「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(124ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, a projecting height of a projecting part formed on the surface of the round groove 15 can be reduced, roll finishing can be uniformly performed in a post process in the range of the angle A and stable fatigue strength can be obtained.例文帳に追加

従って、Ｒ溝１５の表面に形成される突部の突出高さを小さくでき、角度Ａの範囲では、後工程でのロール仕上げを均一に行うことができ、安定した疲労強度を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for laser beam machining, by which method and apparatus, the surface of a workpiece can be machined and cleaned by the non-contact type operation without requiring high vacuum and with the dry process.例文帳に追加

非接触型で、必ずしも高い真空度を要することなく、かつドライプロセスによって部材表面の加工ならびに清浄化を図ることが可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of centrifugal casting concrete product by which the amount of discharged sludge is reduced, sludge water is recovered as it is, an inner surface is automatically finished and a good-quality product is manufactured in a centrifugal casting process of a concrete product.例文帳に追加

コンクリート製品の遠心成形工程において、排出スラッジ量を減少させ、スラッジ水をそのまま回収し、自動的に内面仕上げを行い、且つ良質の製品を製造する製造法を提供する。 - 特許庁

After the cover and the base are assembled, the pillar bodies of the base expose themselves by an appropriate length over the surface of the cover through the guide grooves of the cover, end parts of the pillar bodies protruding from the cover are formed with rivets in a secondary process.例文帳に追加

カバーとベースを組付けた後、ベースの柱体はカバーのガイドグルーブを通してカバーの表面に適宜な長さを露出させ、またこのカバーから突出した柱体の端部は、二次加工によりリベット部を形成する。 - 特許庁

Then, there is provided a heating process prior to sealing resin application (S2) for heating the aggregate board mounted with a plurality of the surface acoustic wave elements up to a temperature below the curing temperature of a sealing resin material that is a sealing resin before the completion of curing.例文帳に追加

複数の弾性表面波素子を実装した集合基板を、硬化完了前の封止樹脂である封止樹脂材の硬化温度未満に加熱する封止樹脂塗布前加熱工程（Ｓ２）を設ける。 - 特許庁

Relation among process speed, the surface resistivity of the intermediate transfer belt, primary transfer voltage and a distance from a primary transfer part T1 to the cleaner container C is regulated by a numerical expression (In(Vtr)-L1/(v×logρs)).例文帳に追加

そして、プロセススピード、中間転写ベルトの表面抵抗率、一次転写電圧、及び一次転写部Ｔ１からクリーナ容器Ｃまでの距離の関係を数式（ｌｎ（Ｖｔｒ）−Ｌ１／（ｖ×ｌｏｇρｓ））で規定する。 - 特許庁

To reduce the size and cost of a conveying mechanism, and to accurately position a substrate and mount it on a support pedestal preventing flaw and waste adhesion on the substrate surface, in a conveyance work in a substrate manufacturing process.例文帳に追加

基板製造工程における搬送作業に関し、搬送機構のダウンサイズ、コストダウンを図るとともに、基板表面に傷をつけず、ゴミ付着を生じさせず、正確に基板を位置決めしてから支持台へ搭載する。 - 特許庁

To provide a metallic mask for spray coating which is capable of efficiently preventing a coating liquid stuck on the surface of the mask during spray process from running along the inner wall of a pattern forming hole to flow into a gap between the mask and a material to be coated.例文帳に追加

スプレー工程時にマスク表面に付着した塗布液が、パターン形成用孔の内壁を伝ってマスクと被塗布物との間に流れ込むことを効率的に防止し得るスプレー塗布用メタルマスクを提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the magnetic probe has a film formation process for forming a film of a magnetic material 7 on the surface of the probe base material 1 having the tip part 1a by the atomic layer deposition method.例文帳に追加

また、本発明による磁性探針の製造方法は、先端部１a有する探針基材１の表面に、原子層堆積法により磁性材料７を成膜する成膜工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a device and a method for measuring surface condition, capable of introducing infrared rays, at an appropriate angle, into an appropriate position on a slant part on the periphery of a semiconductor wafer without adversely affecting the throughput of the entire process.例文帳に追加

工程全体のスループットに悪影響を与えることなく、半導体ウェハの周縁の傾斜部の適切な位置に適切な角度で赤外線を入射しうる表面状態測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic EL display element that can endure the treatment necessary for cleaning of electrode surface and that has a barrier rib to avoid the contamination from the vacuum process and further, that has a negative electrode of low electric resistance.例文帳に追加

電極表面清浄化のために必要な処理に耐える上、真空プロセス中のコンタミネーションを避ける隔壁を備え、さらに低電気抵抗の陰極電極を有する有機ＥＬ表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a patterned medium which has a satisfactory embedded shape and low surface roughness Ra and wherein irregularity of a magnetic body is embedded in a non-magnetic embedding layer in which production of process dust can be suppressed during film-deposition.例文帳に追加

埋め込み形状が良好で、表面粗さＲａが小さく、成膜時にプロセスダストの発生を抑えることができる非磁性埋め込み層で磁性体の凹凸が埋め込まれたパターンド媒体を提供する。 - 特許庁

Further, in the method of operating the multicolor printer equipped with at least one sheet guiding cylinder, the varnish repellent medium is applied to the surface of the sheet guiding cylinder by using the coating apparatus during the printing process.例文帳に追加

さらに、少なくとも１つの枚葉紙案内胴を備えた多色印刷機を運転する方法において、印刷プロセス中、コーティング装置を用いて、撥ニス性の媒体を枚葉紙案内胴の表面に施すようにした。 - 特許庁

By this three- stage treatment in a heat treating process, the surface of an emulsion layer will not peel in working, such as cutting, the objective heat developable photosensitive material which is superior in photographic performance is obtained, and productivity is increased.例文帳に追加

この熱処理工程での３段階処理により、裁断等の加工時に乳剤層面が剥離することがなく、写真性能に優れた熱現像感光材料を得ることができると共に、生産性も向上する。 - 特許庁

To remove deposits on the surface of raw material particulate powder in the production of a composite structure by an aerosol deposition process, and to achieve the improvement of the strength of the structure to be produced and the prevention of the intrusion of impurities.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法による複合構造物作製において、原料微粒子粉体の表面の付着物を除去し、作製される構造物の強度の向上、不純物の混入の防止を行う。 - 特許庁

In a quality determining preparatory process, the crystal D1 illuminated by the illuminator 1r or the illuminator 2r is photographed by the camera 1 and the obtained image is used to detect the placing direction of the crystal D1 or the area of the specific surface of the crystal D1.例文帳に追加

品質判定の予備工程として、照明1rや照明2rで照らした結晶体D1をカメラ1で撮影し、得られた画像を用いて結晶体D1の載置方向や特定の面の面積を検出する。 - 特許庁

This light-emitting device has the fluorescent substance 21 of which the surface is covered with a covering material 22 having quality different from that of the fluorescent material by a chemical vapor-phase reaction process, wherein any one of a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride is used as the covering material.例文帳に追加

蛍光体２１の表面を、化学気相反応法によって蛍光体と材質の異なる被覆材２２で被覆し、被覆材は金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかである。 - 特許庁

To provide a process for producing an electrophotographic photoreceptor which makes it possible obtain good image printing quality by coating application formation of a layer which is free of coating application defects to be the cause for image printing defects and is uniform over the entire surface of a conductive substrate.例文帳に追加

印字不良の原因となる塗布欠陥がなく、導電性基体全面にわたり均一な層を塗布形成し良好な印字品質が得られる電子写真感光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the oxidation film forming process, a furnace throat part 40 is baked to grow an oxide film 28 on the surface of a flange part 27 and a cap part 30 configuring a furnace throat part metal part 41, and to improve corrosion resistivity.例文帳に追加

酸化膜形成工程では、炉口部４０をベーキングすることにより、炉口部金属部品４１を構成するフランジ部２７、キャップ部３０の表面に酸化膜２８を成長させ、耐腐食性を向上させる。 - 特許庁

To obtain a single surface paper/phenol resin/copper clad laminated sheet reduced in the generation of warpage even if a peak temperature is raised to a temperature suitable for lead-free soldering in a reflow process for mounting an electronic part using lead-free solder.例文帳に追加

鉛フリーはんだを用いて電子部品を実装するリフロー工程において、ピーク温度を鉛フリーはんだに適した温度に上げても、反り発生の小さい片面紙フェノール樹脂銅張積層板を得る。 - 特許庁

In a process (d), after forming an oxide film 9 and an interlayer film 10 in this order over the whole surface including the WSi layer 7 and the oxide film 6, the contact hole 11 is opened in the films 9, 10 present on the foregoing pattern of the WSi layer 7.例文帳に追加

工程（ｄ）で、ＷＳｉ層７を含む表面全体に酸化膜９及び層間膜１０をこの順序で形成した後、上記パターニングしたＷＳｉ層７の上部にコンタクトホール１１を開口する。 - 特許庁

In a fitting process of first and second housings 10 and 30, a lock arm 36 is elastically-deflected in an unlocking direction intersecting with a fitting direction of the housings 10 and 30 when the lock arm 36 slidably contacts an induction surface 17 of a lock part 16.例文帳に追加

両ハウジング１０，３０の嵌合過程では、ロックアーム３６が、ロック部１６の誘導面１７上を摺接することにより両ハウジング１０，３０の嵌合方向と交差するロック解除方向へ弾性撓みする。 - 特許庁

For increasing the forming rate of polar functional groups on the surface of the insulating base material 4 at the time of the plasma bombardment by controlling these managing items, the d.c. bias voltage in the process of the plasma bombardment is managed or controlled.例文帳に追加

これらの管理項目を制御することで、プラズマボンバードの際に絶縁性基材４の表面での極性官能基の生成率が高まるように、プラズマボンバード中の直流バイアス電圧を管理または制御する。 - 特許庁

An adhesive solution is applied to the upper surface of a mold release film 1 comprising a polyethylene terephthalate film using a roll-to-roll process and the coated film is passed through a drying oven 500 set to 60-150°C to form an adhesive layer 2.例文帳に追加

ロールトゥロール工程を用いてポリエチレンテレフタレートフィルムからなる離型フィルム１上に接着剤溶液を塗布し、６０℃〜１５０℃に設定された乾燥炉５００を通過させ、接着剤層２を形成する。 - 特許庁

After separating or removing the slag produced in the steelmaking process and containing ≥0.001 mass% Pb from the surface of molten steel, a heating treatment is applied to melt this slag, and thereafter, the slag composition is adjusted so s to satisfy the following formula (1).例文帳に追加

製鋼工程で発生しPbを 0.001mass％以上含むスラグを、溶鋼の浴面上から分離あるいは除去した後に加熱処理して溶融させ、その後、下記(1) 式を満足するようにスラグ組成を調整する。 - 特許庁

In the resin printing process, the resin paste 27 is printed even on an enlarged area 35 consisting of hole areas 31 and a surrounding area 33 on the top surface 25 as to some adjacent through holes 11.例文帳に追加

そして、樹脂印刷工程では、一部の隣り合う複数の貫通孔１１については、表面２５のうち、各孔領域３１と包囲領域３３とからなる拡大領域３５上にも、樹脂ペースト２７を印刷する。 - 特許庁

To provide a diaphragm for an electric-acoustic transducer capable of reducing the cost, simplifying production process management and superior to a high environment friendliness without using of forming agent, and capable of improving the surface finish and printing quality and the like.例文帳に追加

発泡剤を用いる必要がなく、コスト低減、製造工程管理の容易化、対環境性に優れ、また、表面の質感や印刷品質などを向上させた電気音響変換器振動板を提供する。 - 特許庁

By employing such a constitution, the inclination sensor 10 can be manufactured, by using a manufacturing process of a built-up multilayer substrate, and the surface of the layer 34 as the rolling face of the body 16 can be formed into a flat face with high accuracy.例文帳に追加

これにより傾斜センサ１０を、ビルドアップ多層基板の製造プロセスを利用して製造可能とし、転動体１６の転動面である第２導電層３４の表面を平面状に精度良く形成可能とする。 - 特許庁

When the surface temperature of the photosensitive drum 11 is within the range of 30 to 35°C, an image formation process by image formation units 12Y to 12K is started and drying time of a toner image is shortened without generating poor electrostatic charge.例文帳に追加

感光体ドラム１１の表面温度が３０〜３５℃の範囲の場合に、画像形成ユニット１２Ｙ〜１２Ｋによる画像形成プロセスを開始し、帯電不良を生じることなくトナー画像の乾燥時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a film processing apparatus for processing the surface of a film formed with bumps which can process the film so that heights of the bumps may be uniformed regardless of the roughness, density, and profile of the film.例文帳に追加

バンプが形成されたフィルムの表面を加工するフィルム加工装置であって、フィルムの粗さ、密度および形状に関わらずバンプ高さを均一に加工可能なフィルム加工装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electronic source substrate in which the number of process are few by means of ink-jet liquid droplet application system and in which a surface conduction type electron emitting element is formed stably at a low cost with high yield.例文帳に追加

インクジェット液滴付与方式によって、工程数も少なく、安定的に歩留まり良くかつ低コストで表面伝導型電子放出素子を形成する電子源基板製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for preventing a running out of gaseous raw material in a process in which a deposited film is formed or an etching is proceeded in correspondence with the kind of gas by irradiating the surface of a specimen with a beam in the environment of the gas.例文帳に追加

ガス雰囲気中の試料表面にビームを走査し、ガス種に応じたデポジション膜の形成やエッチンク加工を行うに際し、工程の途中でガス原料が無くなるのを防ぐための装置を提供すること。 - 特許庁

As the etching reaction advances, the concentration of the fluorine radical decreases, and in due course, an atmosphere in the reaction vessel is replaced by the thin-film formation process gas, a deposition reaction is started, and a film grows on the thin-film formation surface of the substrate.例文帳に追加

エッチング反応の進行によりフッ素ラジカルの濃度は減少し、やがて、薄膜形成用プロセスガスに反応容器内の雰囲気が置換されて、堆積反応が開始し、基板の被形成面に膜が成長する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an aquatic dispersion element for chemical mechanical polishing, capable of quickly polishing without substantially damaging a surface to be polished, especially in a chemical mechanical polishing process of STI.例文帳に追加

特にＳＴＩの化学機械研磨工程において、被研磨面に実質的に研磨傷が発生せず且つ高速に研磨することのできる化学機械研磨用水系分散体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a bag state knitted fabric capable of being used as a bag by forming its bottom surface part with closing the lower end of a cylindrical knitted fabric by using a conventional circular knitting machine without providing a sewing process.例文帳に追加

筒状編地の下端を閉じて底面部を形成し、袋物としての利用を可能とした袋状編地を、従来の丸編機を用いて、縫製の工程を設けることなく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide member that is capable of restraining deterioration of an optical signal, and omitting a process of high-precision finishing of an outer surface area on which light is emitted, when a connection is made with an external optical component.例文帳に追加

光導波路部材において、外部の光学部品との接続作業に際し、光信号の劣化を抑制しつつ、光を出射する外表面領域の高精度の仕上工程を省略できるようにする。 - 特許庁

To provide a plastic hollow double-wall structural body for strongly supporting and fixing a reinforcing material by folding a tongue piece of a cutout part along the surface of the reinforcing material in a process for inserting the reinforcing material from the cutout part.例文帳に追加

切込部から補強材を挿入する過程で切込部の舌片が補強材の面に沿って折り込まれて補強材が強固に支持固定されるプラスチック製中空二重壁構造体を提供する。 - 特許庁

The prescribed number of coins C are changed in the path downward along an inner wall surface 2A of a base side plate 5 from an upper guide face 2C in the process where the normal coins are made to respectively pass through a coin ejection slot 2B of a coin ejecting part 2.例文帳に追加

所定個数の正規コインＣは、それぞれコイン排出部２のコイン排出口２Ｂを通過する過程で上部ガイド面２Ｃによりベース側板５の内壁面２Ａに沿って下方に方向転換される。 - 特許庁

To prevent a drum shutter from being opened, which occurs in such a situation that when a process cartridge taken out of a main body is placed on a flat surface, such as of a desk, with the drum shutter facing up, with the opening/closing projections of the drum shutter as mounting parts.例文帳に追加

本体から取り出したプロセスカートリッジをドラムシャッターを上側にして、机などの平面上に置いたとき、ドラムシャッターの開閉突起が載置部となって、ドラムシャッターが開いてしまうことを防止する。 - 特許庁

The process for producing an Si_(1-v-w-x)C_wAl_xN_v substrate comprises the steps of providing a dissimilar substrate (11) and growing a Si_(1-v-w-x)C_wAl_xN_v layer having a main surface on the dissimilar substrate (11).例文帳に追加

本発明のＳｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v基材の製造方法は、異種基板１１を準備する工程と、異種基板１１上に、主表面を有するＳｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v層を成長させる工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a peeling method by which a disk and the whole surface of a sheet can be surely peeled off when the disk is peeled from the sheet in a manufacturing process of an optical disk, further, the disk and the sheet are never closely adhered again after the peeling.例文帳に追加

光ディスクの製造工程において、ディスクとシートを剥離する際に、ディスクとシートの全面を確実に剥離でき、さらに剥離後はディスクとシートが再び密着することのない剥離方法を提供する。 - 特許庁

The exterior repair method for a building comprises the step of forming the color matching coating 4 and the hard coating 5 in a single process on the whole surface of the exterior 2 after mixing the coating for executing the color matching coating 4 and the coating agent.例文帳に追加

色あわせの塗装４を行なう塗料と、コーティング剤とを混合して外装２表面全体に１工程で色あわせの塗装４と硬化皮膜５の形成とを行なう建物の外装補修方法。 - 特許庁

To provide an anodic oxidation process for efficiently anodizing only a predetermined range of outer surface in the axis direction of a columnar or tubular substrate to be treated, by forming a reaction chamber containing only the portion, and provide an apparatus.例文帳に追加

柱状や筒状の被処理体の外周面軸方向所定範囲のみを内包する反応チャンバーを形成し能率的に陽極酸化処理する陽極酸化処理方法および装置の提供。 - 特許庁

Further, the manufacturing method (2) of carrier has a process of forming the cover layer on the surface of core material, in which at least a resin for cover is dissolved or dispersed in a super-critical or subcritical fluid to form the cover layer.例文帳に追加

（２）芯材表面に被覆層を形成する工程において、超臨界乃至亜臨界流体中で、少なくとも被覆用樹脂を溶解乃至分散させて被覆層を形成する（１）記載のキャリアの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for improving the strength of an aluminum alloy base material by forming a strengthening layer on the surface of the aluminum alloy base material by a non-melting process with which the adhesion of a film is tight, and the peeling thereof is not caused.例文帳に追加

皮膜の密着力が強く剥離のない非溶融プロセスによってアルミニウム合金基材の表面に強化層を形成し、アルミニウム合金基材の強度を向上させる方法を提供する。 - 特許庁