「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(134ページ目) - Weblio英語例文検索

A blank material 10a is formed by punching a rust-preventive steel sheet to whose surface the corrosion-resistant plating is applied and provided with a rectangular part 11a to be heated and an unheated part 12a continuing with the rectangular part 11a to be heated (a blanking process).例文帳に追加

表面に耐食メッキが施された防錆鋼板を打ち抜いて、矩形状の加熱予定部１１ａおよびその加熱予定部１１ａに連続する非加熱部１２ａを有してなるブランク材１０ａを得る（ブランキング工程）。 - 特許庁

To provide a substrate laminate produced by stacking and integrating a thin glass substrate and a support substrate, the laminate facilitating the separation process of the thin glass substrate from the support substrate and preventing contamination on the surface of the thin glass substrate upon separation.例文帳に追加

薄肉ガラス基板と支持基板とを積層して一体化した基板積層体において、薄肉ガラス基板と支持基板との分離作業を容易にするとともに、分離の際に薄肉ガラス基板の表面に汚れが生じないようにする。 - 特許庁

When a band-like copper clad laminated board 30B is obtained by joining the plate-like copper clad laminated boards 30A with each other and carried by a roller to process the board 30B, the board 30B can be carried without contacting with the product surface and processed.例文帳に追加

板状の銅張り積層板３０Ａを接合することで帯状の銅張り積層板３０Ｂを得て加工を加えるため、ローラで搬送することで、製品面に接触することなく搬送し、加工を行うことができる。 - 特許庁

If the cartridge drawer is, further, pushed in the arrow A2 direction, the tapered surface 46 of the process cartridge 41 slides to the insertion part 16A side in the drum shaft 16, and the shaft insertion side part 44 is pushed up in the direction of arrow B1.例文帳に追加

カートリッジ引出を矢印Ａ２方向にさらに押し込むと、ドラム軸１６における挿入部１６Ａの面に対してプロセスカートリッジ４１のテーパ面４６が滑って、軸挿入側部４４が矢印Ｂ１方向に押し上げられる。 - 特許庁

By allowing the mold to adjust its surface temperature, the thermal stress generating between the thermally fused material and the mold can be eliminated and balanced, thereby preventing the thermally fused material from damage due to holding force during the demolding process.例文帳に追加

金型の表面温度を調節することにより、熱溶融材料と金型の間に生じる熱応力を解消し、バランスをとることができ、離型工程中に熱溶融材料を保持力によるダメージから守る。 - 特許庁

The seamless flexible endless member is formed by electric- casting, and at a process of forming an organic photoreceptive layer on the surface of the endless flexible member as a substrate, both end parts of the substrate are cut plural times so as to obtain the photoreceptor of a prescribed width.例文帳に追加

電気鋳造処理を施して継ぎ目なし可撓性無端状部材を形成し、これを基体として表面に有機感光層を形成する過程で、基体の両端部を複数回切断し、感光体幅を形成する方法。 - 特許庁

To provide a process for producing a molded pulp product enabling the molding of a vessel having complicate form independent of draft angle, etc., and the addition of various beautiful design having excellent surface smoothness.例文帳に追加

抜き勾配等に拘わらず複雑な形状の容器を成形することができると共に、表面平滑性に優れた外観上美しい種々のデザインを付加することのできるパルプモールド成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the reflection light detection type defect detection process, the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with light, reflection light reflected by the electrophotographic photoreceptor is received by a light receiving means and the defective part of the electrophotographic photoreceptor is detected.例文帳に追加

反射光検出式欠陥検出工程は、電子写真感光体の表面に光を照射し、電子写真感光体で反射される反射光を受光手段で受光して電子写真感光体の欠陥部を検出する。 - 特許庁

In this treatment process, the temperature leveling of the second optical element is performed under the same condition as the first optical element 15 and the optical surface shape of the second optical element is measured under the same condition as the first optical element in the same way to evaluate the degree of the shape error of the second optical element.例文帳に追加

この処理工程では第１の光学素子１５と同一条件で調湿したのち同じく第１の光学素子と同一条件で光学面形状を測定して形状誤差の程度を評価する。 - 特許庁

To provide a method by which a finish-polishing in a producing process of a die for forming of a plastic etc., and a tool for cold working of a working tool etc., is easily performed, that is, high mirror-finishing of the surface can be performed with high accuracy by polishing for a short time.例文帳に追加

プラスチック等の成形用金型、工具等の冷間工具の製造工程における仕上げ研磨が容易、すなわち短時間の研磨で表面を高精度および高鏡面化ができる方法を提供すること。 - 特許庁

In the charging process, the rubber composition has a surface temperature Ts of ≥30°C and ≤70°C and a central temperature of ≥50°C and ≤90°C, and the difference therebetween (Tc-Ts) is ≥20°C and ≤40°C.例文帳に追加

上記投入工程における、上記ゴム組成物の表面温度Ｔｓが３０℃以上７０℃以下であり、上記ゴム組成物の中心部温度Ｔｃが５０℃以上９０℃以下であり、差（Ｔｃ−Ｔｓ）が２０℃以上４０℃以下である。 - 特許庁

The gasket 3 is manufactured by arranging a resin film manufactured by skiving process and the gasket main body material in a mold to heat and press them to apply the resin film to the outer peripheral surface of the gasket main body 5.例文帳に追加

ガスケット３は、スカイビング加工により製造された樹脂フィルム６とガスケット本体材料とを成形型内に設置し、加熱・加圧して、ガスケット本体５の外周面に樹脂フィルム６を被着させることにより製造される。 - 特許庁

To solve a problem that the finished surface of a product is made rough and the value of a merchandise is greatly reduced when a powder sintered laminating resin pattern composed of the powdery resin manufactured in a sintered laminating molding process is applied to a lost wax precision casting.例文帳に追加

焼結積層造型工法において製作された粉末樹脂からなる粉末焼結積層樹脂模型をロストワックス精密鋳造に適応させると、鋳造品の仕上がり表面が粗く商品価値が大きく減衰する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk by which product yield can be enhanced by reducing a contamination amount caused by a buffer agent contained in polishing slurry used in a final principal surface polishing process.例文帳に追加

最終の主表面研磨工程で使用される研磨用スラリーに含まれる緩衝剤に起因するコンタミ量を低減させて製品歩留まりを向上させることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a substrate cleaning process, clean air the relative humidity and temperature of which are controlled is supplied vertically downward toward the surface of the cleaning solution in the cleaning tank, and air in the draft is discharged in a displacement within a prescribed range.例文帳に追加

基板洗浄装工程では、相対湿度・温度を制御したクリーンエアーを、洗浄槽の洗浄液液面に向けて鉛直方向下向きに供給するとともに、洗浄ドラフト内の空気を所定範囲内の排気量で排気する。 - 特許庁

A binder metal quantity is increased toward the inside from the edge tip of the die cutter and the surface of the anvil roll where abrasion resistance is required, thereby it is effective in mitigating the residual thermal stress occurring in the sintering/cooling process.例文帳に追加

耐摩耗性が要求されるダイカッターの刃先先端やアンビルロール表面から内側に向かってバインダー金属量を多くすることによって、焼結冷却過程で発生する残留熱応力を緩和する効果がある。 - 特許庁

In this process, in the embodiment, by controlling the film thickness of the thin organic film 104, the number of layers of the graphene in the thin carbon film 104 growing on the surface of the metal layer 103 described later is controlled.例文帳に追加

この工程において、本実施の形態では、有機薄膜１０４の膜厚を制御することで、後述する金属層１０３の表面に成長する炭素薄膜１０４におけるグラフェンの層数を制御するところに特徴がある。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a flaw and density unevenness in a formed image for a long period by regulating the surface properties of an electrophotographic photoreceptor of an image forming apparatus using an electrostatic charging process of a contactless type.例文帳に追加

非接触式の帯電プロセスを用いる画像形成装置において、電子写真感光体の表面物性を規定することによって、形成される画像にきずおよび濃度むらを長期間にわたって生じることのないようにする。 - 特許庁

To provide a plasma processing device that makes the unevenness of electric field distribution on a surface of an electrode small so that etching rate distribution is uniform in a plasma process using a high density plasma that can correspond to further fining.例文帳に追加

より微細化に対応可能な高密度プラズマを用いたプラズマ処理において、電極表面における電界分布の不均一を小さくすることが可能であり、エッチングレート分布が均一なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

In a process for manufacturing the cylinder sleeve by the centrifugal casting method, compressed air is injected from an injection pipe 186 toward a surface thermometer 154, at least, before spraying cooling water to a cylindrical mold 88.例文帳に追加

シリンダスリーブを遠心鋳造法にて作製する過程において、少なくとも、円筒状金型８８に対して冷却水を噴霧する前に、噴出管１８６から表面温度計１５４に指向して圧縮空気を噴出する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rare-earth magnet includes a process of forming the protective layer on the surface of an elemental magnet body containing a rare-earth element by irradiating an electromagnetic wave upon the body in an oxidizing atmosphere.例文帳に追加

本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含有する磁石素体に、酸化性雰囲気下で電磁波を照射することにより、磁石素体の表面に保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

To provide an optical element that achieves an antireflection property excellent in a wavelength band characteristic and an incident angle characteristic, and that suppress generation of tarnish, cloud or the like on its surface, in the optical element formed by a press molding process.例文帳に追加

プレス成形によって形成された光学素子において、表面にヤケやクモリなどの発生を抑え、かつ、波長帯域特性・入射角度特性にも優れた反射防止性能を実現した光学素子を提供する。 - 特許庁

Firstly, a molding pattern corresponding to the lens pattern of a lenticular lens sheet (a pattern arranging a plurality of semispherical lenses in a lattice) is processed at the process 101 by working the roll surface of a tubular mold roll base material as a production object.例文帳に追加

まず、製造対象となる筒状の金型ロール基材のロール面を加工してレンチキュラーレンズシートのレンズパターン（複数の半球状レンズが格子状に配置されたパターン）に対応する成型パターンを製版する（工程１０１）。 - 特許庁

To improve process quality and yield by suppressing heat radiation from a furnace port in the processing furnace, and improving uniformity of temperature distribution within the substrate surface simultaneously with increase of uniform temperature length in the processing chamber in the substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、処理炉に於ける炉口部からの放熱を抑制し、処理室の均熱長を増大させると共に基板面内の温度分布の均一性を向上して、処理品質、歩留りの向上を図る。 - 特許庁

Further, the method may include a flattening process for removing the step bunching 3 generated on the surface of the SiC epitaxial film 2 by CMP (chemomechanical polishing), gas etching in a hydrogen atmosphere, or the like, for producing a device.例文帳に追加

また、デバイスを作製するために、このＳｉＣエピタキシャル膜２の表面に発生させたステップバンチング３をＣＭＰ（化学的機械研磨）あるいは水素雰囲気中でのガスエッチング等により除去する平坦化工程を追加しても良い。 - 特許庁

The silicon nitride films 27 are formed by being deposited on an upper surface of a conductive film to be formed into the upper driving electrodes 23 and the upper capacitance electrode 25 in a continuous process by a CVD method, and, thereafter, by being patterned by a RIE method.例文帳に追加

シリコン窒化膜２７は、上部駆動電極２３及び上部容量電極２５となる導電膜の上面に、連続した工程としてＣＶＤ法により堆積され、その後、ＲＩＥ法でパターニングして形成されたものである。 - 特許庁

A digital image detecting apparatus 9 is arranged in the handset and an instructing apparatus 7 is provided for outputting at least one separate image/process/control information on its front surface and is connected to the digital image detecting apparatus.例文帳に追加

ハンドセットにデジタル画像検出装置９が配属されており、前面に少なくとも１つの別の画像／処理／制御情報の出力のための指示装置７が設けられておりかつデジタル画像検出装置に接続されている。 - 特許庁

The manufacturing process for the semiconductor has applying, after forming a resist pattern on an underlaying layer, the thickening material to the surface of the resist pattern to be thickened, and patterning the underlying layer by etching, the pattern as a mask.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a tire steel cord coating compound capable of certainly peeling extruded rubber from a roll surface, keeping calendar speed at high level, and improving productivity, without delaying the calendar speed, and without adding process oil.例文帳に追加

カレンダー速度を遅くしなくても、また、プロセスオイルを添加しなくても、はみ出しゴムがロール表面から確実に剥離でき、カレンダー速度を高いレベルに保ち、生産性を向上することができるタイヤスチールコード被覆用配合ゴムを提供する。 - 特許庁

Before a process for adhering the organic EL element base material 10 and the sealing base material 70, surface cleaning treatment including at least UV ozone treatment and plasma treatment is applied to the organic EL element base material 10.例文帳に追加

有機ＥＬ素子基材１０と封止基材７０とを貼りあわせる工程の前に、有機ＥＬ素子基材１０に対して、少なくともＵＶオゾン処理、プラズマ処理からなる表面洗浄処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁

In the upper bead part mounting process, the expansion roller is turned around the rotation centerline of the wheel from the side opposite to the fitting position toward the fitting position, to fit the upper bead part to the rim outer surface by the expansion roller.例文帳に追加

上ビード部取付け工程において、拡張ローラを装着位置と反対側からその装着位置に向かってホイールの回転中心線まわりに旋回させ、拡張ローラにより上ビード部をリム外周面にはめ込む。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip surface mounting method which requires no packaging material for intermediate stage movement of the semiconductor chips, and simplifies the processes without additional underfill process required, to reduce the separation between components.例文帳に追加

半導体チップの中間段階移動のための包装材が必要なく、追加的なアンダーフィル工程がないので工程を単純化して部品間の隔離距離を減らすことができる半導体チップ表面実装方法を提供する。 - 特許庁

To produce a thermoplastic resin extrusion molded object excellent in surface properties and physical properties efficiently by one process, and to provide a compsn. for the thermoplastic resin extrusion molded object developing the capacity of the molded object.例文帳に追加

表面性状やそれ自体の物性が優れた熱可塑性樹脂押出成形体を１工程で効率的に得ることができる製造方法と、その性能を発現する熱可塑性樹脂押出成形体の組成を提供することである。 - 特許庁

This electrode is prepared by coating the surface of a titanium electrode base with an Mn (IV)-containing compound oxide of Mn-Mo-Fe, Mn-W- Fe, or Mn-Mo-W-Fe by deposition by an anode deposition process.例文帳に追加

チタン製の電極基体の表面に、４価のＭｎを含有する、Ｍｎ−Ｍｏ−Ｆｅ、Ｍｎ−Ｗ−ＦｅまたはＭｎ−Ｍｏ−Ｗ-Ｆｅの複合酸化物を、陽極析出法により析出させて基体を被覆した電極。 - 特許庁

To provide a process capable of producing a liquid crystal display device having terminal electrodes formed of metal allowing the easy formation of insulative oxidized films on the surface by inspecting the lighting thereof with high reliability.例文帳に追加

表面に絶縁性の酸化膜が形成されやすい金属で形成された端子電極を備える液晶表示装置を高い信頼性で点灯検査して製造できる、液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

On one main surface of a transfer source substrate 50, the ceramic dielectric layer 5 made of the high-dielectric constant ceramic, and a conductive layer 4B are formed in this order for manufacturing a first laminate 60 (a first laminate manufacturing process).例文帳に追加

転写元基板５０の一方の主表面上に、高誘電率セラミックからなるセラミック誘電体層５と導体層４Ｂとをこの順序で形成して第一積層体６０を製造する（第一積層体製造工程）。 - 特許庁

The index detecting body 54 has an independent plate material 56 and an index phosphor pattern 58 formed/stuck on a surface of the plate material, and is mounted on the mask frame in the vacuum enclosure in the final stage of the cathode-ray tube manufacturing process.例文帳に追加

インデックス検出体は、独立した板材５６と、板材の表面に被着形成されたインデックス蛍光体パターン５８と、を有し、陰極線管の製造工程の終盤において、真空外囲器内のマスクフレームに取付けられる。 - 特許庁

To provide a slurry composition which can improve polishing rate, prevent surface polishing flaw and make working environment for polishing process better, and an abrasive grain dispersion medium for the preparation of the slurry composition.例文帳に追加

研磨速度を向上させることができると共に、表面研磨傷を防止することができ、かつ、研磨加工の作業環境を良好にできる、スラリー組成物、および、該スラリー組成物を製造するための砥粒分散媒を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the multilayer wiring substrate, a plurality of double-sided copper-clad laminates 48, where metal foil is bonded onto the main surface of an insulating board including a resin material, are prepared in a preparation process.例文帳に追加

この多層配線基板の製造方法において、準備工程では、樹脂材料を含んで構成された絶縁基板の主面上に金属箔を貼着してなる複数の両面銅張積層板４８が準備される。 - 特許庁

To provide a corner cutting edge replacement type tip and a milling cutter improved in machining accuracy on a side surface by reducing a stage difference in a connection part in a Z-axial direction of side surfaces formed in a workpiece in a stage machining process.例文帳に追加

隅削り用の刃先交換式チップとミーリングカッタを、段加工でワークに形成される側面のＺ軸方向のつなぎ部での段差が小さくなって側面の加工精度が高まるように改善することを課題としている。 - 特許庁

To provide a seal ring which eliminates the finish turning of an inner and an outer diameter surface by preventing a shape change and dimension change in a heating (burning) process or the like when a PTFE seal ring is manufactured, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ＰＴＦＥ製のシールリングを製造する際に、加熱（焼成）工程などで形状変化や寸法変化がないようにし、内外径面の仕上げ旋削加工を不要とするシールリングとし、またはその製造方法とすることである。 - 特許庁

To provide a surface mounted electronic component in which highly accurate resistance characteristics can be attained stably while minimizing residual stress due to coating with an insulating film and damage in machining process, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

抵抗値特性が安定して高精度化を図ることができると共に、絶縁膜コートによる残留応力と加工プロセスでのダメージとを抑制可能な表面実装型電子部品およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To allow a mask which is once used to be re-used in a film forming process without cleaning the mask, in a method for manufacturing a film-formed product with an aluminum film formed on a surface of a lead frame by using the mask having an aperture.例文帳に追加

開口部を有するマスクを用いて、リードフレームの表面にアルミニウム膜を成膜してなる成膜品の製造方法において、一度使用したマスクを掃除することなく成膜工程に再度使用できるようにする。 - 特許庁

To provide a toner and a toner housing container using the toner that develops a lustering effect while suppressing surface damages on a photoreceptor or the like in contact with the toner, and to provide a developer and a process cartridge using the developer, and an image forming apparatus.例文帳に追加

トナーが接触する感光体等の表面損傷を抑制しつつ、光輝効果を発現するトナー及びそれを用いたトナー収容容器、現像剤及びそれを用いたプロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A secondary chemical mechanical polishing process is performed on an oxide layer 18b remaining on a nitride layer 14 until the surface of the nitride layer 14 is exposed, so that the oxide layer is embedded only in a trench region 16.例文帳に追加

窒化物層１４の表面が露出されるまで、窒化物層１４上に残留する酸化物層１８ｂに対して２次化学的機械研磨工程を遂行し、トレンチ領域１６内にだけ酸化物層が埋められるようにする。 - 特許庁