「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(123ページ目) - Weblio英語例文検索

Following the step (b), an electrode pad disposed on the semiconductor chip 6 is connected to the upper surface of the thin wall 19 of each first lead 4a via a metal thin wire 9, thus executing the wire bonding process.例文帳に追加

工程（ｂ）の後、半導体チップ６に備えられた電極パッドと各第１のリード４ａとを金属細線９を介して、薄肉部１９の上面上でそれぞれ接続することで、ワイヤボンディング工程を行う。 - 特許庁

The recoating method has a process for forming an opaque film by coating the surface of the photocatalyst coating film, which contains rutile type titanium particles as photocatalyst particles and a binder, with opaque coating.例文帳に追加

本発明は、光触媒粒子としてのルチル型酸化チタン粒子とバインダーとを含む光触媒塗膜上に非透明塗料を塗布して非透明被膜を形成する工程を有するリコート方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etching method and apparatus which can improve the uniformity of planarity of each semiconductor wafer within one batch, and control fluctuation in amount of etching process for the entire surface of each wafer, in order to enhance nanotopography.例文帳に追加

１バッチ内での各半導体ウェーハの平坦度の均一化が図れ、しかも各ウェーハの面全体のエッチング量のバラつきを抑え、ナノトポグラフィーが高まる半導体ウェーハのエッチング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To produce a surface treated steel sheet having excellent pitting resistance under no coating and after electrodeposition coating, chemical convertibility and press formability without the falling of a film in a chemical conversion treating process on an automotive producing line.例文帳に追加

自動車製造ラインの化成処理工程で皮膜が脱落することなく、優れた無塗装及び電着塗装後の耐穴あき性、化成処理性並びにプレス成形性を有する表面処理鋼板を提供することにある。 - 特許庁

The transmissive hard protection layer 70 is formed by treating a transparent photosensitive hard coating material applied on the top surface of the photosensor chip 50 by a photoengraving process and covers the top of the sensing area 54.例文帳に追加

その透光性硬質保護層７０は、フォトセンサチップ５０の頂面に塗布された透明な感光性硬質塗布材を写真製版工程によって処理することから形成され、感知エリア５４上を被覆している。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer surface protection film which can be protected against damage even when the semiconductor wafer is made as thin as ≤200 μm, and to provide a production process of a semiconductor wafer employing that protection film.例文帳に追加

半導体ウェハが厚み２００μｍ以下に薄層化された場合であっても、その破損を防止し得る半導体ウェハ表面保護フィルム及び該保護フィルムを用いた半導体ウェハの保護方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ground electrode configuration capable of being produced by a simple process, easily entering light and being effectively operated as a ground surface in an antenna integrated element in which an optical signal is entered from the backside of a substrate.例文帳に追加

光信号を基板裏面から入射させる構成のアンテナ集積素子において、簡易な工程で製作でき、光入射が容易で、かつ、接地面としても有効に働く接地電極構成を提供する。 - 特許庁

The controller controls the elevating motor 17 so as to adjust the torque of the driving motor 15 to a predetermined value, in the cleaning process of bringing the cleaning roller 14 into contact with the inside surface Ti of the tread and rotating.例文帳に追加

制御装置は、研掃ローラ１４をトレッド内腔面Ｔｉに接触させかつ回転させる研掃工程において、駆動用モータ１５のトルクが予め定められた設定値となるように昇降用モータ１７を制御する。 - 特許庁

To accurately perform a handoff process between two robots and a load lock several times a minute to avoid particulate contamination on the reverse surface of a wafer due to the sliding of the wafer on a load lock platen.例文帳に追加

２つのロボットとロードロック間のハンド・オフ・プロセスは、１分間に数回行われ、ウェーハがロードロック・プラテン上を滑ってウェーハ裏面に微粒子汚染を起こすことを避けるために、非常に正確に行われなければならない。 - 特許庁

Then, the semiconductor substrate 1 which is formed with the coat film 12 is taken out from the wafer container, and undergoes a thin film formation process 13 after the coat film 12 is removed from the surface of the semiconductor substrate 11 by pyrolysis.例文帳に追加

そして、この被覆膜１２が形成された半導体基板１をウェハ容器から取り出し、被覆膜１２を熱分解により当該半導体基板１１表面から除去してから、薄膜形成工程１３を行う。 - 特許庁

To provide technology capable of firmly holding a semiconductor wafer, when holding the semiconductor wafer in order to process the back side of the semiconductor wafer to the surface side of which a protective member such as a BG tape is pasted.例文帳に追加

表面側にＢＧテープなどの保護部材が貼り付けられた半導体ウェハの裏面側を加工するために半導体ウェハを保持する際に、半導体ウェハをしっかりと保持することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a plastic optical product capable of enhancing contactness and abrasion resistance in forming antireflection films by a wet process on a hard coat layer surface of the plastic optical product.例文帳に追加

湿式法によって反射防止膜をプラスチック光学製品のハードコート層表面に形成させる際により密着性や耐擦傷性を向上させることが可能なプラスチック光学製品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide both an olefinic thermoplastic elastomer having excellent moldability without causing bleed of a process oil on the surface of a molded product even when passing through a change with time in a high-temperature state after molding and the molded product.例文帳に追加

成形後、高温状態で経時変化を経ても成形品の表面にプロセスオイルのブリードを生じることがなく、また成形性にも優れたオレフィン系熱可塑性エラストマーおよびその成形体を提供する。 - 特許庁

When the surface layer of the photoreceptor is irradiated with light from a low pressure mercury lamp as the light source 9, ozone and NOx generated in an electrifying process are efficiently decomposed with titanium dioxide as the photocatalytic material.例文帳に追加

励起用光源９としての低圧水銀ランプからの光を上記表面層に照射することで、帯電プロセスで発生するオゾンやＮＯｘが、光触媒物質としての酸化チタンにより効率良く分解される。 - 特許庁

Finally, the surface layer of the silicon substrate 1' including the phosphor diffusion layer 2 is removed whereby the solar cell is manufactured employing a silicon wafer obtained by a process wherein the re-mixture of the metallic impurities is prevented.例文帳に追加

そして最後に、リン拡散層２を含むシリコン基板１’表面層を除去することにより、金属不純物の再混入を防止するという工程によって得られるシリコンウエハを用いて太陽電池を製造する。 - 特許庁

Then, the hole is filled with a conductive film 96 which is substantially on the same level with the upper surface of the lower electrode seed layer and formed through an electroplating process in which the lower electrode seed layer is used.例文帳に追加

次いで、ホール内部を、下部電極用シード層の上部表面と実質的に同一なレベル上の導電膜９６を下部電極用シード層を用いた電気メッキ工程を行って形成することにより充填する。 - 特許庁

To provide a rewritable card processor that provides a high reliability for a rewritable process by determining the printed condition of a rewritable card through comparison between the print information of the rewritable card and image data on the card surface of the rewritable card.例文帳に追加

リライタブルカードの印刷情報とリライタブルカードの券面の画像データとを比較してリライタブルカードの印刷状態を判定することにより、リライタブル処理の信頼性の高いリライタブルカード処理装置を提供する。 - 特許庁

According to the principle of this invention, it becomes possible to form the low resistance metallic film on the whole surface of the data wiring and the source electrodes by using a diffracting exposure method in the process for patterning the data wiring and the source electrodes.例文帳に追加

本発明の原理に従えば、データ配線及びソース電極をパターンする工程で回折露光方式を用いて、データ配線及びソース電極の全面に低抵抗金属膜を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide an ink jet recording method in which a printing surface is not damaged even when an image with much ink volume is formed and a conveying mechanism is simple and which makes a printing process suitable for miniaturization possible.例文帳に追加

本発明の目的は、インク量の多い画像を形成した際でも印字表面を傷つけることがなく、搬送機構が簡素で小型化に適した印刷方法を可能にするインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To manage the characteristics of a semiconductor substrate in the fabrication process using a fabrication apparatus clustered in an environment isolated from the atmosphere and the thickness of a film formed thereon on the interface, in the film and on the surface.例文帳に追加

大気と絶縁された雰囲気でクラスタリングされた製造装置を用いた製造工程中における半導体基板と、その上に形成された膜の界面、膜中、表面及び膜厚の特性管理に関する。 - 特許庁

A female mold used in the embossing process can be made by a method wherein a electrode having an outer surface identical to that of the handle to be manufactured is formed and a mold body material is machined by electric discharge using the electrode.例文帳に追加

前記方法の型押し工程で使用する雌型は、製造されるべき柄と同一の外側表面を有する電極を形成し、前記電極を用いて型母材を放電加工して形成することができる。 - 特許庁

To provide low-carbon sulfur free-cutting steel which has superior machinability (finished surface roughness, in particular) despite its Pb-free state and can be manufactured with high productivity by a continuous casting process.例文帳に追加

Ｐｂフリーであっても良好な被削性（特に仕上げ面粗さ）を発揮すると共に、連続鋳造方法によって生産性良く製造することのできる低炭素硫黄快削鋼を製造するための方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the ferromagnetic metal powder includes a process which carries out wet classification of a minute particle which exists at least in either suspensions of after goethite generation reaction or after surface treatment to the goethite.例文帳に追加

ゲータイト生成反応後、及びゲータイトへの表面処理後の少なくとも何れかの懸濁液内に存在する微細な粒子を湿式分級する工程を含む、上記強磁性金属粉末を製造する方法。 - 特許庁

To provide a process for forming a catalyst metallization layer by substitution plating without causing any pit in the copper grain boundary and without enlarging its pit when a barrier film for preventing the spread of copper is formed on the copper surface.例文帳に追加

銅表面に銅の拡散を防止すバリア膜を形成する際に、銅の結晶粒界にピットを発生させることなく、そのピットを拡大することなく、置換メッキにより触媒金属層の形成を図る。 - 特許庁

An arithmetic part 5 executes a hidden surface elimination process to a normal polygon on the basis of a depth value and viewpoint coordinates from a viewpoint coordinate conversion processor 1, and updates a pixel memory 6 and a Z buffer memory 7.例文帳に追加

演算部５は、視点座標変換処理装置１からの視点座標および奥行き値に基づいて、通常ポリゴンに対する隠面消去処理を行い、ピクセルメモリ６とＺバッファメモリ７とを更新する。 - 特許庁

The manufacturing process of the article having the patterned defogging effect is achieved by forming a non-defogging film in patterns, on a defog-treated surface of the transparent see-through article or the light reflecting reflexible article.例文帳に追加

光が透過する透視性物品或いは光が反射する反射性物品の防曇処理された表面に、非防曇性の被膜をパターン状に形成するパターン状に防曇効果を有する物品の製造方法。 - 特許庁

This method comprises a process of exposing a substrate surface to water or alcohols before coating the coating liquid to a substrate by using the coating liquid containing silica sol where the density of water and alcohols are entirely ≤1 wt.%.例文帳に追加

水分およびアルコール類の濃度を全て１重量％以下とするシリカゾル含有塗布液を用いて、前記塗布液を基板へ塗布する前に基板表面を水またはアルコール類に晒す工程を有する。 - 特許庁

By setting the inside of a carboxylated latex film with a layer treated with a carboxyl group-blocking agent and by performing chlorination on the outer surface of the film, the preparation process enables to produce nonadhesive, detouchable emulsion latex articles.例文帳に追加

カルボキシル化ラテックス・フィルムの内面に、カルボキシル基封鎖剤処理層を設け、外面に塩素処理を施すことにより、非粘着性で着脱容易なエマルジョン・ラテックス製品を製造できることを見出した。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a nitride semiconductor light emitting element having a tapered surface by using a nitride semiconductor substrate in which high yield is ensured by suppressing cracking or chipping.例文帳に追加

本発明は、窒化物半導体基板を用いて、なおかつテーパー面の形成された窒化物半導体発光素子を、割れや欠けを抑制して高い歩留りで製造する方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

When optical products such as a light-management film are produced, an optical film having a micro-structure on its surface is formed by a molding process of a brominated polycarbonate material whose bromine content is 1 to about 45 wt.%.例文帳に追加

調光フィルムを始めとする光学物品を製造するに当たり、臭素含有量１〜約４５重量％の臭素化ポリカーボネート材料を成形加工して表面にミクロ組織を有する光学フィルムを形成する。 - 特許庁

In this process, an alteration product D that exists on the surface of the second cap layer 6 functions as a mask and can cause etching of the second cap layer 6 to stop when a crystal face having a low etching rate is exposed.例文帳に追加

このとき、第２のキャップ層６の表面に存在する変質物Ｄがマスクとして機能し、エッチングレートの低い結晶面が露出したところで第２のキャップ層６のエッチングが止まってしまうことが生じ得る。 - 特許庁

The method for manufacturing the nickel-based catalyst includes a process for heat-treating with steam a precursor obtained by depositing a compound containing nickel hydroxide and nickel carbonate by a precipitation method on a surface of a carrier.例文帳に追加

沈殿法によって水酸化ニッケルおよび炭酸ニッケルを含む化合物を担体の表面に沈着させて得た前駆体を、スチームによって加熱処理する工程を備える、ニッケル系触媒の製造方法。 - 特許庁

An ink recovery means 8 for recovering the ink left on the inner circumferential surface of a plate cylinder 2 just after a printing process and returning the recovered ink to an ink roller 22 is disposed in a downstream position slightly away from the printing nip part in the plate cylinder 2.例文帳に追加

版胴２内の印刷ニップ部から下流側へ僅かに離れた位置に、版胴２の内周面に残った印刷直後のインキを回収してインキローラ２２へ戻すインキ回収手段８を設ける。 - 特許庁

To provide an STM connector, capable of ensuring required coplanarity without setting up a coplanarity correcting process after being assembled, which is suitable for surface mounting to a printed board, and to provide a manufacturing method for the STM connector.例文帳に追加

組み立て後のコプラナリティ修正工程を設置しなくても、必要なコプラナリティを確保することの可能なプリント基板への表面実装に適合したＳＴＭコネクタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An indented part 113tR1 is provided on a side surface of a frame body in the direction of attachment of a second process cartridge B2 for high processing speed, and a projecting part 216f is provided in an attaching part of a corresponding second image forming device A2.例文帳に追加

プロセス速度の速い第２のプロセスカートリッジＢ２における装着方向枠体側面に凹部１１３ｔＲ１を設け、対応する第２の画像形成装置Ａ２の装着部に突起部２１６ｆを設ける。 - 特許庁

In the process C, the substrate is arranged so that the cutting blade is made to abut against the inner surfaces of the curved surface shapes s of the long edge trenches 7a, 7b of the guides, and cutting is made along the long edge trenches 7a, 7b of the guides, while carrying the substrate.例文帳に追加

Ｃ工程：切削ブレードがガイドの長辺溝７ａ、７ｂの曲面状内壁面ｓに当接されるように基板を配し、この基板を搬送しつつガイドの長辺溝７ａ、７ｂにそって切断する。 - 特許庁

To provide such a board for a recording medium that surface smoothness is given by a resin coating method which can reduce a polishing process and that problems such as the corrosion resistance in a non-coating part are solved.例文帳に追加

研磨工程の短縮化を図ることが可能な樹脂塗布法によって表面平滑性が付与され且つ非塗布部における耐蝕性などの問題が解決された記録媒体用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a process of processing a semiconductor wafer, by which back surface grinding of the semiconductor wafer having large unevenness is facilitated, the wafer is easily divided into individual chips and a sheet can be peeled without incurring any problem of remaining paste.例文帳に追加

凹凸の大きな半導体ウエハに対する裏面研削、およびチップ個片化が容易であるとともに、糊残り等の不具合なしに簡単にシートを剥離できる半導体ウエハの加工プロセスを実現する。 - 特許庁

To construct a slope face protection frame for protecting a slope of latticed mortar or concrete having a proper interval by a simple and easy process, optional in the height and a width from the ground surface, and having a definite shape.例文帳に追加

簡便かつ簡単な工程で適切な間隔を有し、地面からの高さ及び幅が任意で、且つ定形的な形状を有する格子状のモルタル或いはコンクリートの斜面保護用法枠を構築する。 - 特許庁

To provide an electronic component with bump electrode, which is provided with a surface protection insulating film with sufficient film thickness and a bump part with sufficient height and in which occurrence of an open failure can appropriately be reduced in a manufacture process.例文帳に追加

充分な膜厚の表面保護用絶縁膜および充分な高さのバンプ部を具備しつつ、製造過程においてオープン不良の発生が適切に低減されるバンプ電極付き電子部品を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a building material made from a fiber-reinforced plastics which does not necessarily require a coating process in applying a mat finishing and can keep a consistent surface appearance for a long term.例文帳に追加

ツヤ消し加工を施すにあたって塗装工程を必ずしも必要とせず、かつ、長期間に亘って一定の外観を維持することができる、繊維強化プラスチックからなる建材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for directly detecting the amount of toner deposited on the surface of the image forming element, thereby to provide more powerful tools for self-diagnosis and/or self-correction in an image forming device and process.例文帳に追加

画像形成要素の表面上に堆積したトナー量を直接検出する方法を提供し、よって画像形成装置及び処理におけるより強力な自己診断及び／又は自己訂正ツールを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition solution which has good storage stability of the resin, requires a short time of a reduced-pressure drying step, makes a slit nozzle less liable to dry, gives a good film surface, and is suitable for a slit die coater process.例文帳に追加

樹脂の保存安定性が良好で減圧乾燥工程時間が短く、スリットノズルが乾きにくく且つ塗膜表面が良好な、スリットダイコーター法に好適な感光性樹脂組成物溶液を提供すること。 - 特許庁

Consequently, workability is improved by omitting the process of fastening a tile crosspiece to the roof surface, and the excellent effect of consideration of environmental issues is exerted by reducing the number of used members.例文帳に追加

よって屋根面に対する瓦桟木のとめ付け工程を省略して施工性を向上させるとともに、部材の使用量を減らし環境問題についても考慮させているという優れた効果を発揮する。 - 特許庁

This invention concerns a highly efficient feat absorbing substrate, and includes formation of extrusions and indentations on the surface of the heat absorbing substrate and the etching medium used in this process. 例文帳に追加

この発明は、熱吸収効率の高い基板を得るためのものであって、スパッタリングによって熱吸収基板の表面をエッチングして凹凸を形成する方法と、その時に使用されるガス状エッチング媒体である。 - 特許庁