発光基板の作製方法、および、その作製方法を用いて作製した発光素子を提供すること。 - 特許庁
To fully cope with the lifetime prolongation of an image forming apparatus and processing cartridge, accompanying speedup (process speed up), by preventing the occurrence of image defects caused by exfoliation discharge, between an image carrier surface and a rear end of a transfer material.例文帳に追加
像担持体表面と転写材後端部の剥離放電によって引き起こされる画像不良を防止して、高速化(プロセススピードup)に伴う、画像形成装置やプロセスカートリッジの長寿命化に十分対応させる。 - 特許庁
The cutting process cuts a central part in the front rotary shaft direction of the mold 40 in the cutting direction by a grinding wheel 44 for forming the contact surface parts 4a and 4a between the front both edge parts 4C and 4C.例文帳に追加
切削工程では、正面の両縁部4C、4Cとの間に接触面部4a、4aを形成すべく、成型体40の正面の回転軸方向における中央部を、砥石44により切削方向に沿って切削する。 - 特許庁
To provide a process for production of absorptive articles which is capable of easily and simply producing the absorptive article provided with three-dimensional guards respectively on both right and left sides on a front surface sheet side and the front and rear thereof.例文帳に追加
表面シート側の左右両側と前後の少なくとも何れか一方とに、それぞれ立体ガードが設けられた吸収性物品を、簡易且つ簡便に製造できる吸収性物品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To process the deformation of the free curved surface shape of an article in a much shorter time in the case of generating the new design data of the article by operating shape deformation processing to the existing article shape.例文帳に追加
既存の物品形状に対して形状変形処理を施すことによって物品の新たな設計データを生成する際に、物品の自由曲面形状での変形を、より短時間で処理することが可能とすることである。 - 特許庁
To provide a crosslinked polyolefinic resin foam excellent in heat resistance and expansion, not suffering cuts in the sheet or pock marks in the surface in the vacuum forming process, and suitable for use as automobile interior materials.例文帳に追加
耐熱性、展開性に優れ、真空成形等の加工時に、シート切れや表皮材表面におけるアバタ状凹凸の発生がない、自動車用内装材として好適に使用出来る架橋ポリオレフィン系樹脂発泡体を提供する。 - 特許庁
Subsequently, a process of fixing the semiconductor laser chip 13 onto the substrate 11 via the conductive bonding layer 12 is effected so that the end face 11a with the covering layer 21, provided thereon and the light outgoing end face 13a, become substantially the same surface.例文帳に追加
次に、被覆層21が設けられた端面11aと光出射端面13aとが略同一面となるように、基体11上に導電性接着層12を介して半導体レーザチップ13を固定する工程を行う。 - 特許庁
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