「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(127ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photomask with higher resolution and higher process capability of circuit implementation by forming a silicone-coating layer on one surface or both surfaces of a glass substrate to reduce the reflectance and increase the transmittance.例文帳に追加

ガラス基板の一面または両面にシリコーンコーティング層を形成させることにより、反射率を低めるとともに透過率を増加させ、解像度及び回路具現の工程能力が向上されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The field emission type cold cathode is manufactured by using a flexible substrate engageable with an uneven shape of an electrode surface and having reversible adhesiveness for a transfer process of an orientational carbon nanotube film.例文帳に追加

電極表面の凹凸形状にかみ合わせ可能な、可逆的接着性を有する可撓性基板を、配向性カーボンナノチューブ膜の転写工程に用いることにより、電界放出型冷陰極を製造する。 - 特許庁

This sulfur-containing organic compound suppresses the catalyst activity on the surface of nickel particles on the pyrolysis of the binder, and thereby prevents abrupt gas generation due to the partial pyrolysis of the binder in the course of the debinder process.例文帳に追加

この硫黄含有有機化合物がバインダーの熱分解に対するニッケル粒子表面の触媒活性を抑え、脱バインダー工程途中でのバインダーの部分的な熱分解による急激なガス発生を防止する。 - 特許庁

The method for liquefying a cellulose-based biomass includes a process for reacting a cellulose-based biomass raw material with a functional group on the surface of a carrier and hydrothermally decomposing the cellulose-based biomass raw material.例文帳に追加

セルロース系バイオマス原料を、担体表面の官能基と反応させ、前記セルロース系バイオマス原料を水熱分解する工程を含むことを特徴とするセルロース系バイオマスの液化方法であることを特徴とする。 - 特許庁

Further, the reduce iron manufacturing equipment is provided with the gas exhaust part at the rear part of a process, in which the surface temperature of the agglomerated material including the carbonaceous material is ≤1,250°C at the setting position of the heat-storage type burner.例文帳に追加

また、前記蓄熱式バーナの設置位置が炭材内装塊成物の表面温度が１２５０℃以下である工程で、その工程の後方にガス排出部を設けている還元鉄製造設備である。 - 特許庁

A protruded part 12 in a protruded shape with or without a hole is formed on either whole or a selected surface on a film 10 in an indentation forming process.例文帳に追加

本発明の方法によれば、圧痕形成工程により、フィルム１０上の全面または選択部分面に、孔を有する突出形状または孔をもたない突出形状の突出構造部１２が形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording disk capable of preventing ripples from being generated on the liquid surface of a liquid chemical when performing an immersion process to a substrate for the magnetic recording disk, and an immersion device for manufacturing the magnetic recording disk.例文帳に追加

磁気記録ディスク用基板に浸漬工程を行う際、薬液の液面に波紋が発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬装置を提案すること。 - 特許庁

An organic solvent containing a conductive compound of 150°C to 250°C in boiling point is used as the electric current processing agent and applied onto the circuit board to electrically process the circuit board surface.例文帳に追加

沸点１５０℃以上２５０℃以下の導電性化合物を含有した有機溶媒を通電処理剤として用い、回路基板上に塗布して回路基板表面に通電処理を施すことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a multi-color impression printing device which can precisely perform a printing registration process, even when meshy cells are formed in the surface of each plate cylinder, and a multi-color impression printing method.例文帳に追加

各版胴の表面に網目状の窪み（セル）が形成されている場合であっても、印刷の見当合わせを精度良く行うことができる多色刷り印刷装置および多色刷り印刷方法を提供すること。 - 特許庁

In the cooling process, compressive stress in an in-plane direction is applied to the ferroelectric substance due to the difference in the thermal coefficent of expansion, and a (c) axis in the ferroelectric substance is oriented in a thickness direction (vertical direction to a substrate surface).例文帳に追加

この冷却過程で熱膨張率の差により強誘電体に面内方向の圧縮応力が印加され、強誘電体のｃ軸が厚さ方向（基板面に対し垂直方向）に配向する。 - 特許庁

In a third process, a BGA4 is mounted in a position where each connection pad of the BGA4 is, via the opening part of the resin sheet, aligned with the corresponding connection terminal 21, formed on the surface of the printed board.例文帳に追加

そして、第３の工程で、ＢＧＡ４の各接続パッドが前記樹脂シートの開口部を通って、プリント基板の表面に形成されている対応する接続端子２１に合わさる位置に、このＢＧＡ４を載置する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a blade body capable of easily conducting an edge forming process while improving the surface hardness of the blade body and reducing a manufacturing cost, and the blade body and a cutting tool.例文帳に追加

刃体の表面硬度を高めつつエッジ付け工程を容易に行うことができるうえ、製造コストを低減させることができるように構成した刃体の製造方法、刃体及び切断具を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of an electronic circuit device which can prevent the non-mounting surface of a circuit board from swelling, when a casing is molded, and to provide an electronic circuit device which is formed by this production method.例文帳に追加

ケーシング成形により回路基板の非実装面に膨れが発生することを防止することが可能な電子回路装置の製造方法およびこの製造方法により形成される電子回路装置を提供すること。 - 特許庁

To provide the plated lead structure of a flexible printed board capable of suppressing the influence of corrosion from the cutting surface of a plated lead as far as possible without using an extra countermeasure object such as a resin and without changing the conventional process.例文帳に追加

樹脂等の余計な対策物を使用せず、従来の工程を変更せずに、メッキリードの切断面からの腐食の影響を極力抑制することのできるフレキシブルプリント基板のメッキリードの構造を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material having excellent followability to a photosensitive resin layer to be transferred to an uneven shape of the surface to be transferred and permits uniform development even in one-time development process when forming a resin pattern.例文帳に追加

転写される感光性樹脂層の、被転写面の凹凸形状への追随性に優れ、樹脂パターンを形成する際、１回の現像工程でも均一性よく現像できる感光性転写材料を提供する。 - 特許庁

The method for producing the conductive molded article is characterized by having a process for polishing the surface of the molded article of the conductive molding material comprising a resin and a conductive base material with a carbon material.例文帳に追加

本発明の導電性成形品の製造方法は、樹脂と導電性基材とを含有する導電性成形材料の成形品の表面を、炭素材で研磨する工程を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a method, for manufacturing a lithographic printing plate support, which can perform an electrochemical surface roughening process with small electric energy amount and produce a lithographic printing plate with excellent resistance to plate wear, smear resistance and cleaner resistance.例文帳に追加

少ない電気量で電気化学的粗面化を施すことができ、耐刷性、耐汚れ性および耐クリーナ性に優れる平版印刷版を得ることができる平版印刷版用支持体の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a low production cost method for producing humidity controlling paper excellent in gas absorption performance and humidity-controlling property and capable of effectively utilizing waste liquid produced in a surface-treating process of an aluminum alloy, and the humidity controlling paper.例文帳に追加

アルミニウム合金の表面処理工程で生じる廃液を有効利用できるとともに、ガス吸収性能や調湿性に優れ且つ製造コストの低い調湿紙の製造方法及び調湿紙を提供する。 - 特許庁

To produce a jig for fixing a component capable of bonding a component to a ceramic substrate body and protecting a metallized layer on the mounting surface, and to provide a process for producing a ceramic substrate with a component.例文帳に追加

セラミック基板本体に部品を接合することができる部品取付用治具であって、搭載面のメタライズ層を保護することができる部品取付用治具、及び、部品付きセラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an extruder capable of forming an extrusion member in a variety of width on a roller surface, so that the extrusion members could have various widths throughout an extrusion process, while overcoming defects of the conventional extruder.例文帳に追加

従来から知られている押出装置の欠点を克服しつつ、押し出し工程で被押し出し部材を様々な幅を有するようにローラの表面上に形成することができる押出装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of surface segments 25 are attached to a take-up core 16 and are movable so that the almost continuous feed motion of the sleeve 18 takes place in the process to take up the sleeve 18.例文帳に追加

巻取りコア１６に、複数の表面セグメント２５が設けられており、該表面セグメント２５が、スリーブ１８の巻取り工程中に、該スリーブ１８の、ほぼ連続的な送り運動が行われるように運動可能であるようにした。 - 特許庁

To eliminate the possibility of the surface of an image carrier being damaged, because an image carrier contacting and approaching member rubs against the image carrier, when a process cartridge is attached to/detached from an image forming device main body in the case of maintenance care in an imaging device.例文帳に追加

画像形成装置において、メンテナンス時などに、画像形成装置本体に対してプロセスカートリッジを着脱するとき、像担持体接触・近接部材で擦って像担持体の表面に傷を付けるおそれをなくす。 - 特許庁

To provide a charge removing device which is capable of uniformly removing the charge of the circumferential surface of a photoreceptor in the center axis direction of the photoreceptor, while reducing the size, with a simple configuration and to provide a process cartridge.例文帳に追加

簡易な構成で、小型化を図りつつ、感光体の外周面の電荷を感光体の中心軸方向に亘って均一に除去することができる除電装置およびプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

First, the line width of the inside of the wafer surface is measured after a photolithography process is completed, and a Zernike coefficient in a Zernike polynomial for indicating a plurality of in-plane pattern components is calculated from the in-plane line width measurement value of the wafer.例文帳に追加

先ず，フォトリソグラフィー工程が終了したウェハ面内の線幅を測定し，そのウェハ面内の線幅測定値から，複数の面内傾向成分を表すゼルニケ多項式のゼルニケ係数を算出する。 - 特許庁

To increase the proportion occupied by polysilicon with respect to the entire chip surface, i.e., its numerical aperture, and prevent the gate electrode of a MOS transistor from thinning in its etching process, to obtain a desired gate electrode width.例文帳に追加

チップ全面に占めるポリシリコンの割合、つまりポリシコンの開口率を上げ、ＭＯＳトランジスタのゲート電極のエッチング工程においてゲート電極の細りを防止して、所望のゲート電極の幅が得られるようにする。 - 特許庁

The method for forming the electrode has a process for drawing the electrode wires on the substrate surface overlappingly in a plurality of stages by pushing out a paste-like material with a conductive material as a main constituent from a nozzle.例文帳に追加

本発明の電極の形成方法は、導電性材料を主成分とするペースト状の材料をノズルから押出すことにより、電極線を複数段に重ねて基板表面上に描画する工程を備える。 - 特許庁

In an oxidation process (S1) in which metal in an oxide film formed on a surface of a component composing a nuclear power plant is oxidized and dissolved with an oxidizing solution, an aqueous solution containing peroxydisulfuric acid is used as a solution.例文帳に追加

原子力プラントを構成する部品の表面に形成された酸化皮膜中の金属を、酸化性の溶液を用いて酸化溶解する酸化工程（Ｓ１）で、溶液として、ペルオキソ二硫酸を含む水溶液を用いる。 - 特許庁

To provide a cover tape in which there exists no possibility of generating such a trouble as crease generation during a winding process in manufacturing as it is excellent in surface lubricating properties, and releasing strength is appropriate and a difference between the maximum value and the minimum value of the releasing strength is small.例文帳に追加

表面滑性に優れていることにより、生産時の巻取り工程でシワ等のトラブルが発生せず、剥離強度が適切かつ剥離強度の最大値と最小値の差が小さいカバーテープを提供する。 - 特許庁

The amount of light is increased regarding the light emitted from the clearance 14 by forming an operation button storing part 9 using a transparent member and only applying light non-transmitting process which does not transmit light to a top surface part 9a.例文帳に追加

操作ボタン収納部９を透明部材で形成し、上面部９ａに対してのみ、光を透過させない光不透過処理を施すことで、クリアランス１４から出射される光の光量の増加を図る。 - 特許庁

In a process for forming a polythiophen layer 7A, a distribution state of the amount of adhesion of oxidizer on the outer surface of an anode body is controlled, the oxidizer being adhered to the anode body, thus controlling the thickness of the polythiophen layer 7A.例文帳に追加

ポリチオフェン層７Ａを形成する過程で、陽極体に付着させる酸化剤の、陽極体の外表面における付着量の分布状態を制御することによって、ポリチオフェン層７Ａの厚さを制御する。 - 特許庁

To provide a process for continuous galvanizing of a metal strip capable of attaining an extremely low defect density for satisfying the request of a customer demanding a surface free from visual defects, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

外観欠陥のない表面を求める顧客の要求を満足させるだけの、きわめて低い欠陥密度を達成することのできる、金属ストリップの連続亜鉛めっきプロセスおよび装置を提供する。 - 特許庁

By depositing the coating layer 2 by the vapor-phase process, a thin film of uniform thickness can be deposited onto the surface of the powder 1 and stress can be uniformly applied to the powder 1.例文帳に追加

被覆層２を気相法で形成することによって、水素吸蔵粉体１の表面に薄くかつ厚さの均一な膜を形成することができ、水素吸蔵粉体１に対して均一に応力を付与することが可能となる。 - 特許庁

A 1st coating agent containing a solid lubricant is applied on the outside surface of the glass vessel and after that, a 2nd coating agent containing an easily strippable material is applied on it in the vicinity of an outlet of an annealing furnace in a manufacturing process of the glass vessel.例文帳に追加

ガラス容器の製造工程における徐冷炉の出口付近で、ガラス容器の外面に固体滑剤を含む第一のコーティング剤を塗布し、その後易剥離性物質を含む第二のコーティング剤を塗布する。 - 特許庁

In a first resist forming process, molding holes 34 which are opened circularly to expose land parts 231 are formed in a first resist 31 formed on a surface of a rigid substrate 30 on a side where posts are formed.例文帳に追加

第１のレジスト形成工程では、リジッド基板３０のうちポストを形成する側の表面に形成された第１のレジスト３１に、ランド部２３１を露出させる円形状に開口した成型孔３４を形成する。 - 特許庁

To provide a rolled copper foil having a uniform roughed surface where variation in irregularities is low and exhibiting stabilized bonding strength to a resin substrate with a narrow pitch, and to provide its production process.例文帳に追加

表面における凹凸のばらつきが小さく均一な粗化表面を有し、挟ピッチで安定した樹脂基材との接合強度を有することができる圧延銅箔及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In rough machining process (a), a honing head 15 having a rough machining grinding wheel 17 is inserted in a cylinder bore 13 of a cylinder block 11, and rotated while being moved in the axial direction, thereby grinding the inner peripheral surface of the cylinder bore 13.例文帳に追加

荒加工工程（ａ）では、シリンダブロック１１のシリンダボア１３内に、荒加工砥石１７を備えたホーニングヘッド１５を挿入し、軸方向に移動させつつ回転させてシリンダボア１３の内周面を研削加工する。 - 特許庁

To solve the problem wherein a white ribbon of Si_3N_4 is formed on the surface of a silicon substrate to prevent a gate oxide film from being formed in the area where the white ribbon has been formed in a case wherein LOCOS is formed after a nitrogen annealing process is carried out in a semiconductor manufacturing method.例文帳に追加

半導体製造方法において、窒素アニール後にＬＯＣＯＳを形成する場合、シリコン基板表面にＳi_３Ｎ_４からなるホワイトリボンが生成され、その部分でゲート酸化膜の形成が阻害される。 - 特許庁

To provide a developing device in which the adhesion and deposition of a toner to an opposite surface of a case opposing to a developer carrier are reduced and the occurrence of an abnormal image, such as an image stain, is averted, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤担持体に対向するケースの対向面へのトナーの付着堆積が軽減されて、画像汚れ等の異常画像が生じることのない現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In this case, the horizontal alignment layers 42 are formed by performing a rubbing process on an alignment layer 42a on a substrate 10A and by modifying a surface thereof using a resist pattern R as a mask, a material of the vertical alignment layers 41 is formed.例文帳に追加

このとき、基板１０Ａ上の配向膜４２ａにラビング処理し、レジストパターンＲをマスクにして表面改質して、水平配向膜４２を形成し、垂直配向膜４１の材料を形成する。 - 特許庁

The process of imaging the surface of the work W using this imaging device 40 permits measurement of a state of displacement or a state of elongation of the work W within the forming die 20 without requiring any break of the press working in mid-course.例文帳に追加

この撮像装置４０によりワークＷの表面を撮像することで、プレスを途中で中断することなく、成形型２０内におけるワークＷの移動状態又は伸び状態を測定する。 - 特許庁

In a process of sticking the nanowire solution 2 to the surface of the substrate 6, before the nanowire solution 2 reaches the substrate 6, the field is impressed to the nanowire solution 2 by the field application means 5 to orientate the nanowire 2a.例文帳に追加

ナノワイヤ溶液２を基板６の表面に付着させる過程において、ナノワイヤ溶液２が基板６に到達する前に、電界印加手段５によりナノワイヤ溶液２に電界を印加してナノワイヤ２ａを配向させる。 - 特許庁

The GaN single crystal substrate 10 is characterized in that a plurality of micro-projections 14A, 14B are formed on the surface 12a by subjecting it to a heat-treatment process in a gas atmosphere at least containing NH_3.例文帳に追加

本発明に係るＧａＮ単結晶基板１０は、少なくともＮＨ_３を含むガス雰囲気中で熱処理されて、表面１２ａに微細突起１４Ａ，１４Ｂが複数形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cutting method, capable of omitting the process of having an operator detach an object to be worked from a chuck table and observe the back surface chipping state of the object to be worked, and automatically and fully performing pre-cutting.例文帳に追加

オペレータが被加工物をチャックテーブルから取り外して，被加工物の裏面チッピング状態を観察する工程を省略して，自動的にプリカットを十分に行わせることが可能な切削方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductor foil laminate easy to handle as a conductor foil, capable of sufficiently ensuring the surface smoothness of the conductor foil and capable of enhancing workability after the completion of a press process.例文帳に追加

導体箔としての取扱いが容易であり、導体箔表面の平滑性を十分に確保することができ、しかもプレス工程終了後の作業性を向上することが可能な導体箔積層体を提供する。 - 特許庁

To improve the durability of a first forming punch by forming a groove with a second forming punch in another process after forming a track groove on the inner wall surface of an outer member by backward extrusion with the first forming punch.例文帳に追加

第１成形パンチによってアウタ部材の内壁面にトラック溝を後方押出し成形した後、別工程で第２成形パンチによる溝の成形を行い、前記第１成形パンチの耐久性の向上を図る。 - 特許庁