「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(154ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily and accurately control the directivity of a tapered surface at an end of an optical fiber when the optical fiber is held by an optical fiber holding member and coupled with an optical waveguide substrate and then to facilitate a process for optical coupling between the optical fiber and optical waveguide.例文帳に追加

光ファイバ保持部材によって光ファイバを保持し、光導波路基板と結合するのに際して、光ファイバの端面のテーパ面の方向性を容易かつ正確に制御し、これによって光ファイバと光導波路との光学的結合プロセスを容易化する。 - 特許庁

When a cloth constituting the surface layer material 23 is manufactured in advance, while positioning holes 23c as positioning opening parts are formed continuously as a pattern in a peripheral part, a positioning pin 26 is installed in unified specifications in the facility and tool of each process.例文帳に追加

予め、表層材２３を構成する布地の製作時に、位置決め用の開口部位としての位置決め孔２３ｃを周縁部に連続的に紋様として形成する一方、位置決めピン２６を各工程の設備や治工具に統一した規格で設けておく。 - 特許庁

The surface treating device 10 is used, for example, for the manufacturing process of a printed wiring board and the treating liquid is sprayed from each spray nozzle 11 arranged corresponding to a printed wiring board material 2 transported in the horizontal attitude by a transporting roller 14 of a conveyer 13.例文帳に追加

この表面処理装置１０は、例えばプリント配線基板の製造工程で用いられ、コンベヤ１３の搬送ローラー１４にて水平姿勢で搬送されるプリント配線基板材２に対し、対応配設された各スプレーノズル１１から、処理液が噴射される。 - 特許庁

To provide a method for calculating the coefficient of friction of a metallic material for further enhancing analyzing precision in performing the molding simulation of the metal material, changed in the coefficient of friction during a molding process represented by a surface-treated steel sheet or the like, and to provide a molding simulation method.例文帳に追加

表面処理鋼板等に代表される、成形加工中に摩擦係数が変化する金属材料の成形シミュレーションを実施するにあたり、より解析精度を向上させるための摩擦係数算出方法及び成形シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus enters an image carrier deterioration-detection mode, when an input current value to the optical sensor, adjusted to make the output voltage of the optical sensor with respect to the surface reflection light of the intermediate transfer belt a predetermined value by process control exceeds the predetermined value.例文帳に追加

プロセスコントロールで中間転写ベルトの表面反射光に対する光学式センサの出力電圧を所定の値にするために調整される光学式センサへの入力電流値が所定の値を超えた場合に、像担持体劣化検知モードに入る。 - 特許庁

To achieve a thin and long surface light-source member that achieves a semi-transmissive liquid-crystal display device which has excellent display characteristics without: a decrease in yield in a backlight assembly process; the occurrence of assembly errors; and deterioration in light-utilization efficiency of the backlight.例文帳に追加

バックライトの組み立て工程での歩留り低下がなく、組み立て間違いも起こらず、バックライトの光利用効率の低下もなく、表示特性に優れた半透過型液晶表示装置を可能とする、薄型で長尺な面光源部材が得ることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrolytic capacitor capable of jointing a plurality of electrode foil pieces to one another by a simple process when jointing the plurality of electrode foil pieces each having an oxide coating on a surface to one another by cold welding, and preventing the joint state thereof from becoming insufficient.例文帳に追加

表面に酸化皮膜を有する複数の電極箔を冷間圧接によって接合する際に、簡素な工程で行うことができ、かつその接合状態が不十分となることを防止できる電解コンデンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Then, the Nafion already containing the Pt catalyst sticks on a non-carrying location of the PtCo catalyst at an overwhelming area of the surface of each carbon particle since the solvent is disappeared on the electrode formed through the process of applying-drying of the electrolyte dispersion solution.例文帳に追加

そして、この電解質分散溶液の塗布・乾燥を経て形成される電極では、溶媒は消失していることから、カーボン粒子表面における圧倒的広さのＰｔＣｏ触媒の未担持箇所に、Ｐｔ触媒を含有済みのナフィオンが付着する。 - 特許庁

When a nondestructive test on an in-reactor structure 1 results in the detection of a stress corrosion cracking 2, a process is performed for applying compressive residual stresses to a compressive residual stress area 3 which is a surface area involving the stress corrosion cracking 2.例文帳に追加

原子炉炉内構造物１に対して非破壊検査を実施した結果、応力腐食割れ２を発見した場合、この応力腐食割れ２を含む表面領域である圧縮残留応力域３に対して圧縮残留応力を付加する処理を行う。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can process a substrate without causing damages, even if any kind of processing liquid is used when the substrate is processed, by making the processing liquid act on the surface of the substrate physically.例文帳に追加

基板表面に処理液を物理的に作用させることによって基板に対する処理を実行するにあたり、どのような処理液を用いた場合であっても、基板にダメージを与えることなく処理を実行することを可能とする基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a submount which can bond the entire region of the bonding surface of a semiconductor laser chip stably, and can use a substrate in common to an Ag paste type product by taking out the substrate temporarily into the atmosphere at a stage in the fabrication process where an Au layer is formed.例文帳に追加

半導体レーザチップの接合面全域を安定に接合できるとともに、作製プロセスにおいてＡｕ層が形成された段階で基板を大気中に一旦取り出すことでＡｇペーストタイプの製品へ共用することが可能なサブマウントを提供すること。 - 特許庁

To enable to make it unnecessary to form a second protection membrane on a surface of a protection layer, to make an aging process unnecessary, and to largely shorten time necessary for aging.例文帳に追加

保護層の表面に第２保護膜を形成する必要がなく、しかも、エージング工程を不要にすることができる、ないしエージングに要する時間を大幅に短縮することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびそれによって得られたプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the shielded wire harness 1 is constituted so that a coating and covering process is included wherein the electric wire groups 11 are pinched by two sheets of conductive sheet 3 and the ground wire 4 is connected to the conductive sheet 3, and the conductive sheet 3 is coated and covered on the external surface of the electric wire groups 11.例文帳に追加

このシールドワイヤハーネス１の製造方法では、電線群１１を２枚の導電性シート３で挟んで、導電性シート３にアース線４を接続し、電線群１１の外表面に導電性シート３を被着する被着工程を含む構成とする。 - 特許庁

To suppress generation of internal defects, to provide the surface wear resistance without any hardening process after the form rolling, and to improve the dimensional accuracy in a method that a gear, etc., formed of a ferrous sintered metal is form-rolled to provide a dense metal structure.例文帳に追加

鉄系焼結金属製の歯車等を転造加工し、金属組織を緻密化する方法において、内部欠陥発生を抑え、転造後の焼入工程を行う事なく表面の耐摩耗性を付与し、かつ寸法精度を向上する事を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-treated steel sheet for welding cans, which is excellent in weldability, corrosion resistance, adhesion with an organic resin and stability with time of a coating (resistance to yellowing) and which can avoid the problem that powdery tin is generated in a process for manufacturing cans; and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

溶接性、耐食性、有機樹脂との密着性、皮膜の経時安定性（耐黄変性）に優れ、さらには製缶工程における粉状錫の発生問題を回避できる溶接缶用表面処理鋼板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a leader pin loading process step, a grip holding groove 41A holding a clip 11 has a suction path 41B and sucks the magnetic tape MT through a through-hole 11E of the clip 11, thereby bringing the magnetic tape MT into tight contact with an inner peripheral surface 11C of the clip 11.例文帳に追加

リーダピンの装着工程において、クリップ１１を保持するクリップ保持溝４１Ａは、吸引路４１Ｂを有し、クリップ１１の貫通穴１１Ｅを介して磁気テープＭＴを吸引し、磁気テープＭＴをクリップ１１の内周面１１Ｃに密着させる。 - 特許庁

To achieve a substrate placing stage and an inkjet coating device provided with the same, which can prevent the adhesion of unnecessary ink on a substrate back surface and the stage when discharging waste ink and drawing to a substrate end part in a coating process to the substrate using inkjet.例文帳に追加

インクジェットを用いた基板への塗布工程において、インクの捨て吐出や基板端部への描画の際に、基板裏面やステージ上に不要なインクが付着することを防ぐことができる、基板載置ステージ及びこれを備えたインクジェット塗布装置を実現する。 - 特許庁

To limit the adhesive amount, a drawing process should be performed without using a zinc phosphate film generally used as a wire drawing lubricant film or a steel wire surface should be cleaned mechanically, chemically, or electrically after drawing or before heat treating.例文帳に追加

この付着量の限定を行うには、伸線潤滑皮膜として一般的に用いられている燐酸亜鉛皮膜を用いずに引き抜き加工したり引き抜き加工後または熱処理前において機械的、化学的または電気的に鋼線表面を洗浄すればよい。 - 特許庁

To manufacture a thin-film magnetic head having high reliability and to improve the yield of manufacturing by making it possible to more surely perform the treatment to flatten the ruggedness formed on the surface of an insulating layer when manufacturing a thin-film magnetic head in a wafer process.例文帳に追加

ウェハープロセスによって薄膜磁気ヘッドを製造する際に、絶縁層の表面に形成される凹凸を平坦化する処理をより確実に行うことを可能とし、信頼性の高い薄膜磁気ヘッドを製造するとともに、製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a process for producing a mutilayer printed wiring board in which a recess above the through hole of an insulating layer to be formed is controlled in a method for forming the insulating layer by filling the through hole with an adhesive film and, at the same time, laminating the surface of a substrate.例文帳に追加

接着フィルムにより、スルーホールの穴埋めと基板表面のラミネートを同時に行うことにより絶縁層を形成する方法において、形成される絶縁層のスルーホール上の凹みを抑制する、多層プリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

In the process for removing the coating adhering to the female screw part of the work piece of which the surface has been applied by the coating, the coating membrane 60 formed on the female screw part 32 is removed by inserting a tap 52 for removal of the coating into screw apertures 32 (female screw part) while rotating the tap.例文帳に追加

表面に塗装が施されたワークの雌ネジ部に付着した塗料の除去方法であって、ネジ孔（雌ネジ部）３２に塗料除去用のタップ５２を回転させながら挿入することにより、雌ネジ部３２に形成された塗膜６０を除去する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a process liquid from flowing around the surface of a substrate to be processed and of easily maintaining the product quality of the substrate, and to provide a highly reliable semiconductor substrate, a semiconductor component, and a semiconductor device.例文帳に追加

処理液の基板の非処理面への回り込みを防止することができ、基板の製造品質維持を容易にすることができる基板処置装置を提供すること、信頼性の高い半導体基板、半導体部品および半導体装置を提供することにある。 - 特許庁

A tool free production process comprises; preparing a molded member containing a filler or a reinforcement, preparing the decorative film of which at least a surface part is single layered or multilayered, and welding them under electromagnetic incident.例文帳に追加

充填材または強化材を含有した成形部材を準備しその表面の少なくとも一部分を単層又は多層からなる装飾用フィルムを準備し電磁線に入射下において溶着することを特徴とする工具なしの溶着法による製造法。 - 特許庁

To provide a wet cleaning method of material surface solving the problems of conventional technologies, which do not have the faults, restrictions, defects, and disadvantageous points of the cleaning method of the conventional technologies, and to provide a manufacturing process for an electronic, optical or optoelectronic device which uses the same.例文帳に追加

従来技術の洗浄方法の欠点、制約、欠陥、および不利な点を持たず、従来技術の問題点を解消する材料表面の湿式洗浄方法及びこれを用いた電子、光学、または光電子デバイスの作製プロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing process for a fiber reinforced resin molded object which imparts excellent strength and surface quality even to a thick FRP structure and markedly reduces labor for arranging and removing a resin diffusing medium even when the resin diffusing medium is arranged.例文帳に追加

厚物ＦＲＰ構造体に対しても、優れた強度と表面品質を持たせることが可能な、しかも樹脂拡散媒体を配置する場合にもその配置と除去の手間を著しく低減可能な繊維強化樹脂成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) The manufacturing method of the fuel cell or the layered material contains a process applying vibration to an electrode material or the layered material 52 containing the carbon tubes 50 carrying the catalyst to make the shaft center of each carbon tube 50 arranged almost vertically to the electrode surface.例文帳に追加

（２）触媒を担持したカーボンチューブ５０を含む電極材料または層状材材料５２に振動を付与して各カーボンチューブ５０の軸芯を電極面にほぼ垂直に揃わせる工程を有する燃料電池または層状材の製造方法。 - 特許庁

To provide a surface treated cycloolefin film and a metal vapor deposited film by a simple method and a process for the producing the metal vapor deposited films.例文帳に追加

簡潔な方法でシクロオレフィン系フィルム表面と金属蒸着層との間の密着力を充分なものとすることが出来る、表面処理を施されたシクロオレフィン系フィルム、該フィルムを用いた金属蒸着フィルム、及び該金属蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the plate surface processing liquid to be used after the development processing of the lithographic printing plate using with the silver complex salt diffusion transfer process, this liquid includes an organic compound having at least two mercapto groups or thione groups and a silver halide solvent.例文帳に追加

銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版の現像処理後に用いられる版面処理液において、２個以上のメルカプト基もしくはチオン基を有する有機化合物、及びハロゲン化銀溶剤を含有することを特徴とする版面処理液。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal oxide film capable of forming the metal oxide film having a large surface area while taking advantage of a soft solution process which can form the metal oxide film at a low temperature.例文帳に追加

本発明は、低温で金属酸化物膜を形成することができるソフト溶液プロセスの利点を活かしつつ、表面積の大きな金属酸化物膜を形成することができる、金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To obtain a multilayer wiring board in which the height of lands being formed on a surface for mounting a chip electronic component can be made constant substantially and internal formation of a via hole is not impeded, and to provide its production process comprising simple production steps.例文帳に追加

簡単な工程からなり、チップ型電子部品を実装するための搭載面に形成されるランドをほぼ同一高さとするとことができるとともに、内部にビアホールを形成することを阻害することのない多層配線基板及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a nano carbon emitter superior in electron emitting capacity, uniformity and stability, a method of manufacturing the nano carbon emitter manufacturable by a simple process of high controllability, and a surface light emitting device having high luminance, high uniformity and high reliability, by applying the nano carbon emitter.例文帳に追加

電子放出能およびその均一性、安定性に優れたナノカーボンエミッタと、簡便で制御性が高いプロセスで作製可能なナノカーボンエミッタの作製方法と、このナノカーボンエミッタを適用し、高輝度、高均一、高信頼性を有する面発光素子とを提供する。 - 特許庁

There are provided the pigment granules containing the inorganic filter aid, a process for production thereof, and use thereof for coloring lime- and/or cement-bound building materials, asphalt, paints, surface finishes, papers or plastics.例文帳に追加

本発明は、無機濾過助剤を含む顔料粒状物、およびそれらを製造するための方法、ならびに石灰仕上げおよび／またはセメント仕上げ建築材料、アスファルト、塗料、表面仕上げ材、紙またはプラスチックを着色するためのそれらの使用に関する。 - 特許庁

The method for treating non-neuropathic pains includes a process of administering a composition containing a local anesthetic onto the surface near the pain area of a patient in an amount sufficient for generating analgesia without causing anesthesia.例文帳に追加

非神経障害性疼痛を処置するための方法であって、局所麻酔剤を含む組成物を、感覚脱失を引き起こさずに痛覚脱失を生じるに充分な量で、患者に対して疼痛部位付近に表面に投与する工程を包含する、方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a liquid crystal display with reduced contact resistance by which the contact resistance can be reduced by depositing a buffer layer on the upper surface of an aluminum base metal and performing an annealing process so that the metal atoms of the buffer layer remain.例文帳に追加

アルミニウムベースメタルの上面にバッファ層を形成し、そのアーニリング過程でバッファ層の金属原子が残存するようにして、接触抵抗を減少させることができるようにした、接触抵抗を減少させた液晶ディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of modifying fluorine resin film includes a process of causing a fluorine resin film to contact with a gas containing fluorine atom and either one of a gas containing oxygen atom or inactive gas to provide hydrophilicity to the surface of the fluorine resin film.例文帳に追加

フッ素樹脂フィルムの改質方法は、フッ素樹脂フィルムに、フッ素原子を含むガスと、酸素原子を含むガス又は不活性ガスの少なくとも何れか一方とを含有する処理ガスを接触させることにより、当該フッ素樹脂フィルムの表面に親水性を付与する。 - 特許庁

As the claw part 4a is deformed based on the rotation of a bearing and thereby one part of the claw 4a is contacted to the outer periphery surface of the ball 3, in a manufacturing process, a gap is formed between the ball 3 and claw part 4a and thereby, a cleaning becomes easy.例文帳に追加

軸受の回転に基づき爪部４ａが変形し、それにより爪部４ａの一部が、玉３の外周面に当接するようになっているので、製造工程においては、玉３と爪部４ａの間には隙間が形成され、それにより洗浄が容易となる。 - 特許庁

An n-well of the surface of a p-type silicon substrate 2 is formed by carrying out impurity implantation process twice, and an n-well 70 below an imaging part and an accumulation part and an n-well 90 below a horizontal transfer are formed by making the impurity concentration thereof differ from each other.例文帳に追加

Ｐ型シリコン基板２の表面のＮウェルを２回の不純物の注入工程により形成し、撮像部及び蓄積部の下のＮウェル７０と、水平転送部の下のＮウェル９０とを、互いに不純物濃度を異ならせて形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing silica-based hollow particles, by which the aggregation of the silica-based hollow particles is prevented in a process for removing a portion or the whole of core particles from core-shell particles in which a silica-based coating layer is formed on the surface of the core particle.例文帳に追加

コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The damage given to the element by the plasma process is reduced to the utmost by reducing the density of electric charges accumulated in a gate electrode during the course of anisotropic etching performed in the LDD forming step, by forming an LDD in a state where a conductive protective film is formed to cover the whole surface of a substrate.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性保護膜を形成した状態でＬＤＤを形成することで、ＬＤＤ形成工程の異方性エッチングにおいて、ゲート電極に蓄積される電荷密度を低減し、プラズマによる損傷を極力低減する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silica-based hollow particle capable of preventing the coagulation of silica-based hollow particles in a process to remove a part or the whole of a core particle from a core-shell particle in which a silica-based coating layer is formed on the surface of a core particle.例文帳に追加

コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

At a dehydrating process, laundry inside the rotary tub 3 is uniformly arranged over the entire periphery on the peripheral wall part inner surface by the action of the main baffles 11, and the laundry positioned at the front part inside the rotary tub 3 is moved to the back part by the action of the auxiliary baffles 12.例文帳に追加

脱水工程時、回転槽３内の洗濯物は主バッフル１１の作用により周壁部内面に全周に亘って均等に配置され、回転槽３内の前部に位置する洗濯物は補助バッフル１２の作用により後方に移動される。 - 特許庁

The optical detecting substrate 1 is manufactured by a process for forming a thin film, which changes the affinity with water by irradiation with an active energy beam, on the surface of the substrate and by a step for selectively irradiating the thin film with the active energy beam.例文帳に追加

光学検出用基板１は、基板１の表面上に、活性エネルギー線の照射により水との親和性が変化する薄膜を形成する工程と、該薄膜に対して活性エネルギー線を選択的に照射する工程を有する方法で製造できる。 - 特許庁

An insulating substrate is constituted of the projection 22 for a common electrode formed on the surface of an alumina substrate 21 by a thick film process, projected glaze glass layers 24a1, 24a2 having the projection 22 as apexes and the glaze glass layers 24a, 24b formed on the alumina substrate 21.例文帳に追加

アルミナ基板２１の表面に厚膜プロセスで形成された共通電極用突起２２と、この突起を頂点とする凸状のグレーズガラス層２４ａ1、２４ａ2と、アルミナ基板２１上に形成されたグレーズガラス層２４ａ、２４ｂとを備えた構成とした。 - 特許庁

In an impurity injection process, injection ranges of impurities are controlled into relation, such that an n-type semiconductor region 13 and a p-type semiconductor region 14 appear adjacent on the top surface of a semiconductor substrate 9, and impurities are injected into the semiconductor substrate 9.例文帳に追加

不純物注入工程では、半導体基板９の表面にｎ型半導体領域１３とｐ型半導体領域１４が隣接して出現する関係に不純物の注入範囲を管理して、不純物を半導体基板９に注入する。 - 特許庁

During a process, a flow of pigment solution is formed in a gap between a substrate G and solution guide surfaces 92L and 92R of a nozzle 20, and a porous semiconductor layer on the surface of substrate is subjected to a pigment adsorption treatment in the flow of pigment solution.例文帳に追加

処理中に、ノズル２０の溶液案内面９２Ｌ，９２Ｒと基板Ｇとの間のギャップの中で色素溶液の流れが形成され、基板被処理面の多孔質半導体層はそのような色素溶液の流れの中で色素吸着処理を受ける。 - 特許庁