「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(140ページ目) - Weblio英語例文検索

In a grinding process for continuously grinding the carried magnetic layer of the rolled web 20 of the magnetic tape with the diamond wheel 82, a grinding wheel surface 83 of the diamond wheel 82 is cleaned by a rotary brush 84 provided in the diamond wheel 82.例文帳に追加

搬送される磁気テープ原反２０の磁性層をダイヤモンドホイール８２で連続的に研削する研削工程上で、ダイヤモンドホイール８２に付設した回転ブラシ８４でダイヤモンドホイール８２の砥石８３をクリーニングするようにした。 - 特許庁

To prevent loss in an SAC nitride film formed on an upper portion of a gate and improve the hump characteristics of a transistor in a planarizing process of an interlayer dielectric for subsequent formation of a contact plug, even if a surface roughness exists on a metal silicide layer.例文帳に追加

金属シリサイド層に表面粗さが存在しても、後続のコンタクトプラグの形成のための層間絶縁膜の平坦化工程の際、ゲートの上部に形成されたSAC窒化膜の損失を防止し、トランジスタのハンプ特性を改善すること。 - 特許庁

To enhance the uniformity of the amount of processing on a wafer, especially, in the inner area and the periphery of the wafer, while keeping high processing efficiency, concerning the planalizing technique of the surface pattern of the wafer used in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造工程で用いられるウェハの表面パターンの平坦化技術に関して、高い加工能率を維持したまま、ウェハ面内、特にウェハ周辺部での加工量の均一性を向上させる。 - 特許庁

A process for accumulating the insulating protective film on the semiconductor substrate is performed, and the surface of the insulating protective film is dry-etched, and the tip of the bump 5 is removed to form a second insulating protective film 6 coating the barrier metal layer.例文帳に追加

半導体基板上に絶縁性保護膜を堆積する工程と、前記絶縁性保護膜表面をドライエッチングして、バンプ５の先端部分を除いてバリアメタル層を被覆する第２の絶縁性保護膜６を形成する。 - 特許庁

The drill or the phillips screwdriver bit is attached at the front and back surface, and the drilling and the screw-driving can be performed in the same process by rotating the drill body on 3 (rotary base) of the figure of the grip upper part by 180 degrees.例文帳に追加

前面と背面にキリ・ドリルもしくは、プラスドライバー・ビットが取り付けられるものであり、本体ドリルがグリップ上部の図１の３（回転台）で１８０度回転することによって、穴開けとビス打ちが同工程で出来るものである。 - 特許庁

Subsequently, the solder is embedded to form a solder layer 8 to the aperture 5a where the close contact film 7 is provided under the condition that the solder layer 8 overflows to the upper part of the front surface of the resist mask 5 and the reflow process is conducted to the solder layer 8.例文帳に追加

続いて、密着膜７が設けられた開口部５ａに、レジストマスク５の表面よりも上方にはみ出す状態で、はんだを埋め込んではんだ層８を形成するとともに、はんだ層８のリフロー処理を行う。 - 特許庁

To provide a reverse cell type ice maker in which water is sprayed onto the surface of a water pan in order to eliminate adhesion of ice to the water pan upon finishing ice making before entering a process for separating ice blocks by inclining the water pan.例文帳に追加

逆セル型製氷機の製氷の終了後に水皿の表面に散水し、前記水皿への氷の付着を無くしてからこの水皿を傾動させる離氷工程に入るようにした逆セル型製氷機を提供する。 - 特許庁

In a process (c), the case 1 is placed on a lower punch 16, the whole surface of the aluminum alloy disk 2 is pressed by an equal force by using an upper formal compression bonding punch 17, and so that the aluminum alloy disk 1 is crushed to make its thickness thin.例文帳に追加

（ｃ）の工程で下パンチ１６にケ−ス１を載置し、上本圧着パンチ１７によりアルミ合金円板２の表面全体を均等な力で押圧し、アルミ合金円板２を押し潰すようにして厚みを薄くする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer manufacturing method and apparatus, capable of obtaining high planarity surface of a semiconductor wafer at a low cost, even by single-side polishing as well as by double-side polishing, without having to additionally provide a process of forming a protective film such as an LTO or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハの製造方法及び製造装置において、ＬＴＯ等の保護膜を形成する工程を追加する必要が無く、片面研磨でも低コストで両面研磨と同様の高平坦度を得ること。 - 特許庁

When a plurality of conductive metal plates 4 are used, the orientation of the surface mount magnetic core is eliminated to improve the conditions for positioning the conductive metal plates, and thereby a process of aligning directions can be omitted.例文帳に追加

また、該導電性金属板を複数用いる場合、導電性金属板の配置条件を改良することにより表面実装型磁心の方向性をなくし、表面実装時の向き合せといった工程をなくすことが可能となる。 - 特許庁

The electronic component manufacturing method includes a step of forming a composite ink pattern layer on the mold releasing surface of a transfer board using a letterpress offset process, followed by simultaneous inversion transfer of the composite ink pattern layer onto a matter to be printed.例文帳に追加

凸版オフセット法を用いて転写板の離型性面上に、複合インキパターン層を形成した後、該複合インキパターン層を被印刷体上に同時に反転転写する工程を有する電子部品の製造方法。 - 特許庁

In this airbag device M1 for the knee protection, an airbag 26 stored by being folded up under a steering column 3, deploys and inflates while lifting along a column cover under surface 9a from the lower side of the steering column 3 in an inflating process.例文帳に追加

膝保護用エアバッグ装置Ｍ１では、ステアリングコラム３の下方に折り畳まれて収納されたエアバッグ２６が、膨張過程で、ステアリングコラム３の下方側からコラムカバー下面９ａに沿って上昇しつつ、展開膨張する。 - 特許庁

To provide a multi-color impression printing device which can precisely perform a printing registration process, even when meshy cells are formed in the surface of each plate cylinder, and a multi-color impression printing method and a printing register mark.例文帳に追加

各版胴の表面に網目状の窪み（セル）が形成されている場合であっても、印刷の見当合わせを精度良く行うことができる多色刷り印刷装置、多色刷り印刷方法ならびに印刷見当マークを提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive method having simple production process for efficiently preventing the penetration of a hydrophilic coating material to the surface of a low-density bulky paper; and to provide a light-weight bulky coating base paper for printing and a coated paper thereof by using the method.例文帳に追加

低密度嵩高紙表面に効率良く親水性塗料の浸透を抑制するための安価かつ製造工程が簡略な方法、更にそれにより印刷用の軽量嵩高な塗工原紙及びその塗工紙を提供する。 - 特許庁

The conduction is ensured at all times even when the optical adjustment is completed finally, so that it is possible to ensure conduction without deteriorating the configuration of a mirror surface owing to a new contact in a final process such as mounting a conductive wire.例文帳に追加

最終的に光学調整が完了した段階においても常に導通がはかられているので、最終工程で導線を取り付けるなどの新たな接触でミラー面形状を劣化させる恐れなく、導通をとることができる。 - 特許庁

In a rotating lamination process, an iron core sheet 2 is laminated on a top surface of an iron core sheet group 3 with a torque being given by a rotating die, and there may be some remaining torque (rotational inertia) at lamination.例文帳に追加

回転積層工程において、鉄心薄板２は、回転ダイにより回転力を与えられて鉄心薄板群３の上面に着座するのであるが、着座時点で回転余力（回転慣性）を残している場合がある。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical film has the projection reforming process for forming the flat face at the front end of the projection by pressing a smooth roll 4 on an unevenness forming face of a polymer film 1 on the surface of which an unevenness is formed.例文帳に追加

表面に凹凸が形成されたポリマーフィルム１の凹凸形成面に平滑ロール４を押し当てて、凸部の先端に平坦面を形成する凸部矯正工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

The divulged form of the invention settles the conventional technical issue by excluding whatever catalytic activity on the surface of the silica in the process of acquiring the image color fading fastness and the moisture fastness through a chemical modification of the silica.例文帳に追加

開示した実施態様は、シリカの化学的な変性によって画像退色及び湿気堅牢度に向かうシリカ表面のいかなる触媒活性も排除するという点において従来技術における課題を解決する。 - 特許庁

With this spectrum, a process for obtaining a signal intensity ratio of a plurality of elements is performed for a plurality of times, etching the standard sample surface in parallel, and a calibration curve indicating the distribution of the signal intensity ratio of a plurality of elements in the standard sample.例文帳に追加

このスペクトルから、複数の元素の信号強度比を求める工程を、標準試料表面をエッチングしながら複数行い、標準試料における複数の元素の信号強度比の分布を示す検量線を作成する。 - 特許庁

The lighting fixture for vehicle made of an aluminum alloy, which contains at least silicon and is cast by using a die casting process, is heated, thus silicon in the surface layer of the lighting fixture for a vehicle made of an aluminum alloy is oxidized, so as to form a silicon oxide layer.例文帳に追加

ダイカスト法を用いて鋳造された少なくともシリコンを含むアルミ合金製車両用灯具を加熱することにより、前記アルミ合金製車両用灯具表層のシリコンを酸化させ酸化シリコン層を形成する。 - 特許庁

To provide an air component control method for a working atmosphere, not requiring a second protective film on the surface of a protective layer, and dispensing with an aging process, or remarkably reducing the time required for aging.例文帳に追加

保護層の表面に第２保護膜を形成する必要がなく、しかも、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができる、作業雰囲気の空気成分制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite false-twist yarn excellent in the process passableness in undergoing a weaving/knitting because of being in convergence while being capable of giving woven/knitted fabrics afforded with firm texture owing to the convergence, imparted with dry touch and having varied surface properties.例文帳に追加

織編物としたとき集束性によってハリ・コシを持たせ、ドライ感を付与し、さらに表面変化を生みだしながら、集束性しているため、製編織時の工程通過性に優れた複合仮撚糸を提供すること。 - 特許庁

As the frictional material 20 is blown to the metal core plate 40 in a charged state in the temporarily attaching process, the frictional material 20 is firmly temporarily attached to the surface of the core metal 40 by a static electric force.例文帳に追加

仮付着工程において、摩擦材原料２０は帯電させられた状態で金属製の芯板４０に吹付けられるので、摩擦材原料２０は静電気力によって芯金４０表面に強固に仮付着される。 - 特許庁

In this treatment process, the temperature leveling of the second optical element is performed under the same condition as the first optical element 15 and the optical surface shape of the second optical element is measured under the same condition as the first optical element in the same way to evaluate the degree of the shape error of the second optical element.例文帳に追加

この処理工程では第１の光学素子１５と同一条件で温度ならしをしたのち同じく第１の光学素子と同一条件で光学面形状を測定して形状誤差の程度を評価する。 - 特許庁

Thus, there is no need to process a recess-projection corresponding to a shape of the dynamic pressure generating part in an inner mood for molding the inner peripheral surface 8a of the bearing member 7, and since the inner mold is sufficient in a true circular shape, manufacturing cost of the inner mold is reduced.例文帳に追加

これにより、軸受部材７の内周面を８ａ成形する内型に、動圧発生部の形状に対応させた凹凸を加工する必要は無く、真円形状で足りるので、内型の製作コストが安価なものとなる。 - 特許庁

The image processing system includes a means/step for recognizing the illuminating light applied to a display surface on which the display image is displayed, and a means/step for subjecting the display image to a predetermined process according to information about the illuminating light recognized.例文帳に追加

表示画像が表示される表示面に照射された照射光を認識する手段／ステップと、当該認識された照射光に関する情報に応じて表示画像に所定の処理を施す手段／ステップとを備える。 - 特許庁

Shot peening is a process whereby countless small metal particles strike a metal surface at high speed, which greatly increases the metal’s fatigue strength. It is mostly used for the manufacturing of motor vehicle suspensions and gears. 例文帳に追加

ショットピーニングは、無数の金属粒を高速度で金属表面に衝突させる加工の一種であり、この加工を施すと、疲労強度向上等の効果が得られることから、主に、自動車のサスペンション、歯車の製造で利用されている。 - 経済産業省

A control unit 8 introduces gas for cleaning by the gas introduction system 3 after completion of etching, forms plasma by the means 4 for plasma formation, and removes a film deposited on an exposure surface in the process chamber 1 by the action of plasma.例文帳に追加

制御部８は、エッチング終了後、クリーニング用ガスをガス導入系３により導入し、プラズマ形成用手段４によりプラズマを形成して、プロセスチャンバー１内の露出面に堆積した膜をプラズマの作用により除去する。 - 特許庁

While having a water-repellent surface left on an insulating film surface at least in an operation region, the organic transistor which has the organic semiconductor layer containing at least one organic semiconductor material on an insulating film has a hydrophilic surface in the other region, and then the organic semiconductor layer is formed by the coating method to make the formation by a solution process possible, thereby manufacturing the organic transistor having no electric charge trap.例文帳に追加

絶縁膜上に少なくとも一種の有機半導体材料を含む有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、絶縁膜表面に少なくとも動作領域に疎水性表面を残したまま、その他の領域を親水性表面とした後、塗布法により有機半導体層を形成することにより、溶液プロセスによる形成を可能とし、電荷トラップのない有機トランジスタを作製できる。 - 特許庁

In the anodizing process, the cathode 25 is arranged opposite to the other surface side of the semiconductor substrate 10 and a mask for patterning is designed so as to form a light intensity distribution in accordance with a desired lens shape on the other surface of the semiconductor substrate 10 and is arranged between a light source 30 composed of a tungsten lamp and the other surface of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

陽極酸化工程において半導体基板１０の上記他表面側に対向配置される陰極２５が、半導体基板１０の上記他表面に所望のレンズ形状に応じた光強度分布を形成するように設計されてタングステンランプからなる光源３０と半導体基板１０の上記他表面との間に配置されるマスクを構成するようにパターン設計されている。 - 特許庁

This replenishing method of the processing liquid is used for processing a material 1 having a surface containing an emulsion and a surface containing no emulsion and is a method capable of accelerating the processing of the material 1 and keeping the sensitometry of the treating liquid by including a process for directly adding the replenishing liquid to the surface of the material 1 by an applicator 6 arranged at the emulsion side of the material 1.例文帳に追加

乳剤を含む表面と乳剤を含まない表面とを有する材料を処理するために用いられる処理液の補充方法であって、前記材料の乳剤側に配置したアプリケーターにより補充液を前記材料の表面に直接添加する工程を含むことによって前記材料の処理を促進し且つ前記処理液のセンシトメトリーを維持することを特徴とする方法。 - 特許庁

A controller means 70 of the printer 1 supplies the toner to the surface of a photoreceptor drum 21 from a developing means 23 within a non-transfer period to a paper sheet P and cleans the surface of the photoreceptor drum 21 by a cleaning means 30 using the toner, thereby executing the refresh process of refreshing the surface of the photoreceptor drum 21.例文帳に追加

プリンタ１の制御手段７０は、用紙Ｐへの非転写期間内で、現像手段２３から感光体ドラム２１表面にトナーを供給し、そのトナーを用いてクリーニング手段３０によって感光体ドラム２１表面をクリーニングすることで感光体ドラム２１表面をリフレッシュするリフレッシュ工程を実行し、このリフレッシュ工程に対してはイエロートナーを用いるように現像手段２３を制御する。 - 特許庁

In the manufacturing process of a piezoelectric actuator 16A where a lower electrode film 30, a piezoelectric film 32, and an upper electrode film 34 sequentially overlie a substrate 22 having an insulating layer 26 on the surface, a plurality of upper electrode films are led out individually to the surface different from the surface where the upper electrode film is arranged and then interconnected as a common electrode.例文帳に追加

表面に絶縁層２６が形成された基板２２上に下部電極膜３０、圧電体膜３２、及び上部電極膜３４が順次積層された圧電アクチュエータ１６Ａの製造方法であって、複数の上部電極膜を上部電極膜が配置される面とは異なる面にそれぞれ個別に引き出してから互いに接続して共通電極とする圧電アクチュエータの製造方法の提供。 - 特許庁

The process for producing a surface-modified expandable polystyrene resin particles comprises wetting with water the surface of an expandable polystyrene resin particles produced by impregnating the same with a blowing agent and then adding 0.4-3.5 pts.wt. plaster particle based on 100 pts.wt. expandable polystyrene resin particles and stirring to coat the surface of the expandable polystyrene resin particles with plaster.例文帳に追加

本発明の表面改質発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の製造方法は、発泡剤を含浸させてなる発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の表面を水で濡らし、次いで発泡性ポリスチレン系樹脂粒子１００重量部に対して、０．４〜３．５重量部の石膏粒子を添加してかき混ぜることにより、発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の表面に石膏を被覆することを特徴とする - 特許庁

The cation electrodeposition coating method or subjecting the surface of the aluminum blank to electrodeposition coating with a cation electrodeposition coating material composition includes a process step of previously subjecting the surface of the aluminum blank to the chemical conversion treatment by using the surface treating not containing the heavy metals, in which the cation electrodeposition coating material composition contains a resin composition having a sulfonium group and propagagyl group.例文帳に追加

アルミニウム素材の表面に対して、カチオン電着塗料組成物を電着塗装するカチオン電着塗装方法であって、上記アルミニウム素材を、予め、重金属を含まない表面処理剤によって化成処理する工程を含んでいて、かつ、上記カチオン電着塗料組成物がスルホニウム基およびプロパルギル基を有する樹脂組成物を含有することを特徴とするカチオン電着塗装方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a barrier film includes carrying out a process of applying a coating liquid containing a polysilazane to the surface of a substrate and drying and then forming a barrier layer by reforming the polysilazane through a process of irradiating the substrate with vacuum UV light from the side of the coated surface.例文帳に追加

基材の表面上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布、乾燥する工程の後、基材の塗布面側から真空紫外光を照射する工程により、ポリシラザンを改質してバリア層を設けるバリアフィルムの製造方法において、改質部位への真空紫外光照射と共に前記真空紫外光を吸収しないガスを主成分とする気体の噴射を行うものであって、前記気体の噴射条件が下記（１）式を満足することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。 - 特許庁

A method for obtaining a crystal lattice Moire pattern of a crystal structure through the use of a scanning microscope includes the process for periodically arranging a plurality of virtual lattice points in a scanning surface of the crystal structure according to the crystal structure and orientation, the process for detecting signals from the plurality of virtual lattice points through the use of an incidence probe, and the process for generating a crystal lattice Moire pattern of the crystal structure on the basis of detected signals.例文帳に追加

走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing a nitride semiconductor element by dividing a semiconductor wafer, in which a nitride semiconductor is formed on a substrate comprises a process of cutting a groove 103 into the surface of the semiconductor wafer, and making a process-altered part inside the groove through it, to form a break line 104 by laser irradiation and a process of dividing the semiconductor wafer along the break line.例文帳に追加

本発明は、基板上に窒化物半導体が形成された半導体ウエハーを窒化物半導体素子に分割する窒化物半導体素子の製造方法であって、レーザー照射により、前記半導体ウエハー表面に溝部と、該溝部を介して該溝部より前記半導体ウエハー内部側に加工変質部と、を形成することによりブレイク・ラインを形成する工程と、前記ブレイク・ラインに沿って前記半導体ウエハーを分離する工程と、を有する窒化物半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method for the fluidization treated material includes a slurry density adjusting process for adjusting slurry density by adding moisture, a sludge cake dissolution process for dissolving the sludge cake 11 adjusting the slurry density and a consolidated material addition process forming the fluidization treated material by adding a consolidated material to the dissolved sludge cake 11 after a surface activity lowering accelerator has been added to the sludge cake 11 formed by dewatering the water purification sludge.例文帳に追加

浄水汚泥を脱水してなる脱水ケーキ１１に、表面活性低下促進剤を添加した後、水分を添加して泥水密度を調節する泥水密度調節工程と、前記泥水密度が調節された前記脱水ケーキ１１を溶解させる脱水ケーキ溶解工程と、溶解した前記脱水ケーキ１１に固化材料を添加して流動化処理材料とする固化材料添加工程と、を含むことを特徴とする流動化処理材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for preventing copper oxidation in a dual damascene process, in which the oxidation of the surface of a copper metal combined with oxygen is prevented, so that dangling bonds on the surface of the copper metal are coupled to N_2 or H_2, after opening a copper interconnect to the atmosphere.例文帳に追加

本発明は前記のような従来技術の諸般の短所と問題点を解決するために、銅の配線が大気中に開放された後、銅の金属の表面のダングリングボンドとN_２またはH_２が結合するようにして、銅の金属の表面が酸素と結合して酸化されることを防止するデュアルダマシン工程の中で銅の酸化防止方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a solar cell device of semiconductor comprises the steps of: doping a semiconductor wafer before a diffusion process with a group IV element on the periodic table, its compound or a mixture containing any of them from the surface layer becoming the light receiving surface side; and repairing crystal damage by annealing.例文帳に追加

また半導体の太陽電池デバイスの製造方法において、拡散工程前の半導体ウエハに対し、元素周期律表の第ＩＶ族元素又はその化合物或いはその何れかを含む混合物を受光面側となる表層からドーピングし、アニーリングにより結晶ダメージを修復することを特徴とする太陽電池デバイスの製造方法の構成とした。 - 特許庁

The method for manufacturing the cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor is characterized in that, in the drying process of the cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor after rinsing the substrate by using a liquid, a heated fluid is brought into contact with the inner surface of the cylindrical substrate to volatilize the liquid on the outer surface of the cylindrical substrate to dry.例文帳に追加

電子写真感光体用円筒状基体にあって液体を用いて洗浄した際の乾燥工程において、該円筒状基体の内表面に加熱した流体を接触させ、該円筒状基体の外表面の液体を揮発させることによって乾燥することを特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for fine granulation of a powder and a method for surface coating of a powder which are capable of preventing occurrence of a problem caused in the fine granulation process of a first powder and evenly depositing the first powder to the surface of a second powder while suppressing agglomeration of the first powder and pulverization of the second powder.例文帳に追加

第１粉末の微粉砕化工程で生じる問題の発生の防止を図ることができるとともに、第１粉末の凝集および第２粉末の粉砕を抑制しながら、第１粉末を第２粉末の表面に均一に付着させることができる粉末の微粒子化方法および粉末の表面被覆方法を提供する。 - 特許庁

To uniformly apply a photosensitive coating liquid at a fast rate on the surface of a conductive substrate in the process of manufacturing an electrophotographic photoreceptor by dipping a conductive substrate in a photosensitive coating liquid housed in a dipping tank and drawing the substrate up from the coating liquid to apply the photosensitive coating liquid on the surface of the conductive substrate.例文帳に追加

導電性基体を浸漬槽に収容された感光性塗液中に浸漬させた後、この感光性塗液中から引き上げて、導電性基体の表面に感光性塗液を塗布して電子写真感光体を製造するにあたり、導電性基体の表面に速い速度で感光性塗液を均一に塗布できるようにする。 - 特許庁

The process generally entails processing the surface of the substrate 20 to be substantially free of oxides, heating the substrate 20 in a non-oxidizing atmosphere to a carburization temperature, and then contacting the surface of the substrate 20 with a carburization gas mixture comprising a diluted low activity hydrocarbon gas while maintaining the substrate 20 at the carburization temperature.例文帳に追加

このプロセスでは、一般に、基材２０の表面を加工処理して酸化物を実質的に含まないようにし、基材２０を非酸化性雰囲気中で浸炭温度に加熱し、次いで基材２０を浸炭温度に維持しつつ基材２０の表面を希釈された低活性炭化水素ガスを含む浸炭ガス混合物と接触させる。 - 特許庁