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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processに関連した英語例文

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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

To provide a method for cleaning a substrate in which burrs occurring on the element forming surface of a substrate through probe test can be removed, and to provide a process for producing a semiconductor device and equipment for cleaning a substrate.例文帳に追加

プローブ検査によって基板の素子形成面にカエリが生じた場合でも、このカエリを除去することができる基板清浄方法及び半導体装置の製造方法、並びに基板清浄装置を提供する。 - 特許庁

A carbon-based active material layer densified through a strong roll-pressing process, for instance, is formed on the surface of the copper-coated layer 7, and the negative electrode collector is formed by the copper-coated steel foil 10 and the carbon-based active material layer.例文帳に追加

銅被覆層7の表面上には例えば強いロールプレスで高密度化した炭素系活物質層が形成され、銅被覆鋼箔10と前記炭素系活物質層によって負極集電体が構成される。 - 特許庁

To provide a production method for electronic circuit device which can automate the processing for removing a deformed portion from the surface of a casing on the side exposing a circuit board, and to provide an electronic circuit device formed by this production process.例文帳に追加

ケーシングの回路基板露出側の面の変形部分の除去加工を自動化することが可能な電子回路装置の製造方法およびこの製造方法により形成される電子回路装置を提供すること。 - 特許庁

The pressed state of the front end surface 10a of the hood 11 is released by having an arm 51 of the elastic member 50 elastically deformed by a pressure release guiding part 34 in the process of both housings 10 and 20 being brought into a regular engagement.例文帳に追加

両ハウジング10,20が正規嵌合に至る過程で弾性部材50のアーム部51が押圧解除案内部34によって弾性変形されてフード部11の前端面10aとの押圧状態が解除される。 - 特許庁

例文

The plasma processing method has, in the deep-mined process for the silicon substrate, a conditioning step of cleaning a surface of a target 32, in addition to an etching step and a protective film forming step.例文帳に追加

本発明に係るプラズマ処理方法は、シリコン基板に対する深掘り加工プロセスにおいて、エッチング工程と保護膜形成工程のほかに、ターゲット32の表面を清浄化するコンディショニング工程を有している。 - 特許庁


例文

To increase process margin, while reducing manufacturing cost in the formation of a trench capacitor which is increased in a capacitor area, by forming a silicon film having an uneven surface on an inner wall in the lower part of the trench.例文帳に追加

トレンチの下部内壁上に表面が凹凸状のシリコン膜を形成し、キャパシタ面積の増大を図ったトレンチキャパシタの形成方法において、プロセスマージンの増大および製造コストの削減を図ること。 - 特許庁

CO generated in the second determining process S14 corresponds to the amount Z of total oxygen corresponding to the sum of the amount X2 of oxygen adhering to the surface of the Si sample 38 and the amount Y of oxygen in the sample.例文帳に追加

第二定量工程S14において発生するCOは、Si試料38の表面付着酸素量X2及び試料中酸素量Yの合計に相当する全酸素量Zに対応している。 - 特許庁

To obtain a receptive layer-forming ink which is suitable for printing the entire surface or only the required part of the substrate and rapidly accomplishes coating or printing without requiring any process of water evaporation.例文帳に追加

基材の全面あるいは必要部分のみを印刷することにも適し、しかも水を蒸発する工程を必要とせず速やかにコートまたは印刷を完了することのできる受理層形成用インキ等を提供する。 - 特許庁

To provide a cold-rolling oil composition for making the color tone of a stainless steel plate uniform without causing a pattern on the surface of the steel plate after the annealing and pickling after the cold rolling in a process of cold rolling of the stainless steel plate.例文帳に追加

ステンレス鋼板の冷間圧延の工程において、冷間圧延後の焼鈍、酸洗後に鋼板表面に模様を発生させないで色調が均一となるような、冷間圧延油組成物を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an electrophotographic photoreceptor having the excellent coating surface, having high electrifying potential and sensitivity, capable of reducing residual potential and excellent in repetitive stability in forming an image by an electrophotographic process.例文帳に追加

良好な塗工面を有し、電子写真プロセスにより画像形成を行う際に、帯電電位及び感度が高く、残留電位が低く、かつ繰り返し安定性が優れた電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

例文

The process release paper is constituted of a laminate of the base paper and the releasable resin layer provided on at least one surface of the base paper and the N content of the base paper is set to 10-60 weight %.例文帳に追加

工程剥離紙を、基紙と、この基紙の少なくとも一方の面に設けられた離型性樹脂層との積層体からなる構成とし、基紙のN材含有量を10〜60重量%の範囲内とする。 - 特許庁

a print made using a stencil process in which an image or design is superimposed on a very fine mesh screen and printing ink is squeegeed onto the printing surface through the area of the screen that is not covered by the stencil 例文帳に追加

型版で補われないスクリーン部分を通じて、印刷面の上で印刷用インクがふき取られ、画像またはデザインがとても細かい網の目状のスクリーンに重ねられる型版の過程を使用して作成される印刷 - 日本語WordNet

To manufacture a photoelectric conversion semiconductor device by using a wet process in a conductor part in causing an optical electric field intensifying effect by induction of surface plasmon resonance in a semiconductor layer constituting a solar cell being the photoelectric conversion semiconductor device.例文帳に追加

光電変換半導体装置である太陽電池を構成する半導体層に表面プラズモン共鳴の誘起により光電場増強効果を発生させる導電体部位にウエットプロセスを用いて製作する。 - 特許庁

To provide a relatively low-temperature and simple treatment process capable of obtaining the clean surface of a nitride semiconductor comparable to a high temperature hydrogen plasma irradiation result.例文帳に追加

本発明は、比較的に低温かつ簡便な処理工程で、上記高温水素プラズマ照射結果と同程度以上のクリーンな窒化物半導体の表面が得られる処理工程を提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain a weak solvent type acrylic urethane coating material causing no appearance abnormality such as delustering and poor smoothness, even in the occurrence of dew condensation on a coating surface during the curing process of a coating film.例文帳に追加

本発明の課題は、塗膜の硬化過程において塗装面に結露が生じても艶引けや平滑性不良等の外観異常を起こさない弱溶剤型のアクリルウレタン塗料を提供することである。 - 特許庁

To efficiently determine conditions for implanting impurity ions by removing a dummy layer, after implanting the impurity ions into the top of the dummy layer formed on a substrate surface, based on the determination result with a process simulation.例文帳に追加

注入エネルギーの低下によらなくても基板表面近傍の浅い位置に不純物イオンを注入することができ、しかもその不純物イオンの注入を行う際の条件を効率良く決定できるようにする。 - 特許庁

To provide a polyimide film with improved punching property by suppressing happening of burrs and scraps in punching process and to provide a polyimide film for lead frames and a surface mounted area array packages by using the film.例文帳に追加

打ち抜き工程でのバリや切り屑の発生を抑制して打ち抜き性を改善したポリイミドフィルムおよびこのポリイミドフィルムを使用してなるリードフレーム用や表面実装型エリアアレイパッケージ用のポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for orienting an aromatic polyamide film by which a high-quality film having high productivity, process stability and outstanding mechanical properties and surface characteristics is manufactured, in the manufacture of the aromatic polyamide film.例文帳に追加

芳香族ポリアミドフィルムの製造において、高い生産性と工程安定性を有し、かつ機械特性及び表面性のよい高品質のフィルムを得ることが可能な芳香族ポリアミドフィルムの延伸方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of controlling the distribution of plasma density within a reaction chamber in the semiconductor manufacturing apparatus to uniformly form and process a film inside the surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

プラズマを用いる半導体製造装置における反応チャンバ内のプラズマ密度の分布を制御し、半導体基板面内の膜形成あるいは加工を均一に行うことができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To certainly control electrolytic action on a grinding wheel surface in electrolytic in-process dressing as compared to before, and to evenly generate the electrolytic action.例文帳に追加

電解インプロセスドレッシング加工において、従来よりも砥石表面の電解作用の制御を確実に行うことができるとともに、電解作用を均一に発生させることができる加工装置の構造を提供する。 - 特許庁

Thereafter, particles of the piezoelectric material are piled up on the diaphragm 31 by the AD method to cover a plurality of pressure chambers 14, thereby forming a piezoelectric layer 32 on the top surface of the diaphragm 31 (piezoelectric layer forming process).例文帳に追加

その後、振動板31の上面に、複数の圧力室14を覆うように、AD法により圧電材料の粒子を振動板31上に堆積させて圧電層32を形成する(圧電層形成工程)。 - 特許庁

To provide a composite surface processing device that serves as an ion implantation device using an ion beam and also as a plasma doping device at the same time, and carries out a low-energy ion doping process using an ion beam with high accuracy and high efficiency.例文帳に追加

イオンビームを用いたイオン注入装置とプラズマドーピング装置とを兼ね備えた複合型の表面処理装置において、イオンビームを用いて低エネルギーのイオンドーピング処理を高精度かつ効率良く行う。 - 特許庁

By stabilizing the crystal state of the storage node surface layer, the deviation of HSG 80 generated by the HSG 80 becoming weak in the succeeding washing process is prevented.例文帳に追加

ストレージノード表面層の結晶状態を安定化させることにより、HSG80が後続の洗浄工程において脆弱となることで発生するHSG80が離脱するという問題を防止することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the silicon carbide single crystal substrate has a process for removing zones affected by treatment on the surface of the silicon carbide single crystal substrate by etching by using reactive gas excluding fluorine base gas.例文帳に追加

炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部を、フッ素系ガスを除く反応性ガスを用いたエッチングによって除去する工程を有することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法である。 - 特許庁

The amount of the -OH groups or the like existing on the surface, which reduces the oxidation reduction resistance can be reduced in the reaction process or the like, and the oxidation reduction resistance of the manufactured separator for the lithium battery can be enhanced.例文帳に追加

つまり、反応工程等によって、耐酸化還元性を低下させている表面に存在する−OH基等の存在量を減少でき、製造されるリチウム電池用セパレータの耐酸化還元性を向上できる。 - 特許庁

After a wafer polishing process, washing liquid 82 is supplied from the washing liquid jet hole 60 to polishing cloth 16 and jetted from the surface plate washing nozzle 84 to the polishing cloth 16.例文帳に追加

ウェーハ研磨加工が終了すると、洗浄液噴射口80から研磨布16に洗浄液82を供給するとともに、定盤洗浄ノズル84から研磨布16に向けて洗浄液82を噴射する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a semiconductor manufacturing apparatus which can control the substrate surface temperature during an etching treatment, until immediately after etching or completion of an etching process.例文帳に追加

エッチング直後および、エッチング終了直後の過渡的瞬間までも、基板表面のエッチング処理温度を制御することができる半導体素子の製造方法、及び半導体素子の製造装置を提供する。 - 特許庁

For this purpose, there is a need of controlling the oxidation of Sn in the surface of the stock, concretely of controlling the annealing atmosphere or the pickling method after annealing in the producing process to the proper one.例文帳に追加

そのためには、素材表面においてSnの酸化を抑制する必要があり、具体的には、製造工程における焼鈍雰囲気あるいは焼鈍後の酸洗方法を適正なものにする必要がある。 - 特許庁

During the heating in the process of mounting, behavior of the solder materials 17 between the electrodes 3 at the bottom surface of the transparent part 1 and the circuit board 18 is visually observed through the transparent part 1.例文帳に追加

この実装工程の加熱中に、評価用の透明部品1を通して当該透明部品1の底面側における電極3と回路基板18間のはんだ材料17の挙動を目視により観察する。 - 特許庁

To provide an oxidization prevention method for preventing oxidization in copper in a cleaning process and drying, and for obtaining a clean copper surface, merely by carrying out simple treatment such as heating and reduced pressure treatment in the next processes.例文帳に追加

洗浄工程および乾燥時における銅の酸化を防止し、次工程における加熱処理あるいは減圧処理等の簡単な処理を行うだけで清浄な銅表面を得る酸化防止方法を提供すること。 - 特許庁

To uniformly deposit chloride to the surface layer of a specimen, and to accurately reproduce corrosion in an actual facility, in a short time, without flushing away chlorides deposited in a subsequent testing process.例文帳に追加

試験体の表層に均一に塩化物を付着することができ、しかも、その後の試験工程において付着させた塩化物を洗い流すことなく、実設備での腐食を精度よく短時間で再現することである。 - 特許庁

Since compression stress is generated in the surface layers 4 and 5 in a cooling process after calcination by specifically selecting the relation of the thermal expansion coefficients in such a manner, the flexural strength of the multilayer ceramic substrate 1 is improved.例文帳に追加

このように熱膨張係数の関係を特定的に選ぶことにより、焼成後の冷却過程において、表層部4,5に圧縮応力が生じるため、多層セラミック基板1の抗折強度が向上する。 - 特許庁

As the preceding process before transferring a toner image onto the image receiving sheet by a transfer device 21, a sheet electrifying device 42 electrifies the surface of the image receiving sheet S with the polarity opposite to the electrified polarity of the toner particles.例文帳に追加

転写装置21によって受像シートSにトナー像を転写する前の工程として、シート帯電装置42により、受像シートSの表面をトナー粒子の帯電極性と逆極性に帯電する。 - 特許庁

The fluorine containing silicon oxide thin film is formed on a surface of a substrate 40 using a vapor phase growth process by introducing a mixture of oxygen plasma, fluorine containing silicon compound gas, and hydrogen containing silicon compound gas.例文帳に追加

酸素のプラズマに弗素を含む硅素化合物ガスと水素を含む硅素化合物ガスとを混合させて導入し、気相成長を利用して基板40の表面に弗素を含む酸化硅素薄膜を作成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an aluminum nitride thin film improved in surface flatness and chemical and electrical properties within a thin film even at low process temperatures by applying nitrogen plasma treatment to an aluminum nitride thin film.例文帳に追加

窒化アルミニウム薄膜を窒素プラズマ処理して、低い工程温度でも表面平坦度と薄膜内の化学的、電気的特性が大きく向上された窒化アルミニウム薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A catalyst layer is formed on a surface by using an arc plasma gun, thereafter, the catalyst layer is activated by using hydrogen radicals, and then, a carbon nanotube is grown on the activated catalyst layer by a CVD process.例文帳に追加

アークプラズマガンを用いて表面上に触媒層を形成した後、水素ラジカルを用いて該触媒層を活性化し、次いで活性化された触媒層上にCVD法によりカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

In a process S108, a material gas G1 containing hydrogen, trimethyl aluminum and ammonia in addition to nitrogen is supplied to a growth furnace 10 at time t5 to grow the AlN buffer layer 13 on a principal surface 11a.例文帳に追加

工程S108では、時刻t5において、窒素に加えて、水素、トリメチルアルミニウム及びアンモニアを含む原料ガスG1を成長炉10に供給して、主面11a上にAlNバッファ層13を成長する。 - 特許庁

A coating film made from a solid lubricant consisting of PTFE (polytetrafluoroethylene), molybdenum disulfide, or carbon, or a mixture thereof is provided through a baking process on the abutting surface of a revolving scroll 7 with a stationary scroll 6.例文帳に追加

旋回スクロール7と、固定スクロール6との当接面に、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)あるいは二硫化モリブデン、あるいはカーボン、またはこれらを混合した固体潤滑剤からなる皮膜を焼付処理により形成する。 - 特許庁

After the catalyst-formation treatment process, an electroless plating treatment step of forming an electroless-plated metal thin film by electroless plating on the surface of a resin material precipitated by the catalytic metal is performed.例文帳に追加

また、この製造方法は、触媒化処理工程の後に、触媒金属が析出した樹脂材料子の表面に、無電解メッキにより無電解メッキ金属薄膜を形成する無電解メッキ処理工程を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a rare earth magnet includes a process that makes a treating liquid containing acid having oxidizing property and boric acid and/or boric acid ion contact a surface of a magnetic element containing a rare earth element.例文帳に追加

好適な実施形態の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含む磁石素体の表面に、酸化性を有する酸、及び、ホウ酸及び/又はホウ酸イオンを含む処理液を接触させる工程を有する。 - 特許庁

After the lower electrode 106a of the capacitor is formed, a thermal oxidation process is performed so that impurity ions implanted into the lower electrode 106a of the capacitor are isolated on the upper surface of the lower electrode of the capacitor.例文帳に追加

キャパシター下部電極106aが形成された後、キャパシター下部電極106aに注入された不純物イオンがキャパシター下部電極の上部表面に隔離させるために熱酸化工程を遂行する。 - 特許庁

To enhance positional accuracy of connection lands formed on the outer surface of a multilayer ceramic board by wiring conductors, and also promote efficiency in a process for a solder resist mask with respect to the connection lands.例文帳に追加

多層セラミック基板の外表面上に形成される配線導体によって与えられる接続ランドの位置精度を高めるとともに、半田レジストのためのマスクを接続ランドに対して形成する工程の能率化を図る。 - 特許庁

Stereo three-dimensional (3D) left and right views are created from the image depth map using a created stereo Z-buffer based 3D surface recover process and a disparity map which is a function of the geometry of binocular vision.例文帳に追加

立体三次元の(3D)左・右視界が作成されるステレオ、Zバッファに基づく3D表面回復プロセスおよび両眼視覚の幾何学形状の関数である差マップを使用して画像奥行きマップから作成される。 - 特許庁

The manufacturing method for the polyvinyl alcohol film 3 comprises a process for winding the polyvinyl alcohol film 3 on a surface of a cylindrical core tube 1 after making the polyvinyl alcohol film 3 by using polyvinyl alcohol resin solution.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系樹脂溶液を用いてポリビニルアルコール系フィルム3を製膜した後、上記ポリビニルアルコール系フィルム3を円筒状芯管1の表面に巻き取る工程を備えたポリビニルアルコール系フィルム3の製法である。 - 特許庁

Dissolution of copper is selectively accelerated in a part from which the inhibitor absorbed by the surface is removed by polishing, thereby preferentially removing wiring layers from a projection part, and accelerating the planarization in a process of electrolytic polishing.例文帳に追加

表面に吸着したインヒビタが研磨により除去された部分で選択的に銅の溶解が促進されるので、配線層は凸部から優先的に除去され、電解研磨の過程で平坦化が促進される。 - 特許庁

To provide an optical waveguide substrate and its manufacturing method by which optical components are imbedded inside a resin-made optical waveguide layer through a simple structure and process and by which the surface of the optical waveguide layer can be made flat.例文帳に追加

簡易な構成及び工程によって、光学部品を樹脂製の光導波路層内部に埋め込み、且つ光導波路層表面を平坦にできる光導波路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the lens substrate comprises a process for forming a colored part on the surface of the lens substrate on which light is made incident by applying a coloring solution containing a coloring agent and benzyl alcohol.例文帳に追加

本発明のレンズ基板の製造方法は、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を付与して、レンズ基板の光が入射する面側に着色部を形成する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a high-power sandwiched ultrasonic transducer, particularly a new method for tuning the high-power sandwiched ultrasonic transducer without requiring trimming process on a contact surface.例文帳に追加

高電力サンドイッチ型超音波トランスデユーサを製造する方法であって、特に、接触面上でのトリミング処理を必要とすることなく高電力サンドイッチ型超音波トランスデユーサを同調する新規な方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an electronic device which includes a plating film forming process for preferentially burying a plating film in the recess of a substrate by an electroplating processing in a state where a surface is made almost flat.例文帳に追加

電解めっき処理により基材の凹部にめっき膜を優先的にかつ表面が略平坦化された状態で埋め込むことが可能なめっき膜形成工程を含む電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

In the solder plating process of semiconductor, smut deposited on the surface of the special copper alloy material at the time of treatment with an etching agent of fluoride free sulfuric acid-hydrogen peroxide is removed by jetting hydraulic jet water.例文帳に追加

半導体の半田メッキ工程において、フッ化物フリーの硫酸−過酸化水素のエッチング剤で処理したとき特殊銅合金材の表面に堆積するスマットを水圧ジェット水の噴射により除去する。 - 特許庁




  
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