「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(131ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which the mounting position of a semiconductor wafer is not shifted when the semiconductor wafer divided into a plurality of semiconductor devices is stuck to an adhesive surface, and the adhesive surface is stiffened by irradiating a UV-RELEASE sheet under extended state with light of UV wavelength.例文帳に追加

複数の半導体装置に分割された半導体ウェハが粘着面に粘着され、かつ拡張された状態のＵＶ剥離型シートに対して、ＵＶ波長の光を照射して、粘着面を硬化させたときに、半導体ウェハの搭載位置がずれない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

During the process of development in which a cloud is formed while toner held on the surface of the toner carrier 31 is caused to hop by an electric field between the electrodes, switching between the electric fields is carried out more than one time within the time that a fixed point on the surface of the latent image carrier 58 passes a development nip.例文帳に追加

電極間の電界によりトナー担持体３１の表面に担持されたトナーをホッピングさせながらクラウドを形成して現像する過程において、潜像担持体５８の表面の定点が現像ニップ通過する時間内に、電界の切り替わりが１回を超える回数以上生じるようにする。 - 特許庁

The metal-surface film formation method is characterized in that the film formation is carried out on the metal surface by a wet process using a solution containing a thiol compound or a triazine thiol derivative represented by a specific chemical formula (formula 1, 2, or 3), and next, a fluorine-containing organic compound is film-formed by a dry method.例文帳に追加

金属表面に特定の化学式（化１、化２、又は化３）で示されるトリアジンチオール誘導体もしくはチオール化合物を含む溶液を用いた湿式法によって成膜し、その次に含フッ素有機化合物を乾式法によって成膜することを特徴とする金属表面被膜形成方法である。 - 特許庁

A grooving process is applied to all over the surface of a cylindrical ceramic element 2 with the surface coated with a conductive film 3 and with a pair of electrodes 5 and 6 mounted at both its end by irradiating it with an ultraviolet laser having a wavelength of 400 nm or less and an energy density of 5 J/cm^2.例文帳に追加

表面を導電性被膜３で被包して両端に一対の電極５、６を装着した円柱状のセラミック素体２に対して、その表面全周にわたって波長４００ｎｍ以下でエネルギー密度が５Ｊ／ｃｍ^２ 以上の紫外線レーザを照射して溝切り加工を施す。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device; cracking and getting chipped of a substrate are prevented to perform surface processing in a desired shape by subjecting the holding substrate 11 (wafer 51) constructed with a substrate piece 12 to surface processing, e.g., polishing processing or blast processing, after a separation process of cutting, and separating a wafer 50 to the substrate pieces 12.例文帳に追加

本発明の製造方法は、ウエハ５０を基板片１２に切断、分離する分離工程の後に、基板片１２で構成された保持基板１１（ウエハ５１）を表面処理加工、例えば研磨処理又はブラスト処理、することで、基板の割れ、欠けを防止して、所望の形状となるような表面加工が可能となる。 - 特許庁

An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed.例文帳に追加

スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。 - 特許庁

To obtain a glazing agent for bread, capable of imparting excellent luster to baked bread without causing stickiness on the surface thereof by applying the glazing agent on the surface of baked bread, and capable of keeping a stably emulsified condition even when the pH of the glazing agent is lowered under the influence of the pH of baked bread during the process of applying a glazing agent.例文帳に追加

焼成したパン類の表面に塗布することで、表面にべたつきを生じることなく優れたつやを付与することができ、つや出し剤の塗布工程において、焼成したパンのｐＨの影響で、つや出し剤のｐＨが低下した場合でも、安定な乳化状態が保たれるパン類用つや出し剤を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the release film including a process in which after a release agent liquid is applied onto at least one surface of a continuously carried polyester film, the film is dried and then is wound up in a roll shape, before winding up the dried film in the roll shape after drying the film, the release agent liquid applied surface of the polyester film is cleaned.例文帳に追加

連続的に搬送されるポリエステルフィルムの少なくとも片面に剥離剤液を塗布した後、乾燥させ、ロール状に巻き取る工程を含む剥離フィルムの製造方法において、前記乾燥後、前記ロール状の巻き取り前に、前記ポリエステルフィルムの剥離剤液塗布面をクリーニングする。 - 特許庁

To provide a developing device that prevents occurrence of unevenness on an image due to redeposition of a developer leaving a developer carrier surface at a developer leaving area and moving on the way toward a developer storage unit onto the developer carrier surface, and to provide an image forming apparatus with the same, and a process cartridge.例文帳に追加

剤離れ領域で現像剤担持体表面から離れ現像剤収容部に向かっている途中の現像剤が現像剤担持体表面に再付着することで画像上にムラが生じてしまうのを抑制できる現像装置並びにこれを備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer and a production method thereof capable of effectively inhibiting diffusion of heavy metal from a back face of the silicon wafer to a device active region while keeping a good deflective strength by applying predetermined surface treatment during a subsequent process of a semiconductor device process for forming a device structure to provide a gettering sink layer.例文帳に追加

デバイス構造を形成した半導体デバイスプロセスの後工程において、所定の表面処理を施して、ゲッタリングシンク層を設けることにより、良好な抗折強度を維持しつつ、シリコンウェーハ裏面からデバイス活性領域への重金属の拡散を有効に抑制することができる、シリコンウェーハ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To reform an image into a state faithful to a latent image in order to eliminate a factor of image deterioration caused upon development by rearranging toner on a photoreceptor again nearby its surface by applying an alternating current to an electrode provided not in contact with the photoreceptor between a developing process and a transfer process.例文帳に追加

現像時に生じた画像劣化要因を現像工程と転写工程の間で感光体に対して非接触状態で設けられた電極に交番電圧を印加することよって再度感光体上のトナーを表面近傍にて再配置工程を行い、潜像に忠実な状態に画像を形成し直すことを目的としている。 - 特許庁

To provide a method capable of preventing the occurrence of resist pattern collapse caused in accordance with miniaturization of the size of a pattern upon development processing of a resist film after exposure, which is formed on the surface of a substrate and having no risk of bringing bad affection to an after process, while eliminating the deterioration of liquid heaping property of a developer on the resist film in a development process.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配が無く、現像プロセスにおいてレジスト膜上への現像液の液盛り性が悪くなることもない方法を提供する。 - 特許庁

This regenerating method comprises an infiltration process for infiltrating the water-based solution including the metallic element into at least the surface portion of the molten metal protecting material having the anticorrosion portion, used in a state of being kept into contact with the molten metal, and a fixing process for fixing the metallic element in the impregnated water-based solution in a form of metallic oxide and/or metallic salt.例文帳に追加

本再生方法は、既に耐食部を有し溶湯と接して使用された溶湯保護材の少なくとも表面部に、金属元素が含有された水系溶液を浸透させる浸透工程と、浸透された該水系溶液中の該金属元素を、金属酸化物及び／又は金属塩にして定着する定着工程と、を備える。 - 特許庁

The quartz process tube built in into a vertical heating furnace for processing a semiconductor wafer comprises the body of a process tube, constituted of a cylindrical quartz glass tube provided with a top plate in the upper end part, and a quartz reinforcing member provided on the upper surface of the top plate via a plurality of quartz columns and has a central part bent upward.例文帳に追加

半導体ウェーハを処理するための縦型加熱炉に内蔵される石英プロセスチューブであって、上端部に天板を設けた円筒形石英ガラス管で構成されるプロセスチューブ本体と、該天板の上面に複数本の石英支柱を介して設けられかつ中央部を上方に湾曲させた石英補強部材とを有するようにした。 - 特許庁

This method has a dropping process step (S4) of dropping a prescribed amount of liquid drops to the position deposited with the foreign matter of the surface of a previously perceived work W and a process step (S6) of removing the foreign matter by irradiating the position deposited with the foreign matter with a laser beam L having energy capable of evaporating at least the liquid drops described above.例文帳に追加

予め知得されている被洗浄物Ｗ表面の異物付着位置に所定量の液滴を滴下する滴下工程（Ｓ４）と、少なくとも前記液滴を蒸発可能なエネルギを有するレーザ光Ｌを前記異物付着位置に照射して、前記異物を除去する工程（Ｓ６）とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus 20 can continuously perform the formation process of a protective resin layer F using a solvent-soluble type fluororesin F to the light reception surface of the thin-film solar cell sub-module 1, and the formation process of a module adhesive layer by an adhesive resin sealing material J1, or the like onto the protective resin layer F before being reeled up by a take-up shaft R2.例文帳に追加

薄膜太陽電池モジュール製造装置２０は、薄膜太陽電池サブモジュール１の受光面への溶剤可溶型フッ素樹脂Ｆを用いた保護樹脂層Ｆの形成工程と、保護樹脂層Ｆ上への接着性樹脂封止材Ｊ１等によるモジュール接着層の形成工程とを、巻取軸Ｒ２に巻き取られる前に連続的に行うことができる。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus for supplying process solution on a substrate surface by conveying the substrate in the horizontal direction, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit for attaching the substrate to the bottom plane, a shower unit for supplying the process solution, being located downward being spaced with the substrate at a predetermined interval, and a conveyer unit conveying the substrate support unit in the horizontal direction.例文帳に追加

基板を水平方向に搬送して基板の表面に処理液を供給する基板処理装置において、基板を底面に付着する基板支持ユニット、基板と所定の間隔で離隔して下部に位置し、処理液を供給するシャワーユニット、基板支持ユニットを水平方向に搬送する搬送ユニットを含む基板処理装置。 - 特許庁

A method for manufacturing water-repellent microfiber which is formed on the surface of a body to be treated comprises the following processes: the process for preparing a polymer solution by adding an additive composed of a water-repellent material to a solution in which a polymer is dissolved; and the process for forming a laminated microfiber by an electrospinning method by applying high voltage to the polymer solution.例文帳に追加

被処理体の表面に形成される撥水性微細繊維の製造方法であって、高分子が溶解された溶液に撥水性材料からなる添加剤を添加してポリマー溶液を調製する工程と、ポリマー溶液に高電圧を印加して、エレクトロスピニング法により積層された微細繊維を形成する工程とを備えて構成される。 - 特許庁

A manifold block 2 is molded to be rectangular parallelepiped by forming a process gas input port 3, a purge gas input port 4 and a process gas output port 5 formed on a lower surface of the manifold block 2 on the same straight line by forming a purge gas input passage to communicate the purge gas input port 4 and an input port of a check valve to each other in a V shape.例文帳に追加

パージガス入力ポート４とチェック弁５０の入力ポート５１とを連通させるパージガス入力流路１０をＶ字形に形成することにより、マニホールドブロック２の下面に形成されたプロセスガス入力ポート３、パージガス入力ポート４及びプロセスガス出力ポート５を同一直線上に形成して、マニホールドブロック２を直方体に成形する。 - 特許庁

The process A is a process for depositing the salt containing chloride ions on the metal material surface, while bringing an average particle size of a saline containing the chloride ions deposited onto the metal material into 1-500 μm, while bringing a salt deposition amount into 0.1-10,000 mg/m^2, and while making a time for depositing the salt containing the chloride ions within 10 minutes.例文帳に追加

工程（Ａ）：金属材料に付着した、塩化物イオンを含む塩水の平均粒径が１〜５００μｍ、且つ塩分付着量が０．１〜１００００ｍｇ／ｍ^2であり、塩化物イオンを含む塩分を付着させる時間を１０分間以内として金属材料の表面に塩化物イオンを含む塩分を付着させる工程。 - 特許庁

The measuring method for the valid optical path comprises: (a) a process of using the mask and projecting the light passed through a projection lens on a photosensitive element in a defocus state in the aligner; and (b) a process of detecting at least one of the pupil shape of the aligner and a diffracted light distribution on a pupil surface from an image projected on the photosensitive element.例文帳に追加

有効光路の測定方法は、（ａ）露光装置において、上述のマスクを用い、投影レンズを通った後の光をデフォーカスの状態で感光素子上に投影する工程と、（ｂ）前記感光素子上に投影された像から露光装置の瞳形状、瞳面上の回折光分布の少なくとも一方を検出する工程と、を含む。 - 特許庁

A method consists of a process to insert a sleeve 4 formed with a welding material in a hole part 3a, and a process to press fit a friction bar 1 formed so that a part of an outer diameter is larger than an inner diameter of the sleeve or the outer diameter is gradually tapered off toward its tip, or having a recessed and projection part on an outer peripheral surface while rotating.例文帳に追加

穴部３ａに溶接材で形成されたスリーブ４を挿入する工程と、そのスリーブの内径よりも少なくとも一部の外径が大きく、あるいは、さらに、外径が先端に向って漸次小さく形成さるか、又は、外周面に凹凸部が形成されている摩擦棒１を回転させながら前記穴部に圧入する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a process for production of vinyl chloride for a paste excellent in surface smoothness of the foamed molding and having a fine cellular structure, and giving a foamed molding with a feeling of full volume and little decrease of thickness of the foamed molding on reheating the foamed molding to give an embossed pattern, regardless of the kind and volume of plasticizer, or and the volume of filler on blending in a foaming process.例文帳に追加

発泡加工する際、配合時の可塑剤種類、量、充填剤量に関わらず、発泡体の表面平滑性に優れ、緻密なセル構造を有し、凹凸模様を施す際の発泡体の再加熱において発泡体の厚み減少が少なく、ボリューム感のある発泡成形体となるペースト用塩化ビニル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

The formed body 1 is stripped off from a core pin 7 by relatively shifting a stripping-off ring 8 to the core pin 7 from the intermittent end surface side in the opened longitudinal slit 5, in a die casting forming process for filling material into a space between an outside molding flask and the core pin 7 for expanding the undercut part 4 and the following process after taking out the outside molding flask.例文帳に追加

外側型枠とアンダーカット４を拡開するためのコアピン７との間の空間に材料を充填するダイカスト成形工程と、外側型枠を取り外した後の次工程で、開口した長手方向スリット５で断続する端面側から剥ぎ取りリング８をコアピン７に対して相対移動させて成形体１をコアピン７から剥ぎ取る。 - 特許庁

The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し３倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁

The method for inkjet recording includes the process to allow water to adhere onto the image forming surface of the recording medium before forming an image and the process to form an image on the recording medium through inkjet recording using an aqueous ink for inkjet containing dye, at least one of glycerin diglycerol and polyglycerin, polyalkylene glycol monoalkyl ether, and water.例文帳に追加

画像形成前に記録媒体の画像形成面に水を付着させる工程、および、顔料と、グリセリン、ジグリセリンおよびポリグリセリンのうちの少なくとも１種と、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルと、水とを含むインクジェット用水性インクを用いて、インクジェット記録法により記録媒体に画像を形成する工程、を含むインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical waveguide comprising a core and upper and lower clads between which the core is held comprises: a patterning process of performing the patterning of the core shapes by irradiating the surface of core material stacked on the lower part clad material with laser beams; and a development process of developing the core material on which the core shapes are patterned.例文帳に追加

コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされたコア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。 - 特許庁

There are arranged a substrate 10 carrying the removable transparent film 30 which can be removed by a desired washing process from the surface and the removable presence indicator 90 associated with the removable transparent film, and the presence indicator can be removed by the same desired washing process with that for the removable transparent film.例文帳に追加

除去可能な透明膜３０は、所望の洗浄プロセスによって前記表面から除去可能である基材１０と、前記除去可能な透明膜と関係付けられた除去可能なプレゼンスインジケータ９０であって、前記プレゼンスインジケータは、前記除去可能な透明膜と同一の所望の洗浄プロセスによって除去可能である。 - 特許庁

This leather-like sheet has a porous surface and obtained by coating a polyurethane solution on at least one side of a fibrous sheet consisting of a nonwoven and a polymeric elastic body and coagulating in a wet process wherein the coagulation in the wet process is performed with adding a coagulation conditioner partially polyurethanized at silicone principal chain or side chain into the polyurethane solution.例文帳に追加

不織布と高分子弾性体からなる繊維質シートの少なくとも片面にポリウレタン溶液を塗布して湿式凝固させることにより多孔質層を有する皮革様シートを製造する方法において、該ポリウレタン溶液に、シリコーン主鎖または側鎖の一部がポリウレタン化されている凝固調節剤を添加して湿式凝固する。 - 特許庁

This method for surface-treating the water-absorbing resin comprises (a) a process of obtaining a water-absorbing resin composition by mixing a water-absorbing resin, a radically polymerizable compound and an organic solvent, and (b) a process of irradiating an active energy beam to the obtained water-absorbing resin composition.例文帳に追加

吸水性樹脂の表面処理方法であって、（ａ）吸水性樹脂と、ラジカル重合性化合物と、有機溶媒と、を混合することにより、吸水性樹脂組成物を得る工程と、（ｂ）得られた吸水性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射する工程と、を含む、吸水性樹脂の表面処理方法により、上記課題は解決される。 - 特許庁

A manufacturing method for the conductive layer includes a first process in which a self-organizing film having an affinity to a conductive material for the conductive layer is formed in the forming region of the conductive layer on the surface of a base material, and a second process in which the conductive material is precipitated on the self-organizing film by an electroless plating and the conductive layer is formed.例文帳に追加

導電層の製造方法は、基材の表面における導電層の形成領域に、前記導電層の導電材料に対して親和性を有する自己組織化膜を形成する第１工程と、無電解めっきによって前記自己組織化膜の上に前記導電材料を析出させて前記導電層を形成する第２工程と、を含む。 - 特許庁

A method of forming a multilayer conductive film comprising this polysilicon film 108 comprises a process, wherein the surface of the film 108 is etched back using etching gas containing C and S components and an F component to remove a recessed region generated in the film 108, and a process, wherein a conductive film having a resistance lower relatively than that of the film 108 is formed on the film 108.例文帳に追加

本発明のポリシリコン膜１０８を含む多層導電膜の形成方法は、Ｃ、Ｓ、そしてＦ成分を含むエッチングガスを使用してポリシリコン膜１０８の表面をエッチバックして除去する工程と、ポリシリコン膜上にポリシリコン膜１０８より抵抗が相対的に小さい導電膜形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a shot blasting device capable of evenly treating a surface of a casting having sand adhered thereto during a casting process or a metal product having an oxide scale adhered thereto, reducing a working process, and taking out a product to be treated without scattering a projection material after the treatment to the outside of a cabinet, and its treatment method.例文帳に追加

鋳造工程で砂が付着した鋳造品、又は、酸化スケールの付着した金属製品などの表面を満遍なく処理すること、作業工程を減らすこと、及び、処理後に投射材をキャビネット外部へと飛散させることなく、被処理製品を搬出可能なショットブラスト処理装置及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

To solve a request of fine working of high quality having high pattern superposition accuracy without omission due to deformation of a pattern with a simple process/equipment scale in a reverse printing method for transfer onto a surface of a base material to be printed, which is developed instead of a photolithography method having problems of process complication and an increase of an equipment scale.例文帳に追加

工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。 - 特許庁

To provide a self-adhesive having high self-adhesive force in a dicing process so that detachment and scattering of cut pieces of semiconductor elements etc., are suppressed, affording even articles to be processed having an activated surface, excellent light peelability and low staining properties in a pickup process; and to provide a self-adhesive film for dicing having a self-adhesive layer including the self-adhesive.例文帳に追加

ダイシング工程においては高い粘着力を有し半導体素子などの切断片の脱離飛散が抑えられるとともに、ピックアップ工程においては活性面を有する被加工物に対しても優れた軽剥離性及び低汚染性が得られる粘着剤、及び該粘着剤を含有する粘着層を有するダイシング用粘着フィルムの提供。 - 特許庁

The method for manufacturing the epitaxial wafer includes an epitaxial layer forming step of forming an epitaxial layer on a silicon wafer and a polishing step of polishing the main surface of the epitaxial wafer, and further includes a storing step of storing the wafer in a liquid up to just before the start of the polishing process after the epitaxial layer forming process.例文帳に追加

シリコンウェーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル層形成工程と、エピタキシャルウェーハの主面を研磨する研磨工程とを含むエピタキシャルウェーハの製造方法であって、エピタキシャル層形成工程後、研磨工程を行う直前まで、ウェーハを液体中で保管する保管工程を更に含むことを特徴とする、エピタキシャルウェーハの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the partition of the biochip 100 including a substrate 10 and the partition 20 for partitioning its surface includes a first film formation process for forming a first film on the substrate 10 by using the radiation-sensitive composition containing a color former (A), and a partition forming process for forming the partition 20 by patterning the first film by a lithography method.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、カラーフォーマー（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板１０上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁２０を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁

In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.例文帳に追加

水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁

In a temperature profile drawn by a surface of the semiconductor wafer by the light irradiation with such an output waveform, a total residence time in 700-900°C during a temperature rising process and a temperature dropping process with respect to each of two temperature peaks TP1, TP2 corresponding to the two emission peaks EP1, EP2 is 15 ms or shorter.例文帳に追加

このような出力波形の光照射によって半導体ウェハーの表面が描く温度プロファイルにおいて、２つの発光ピークＥＰ１，ＥＰ２に対応する２つの温度ピークＴＰ１，ＴＰ２のそれぞれについての昇温過程および降温過程の７００℃以上９００℃以下の滞在時間の合計は１５ミリ秒以下である。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for microarray 100, equipped with a substrate 10, a bulkhead 20 partitioning surface of the substrate 10 and an area 30 partitioned by the bulkhead, includes the process to form the first film by using the composition containing compound (A) such as C.I. pigment red 254, and the process to form the bulkhead through patterning of the first film.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０と隔壁により区画された領域３０とを有するマイクロアレイ用基板１００の製造方法において、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４等の化合物（Ａ）を含む組成物を用いて第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a water repellent member having excellent water repellency and durability with a simple process and coated with a film having water repellency only on a required surface without limiting materials and passing through a process such as masking and to provide a method of manufacturing an ink jet head provided with an orifice plate having improved ink repellent performance.例文帳に追加

材料の限定がなく、必要な表面のみにマスキング等の工程を経ず簡単な工程で撥水特性かつ耐久性に優れた、撥水性を有する膜で被覆された撥水性部材の製造方法を提供し、更に、撥インク性能の向上したオリフィスプレートを備えるインクジェットヘッドの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

In a drying apparatus 38, immediately after a film 12 passes through a cleaning process or a rinsing process, the film 12 is conveyed in a vertical direction on an upward trend via a roll 88 immersed in a liquid tank 62, by which a liquid 64 on the surface of the liquid tank 62 is raised together with the film 12 and a liquid film 90 is formed on the film 12.例文帳に追加

本発明の乾燥装置３８は、フィルム１２が洗浄工程又はリンス工程を経た直後、液体槽６２に浸漬しているロール８８を介して、フィルム１２を鉛直方向上向き搬送することで、液体槽６２の表面の液体６４がフィルム１２とともに上昇し、液膜９０がフィルム１２に形成される。 - 特許庁

The method of manufacturing a light-emitting device includes a first process of applying the sealing member along a side face of the light-emitting element while including the rectangular light-emitting element subjected to flip-chip packaging to the support and the sealing member covering the light-emitting element and a second process of applying the sealing member from an upper surface of the light-emitting element.例文帳に追加

本発明に係る発光装置の製造方法は、支持体にフリップチップ実装された矩形の発光素子と、前記発光素子を覆う封止部材とを有し、前記封止部材を前記発光素子の側面に沿って塗布する第１の工程と、前記封止部材を前記発光素子の上面から塗布する第２の工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

There includes a discharge process of making the liquid droplets 32 discharge onto a discharging surface 24 after the liquid droplet 32 are discharged from a nozzle 64, pass in the air stream 36 in a direction crossing to a discharge direction, and are flied, and an inspection process of inspecting the shape of the discharged liquid droplets 32, in the method for inspection of the discharged liquid droplets.例文帳に追加

吐出液滴検査方法にかかわり、ノズル６４から液滴３２を吐出し、吐出する方向と交差する方向に流動する気流３６を通過して液滴３２を飛行させた後に液滴３２を着弾面２４に着弾させる吐出工程と、着弾した液滴３２の形状を検査する検査工程と、を有する。 - 特許庁

This manufacturing method of semiconductor parts includes a process that starts the work of a semiconductor wafer, where the new element materials are subjected to film formation by using a conventional manufacturing device, and a process that cleans the region of the surface of the wafer which is in contact with the conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加

課題を解決する半導体部品の製造方法は、新規な素子材料を成膜された半導体ウェハを、従来の製造装置を用いて着工する工程と、当該ウェハの表面であって、前記の従来の製造装置と接触する領域を洗浄する工程(以下、本発明にかかる洗浄工程という)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁