「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(163ページ目) - Weblio英語例文検索

An insulating layer is made of the first insulating layer and the second insulating layer which is stacked on the first insulating layer and is lower in etching speed than the first insulating layer, and even in a light etching process for a surface oxide film, the topside of an isolation wall projects from the top end of the storage node layer.例文帳に追加

絶縁層を、第１絶縁層と、第１絶縁層上に積層された第１絶縁層よりエッチング速度の遅い第２絶縁層から形成し、表面酸化膜のライトエッチング工程後においても、分離壁の上面がストレージノード層の上端より突出した構造とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge capable of protecting the surface of a body to be charged from chemical deterioration ascribable to AC application discharge in a system of charging the body to be charged by utilizing the above discharge by a charging member disposed in contact with or in close vicinity to the body.例文帳に追加

接触又は近接させて配置した帯電部材による交流印加放電を利用して被帯電体を帯電させる方式において、上記放電による被帯電体表面の化学的劣化を防止することができる画像形成装置、プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

An air gap 18 occurs in the fabrication process of a first vertical connection layer 15A of high aspect ratio, but since a second vertical connection layer 15B is formed on the first vertical connection layer 15A, occurrence of the air gap 18 does not have an effect on the surface of the second vertical connection layer 15B.例文帳に追加

アスペクト比の大きな第１縦接続層１５Ａでは、製造プロセス上、空隙１８が発生するが、第１縦接続層１５Ａの上には第２縦接続層１５Ｂが形成されているので、空隙１８の影響は第２縦接続層１５Ｂの表面までは及ばない。 - 特許庁

Additionally, it is possible to eliminate a drilling process with a drill by chamfering the outer peripheral surface of the second valve body 20 by cutting, etc., before press fitting it in the first valve body 10, and it is possible to reduce manufacturing cost as formation of the high pressure fuel passage 42 is facilitated.例文帳に追加

また、第１弁ボディ１０に圧入する前に第２弁ボディ２０の外周面を切削などにより面取りすることにより、ドリルによる穴開け工程を省略することができ、高圧燃料通路４２の形成が容易であるため、製造コストを低減することができる。 - 特許庁

To provide a heat insulating paper cover having no problem in a process for subjecting the heat insulating paper cover to draw forming to mount the same on the outer surface of a usual paper cup container for a light quickly prepared Chinese noodles, soups, miso soups or the like eaten by pouring hot water and having a novel wave falling shape and excellent display effect.例文帳に追加

熱湯を注いで喫食する即席のラーメンやスープや味噌汁などの、通常の紙カップ容器２の外面側に装着する、絞り成形して装着する工程に問題がない、波倒れの形状が新規で展示効果などが優れた断熱紙カバーを提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic molding material which is improved in the dispersibility of reinforcing fibers, is subjected to suppression of the degradation in the flow property with lapse of time, is small in bleeding and has an excellent water retaining property and a process for producing the ceramic molding excellent in surface and internal states by using the same.例文帳に追加

補強用繊維の分散性が向上し、時間経過による流動性の低下が抑制され、ブリージングが小さく優れた保水性を有する窯業系成形材料と、これを用いて表面および内部状態の優れた窯業系成形体を製造する方法の提供。 - 特許庁

A heat-resistance resin composition covering for electroless plating for eliminating the need for the corrosion of one surface or both the surfaces of a polyimide films is formed, electroless copper plating is made by each process of covering activation, catalysis imparting, and catalysis activation, and then copper plating covering is formed to desired thickness through electroless plating.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの片面或いは両面腐食工程が不要の耐熱性無電解めっき用樹脂組成物被膜を形成し、被膜活性化、触媒付与、触媒活性化の各工程により無電解銅めっきを行った後、電解めっきにより銅めっき皮膜を所望の厚さに形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lead frame capable of providing a resource saving by using a conductive metallic nanomaterial in the manufacturing of the lead frame, and preventing an oxidation of the surface of the lead frame during the manufacturing process to improve the adhesion between the lead frame and the sealing resin.例文帳に追加

リードフレームの製造に導電性金属ナノ材料を使用して省資源化を図ると共に製造過程のリードフレーム表面の酸化を防止してリードフレームと封止樹脂との間の密着性を向上させることが可能なリードフレームの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, the air accumulated in an air pool 5 passes through a groove provided in the forming material 1 and can exit to the outside of the sleeve 4 by passing through the air hole 6, and since the air pool 5 disappears, the forming material 1 comes into sufficient tight contact with an optical transfer surface of the lower die 3.例文帳に追加

この過程において、空気溜り５に留まっていた空気は、成形素材１に設けられていた溝を通り、更には空気穴６を通ってスリープ４の外部へ抜け出ることができ、空気溜り５が消失するので、成形素材１は下型３の光学転写面と十分に密着する。 - 特許庁

At this time, since the wafer W is rotated, the developer D is stirred to suppress the generation of the temperature distribution of the developer D in the surface of the wafer W, and then development unevenness due to a temperature difference is suppressed, and a uniform developing process can be performed.例文帳に追加

この際ウエハＷを回転させているので現像液Ｄが攪拌され、こうしてウエハＷの面内における現像液Ｄの温度分布の発生が抑えられて、温度差が原因となる現像ムラの発生が抑制され、均一な現像処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor that suppresses irregularities in image density due to interference and intensity changes of reflected light of the light irradiating the photoreceptor, caused by uneven thickness of a surface layer, and to provide a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor, and an image forming apparatus with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

表面層の厚みムラに起因する感光体に照射された光の反射光の干渉及び強度変動による画像濃度ムラの抑制された電子写真感光体、該電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ、及び該電子写真感光体を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To securely couple an edge portion of a seating sensor to a pad body side, and to prevent deterioration of the performance of the seating sensor by preventing the edge portion, especially a front portion of the seating sensor from carelessly being turning up in a process covering the pad body with a surface skin or under a service condition of a seat cushion pad.例文帳に追加

着座センサの縁部をパッド本体側に強固に連結でき、表皮をパッド本体に被せる工程や、シートクッションパッドの使用時において、着座センサの縁部、特に前部が不用意に捲れるのを防止することにより、着座センサの性能の低下を防止することを課題とする。 - 特許庁

To prepare the subject resin composition where peelability from a hot metal roll is excellent in a calendering process and a sheet-form molded product excellent in transparency and surface smoothness can be economically produced by blending organic phosphates with an amorphous poly(ethylene terephthalate) resin in a specific content.例文帳に追加

カレンダー加工に際し、高温度に温度調整された金属ロールからの剥離がよく、透明性および表面平滑性に優れ、フローマークなどが発生しないシート状成形物を極めて経済的に生産できる非結晶性ポリエチレンテレフタレートシート樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the backlight system 6, the adherend 30 to which the light is emitted, and an optical film 10 having undergone a roughening process in order to increase its surface area are bonded via the adhesive layer 20 containing adhesive polymer with a gel fraction of 35-85%.例文帳に追加

光が出射される被着体３０と、表面積が増加するように凹凸加工処理を施した光学フィルム１０とを、ゲル分率が３５〜８５％である粘着剤ポリマーを含む粘着剤層２０を介して接合していることを特徴とするバックライトシステム６。 - 特許庁

In these tire failure detection method and device, for detecting generation of the internal failure in a rotating pneumatic tire 2, a process is repeated for measuring the surface temperature of the rotating pneumatic tire 2 over the whole circumference along the tire peripheral direction by a noncontact temperature sensor 3.例文帳に追加

回転する空気入りタイヤ２に内部故障が発生したのを検知するタイヤ故障検知方法と装置であり、非接触式温度センサ３により回転する空気入りタイヤ２の表面温度をタイヤ周方向に沿って１周にわたって測定する工程を繰り返し行う。 - 特許庁

To realize a method for measuring film thickness and optical constant which requires neither a reflection preventing process for a sample having a thin film formed on a transparent substrate nor a special optical element for removing reverse-surface reflected light and its adjustment for a measurement optical system.例文帳に追加

透明基板５ａ上に薄膜が形成された試料６に対して反射防止処理を必要とせず、測定光学系に裏面反射光を除去するための特別な光学要素もその調整も必要としない膜厚及び光学定数の測定方法を実現する。 - 特許庁

The protective film laminated fine structure is adapted in a process using a liquefied or supercritical fluid before it is dried in a high pressure container, a protective film comprising a highly viscous substance is formed on the surface of the fine structure.例文帳に追加

高圧容器内で液化または超臨界流体を用いて微細構造体を乾燥する前の工程において用いられるものであって、微細構造体表面に高粘度物質による保護膜が形成されていることを特徴とする保護膜積層微細構造体である。 - 特許庁

The process for producing a substrate for solar cell comprises (i) a step for forming an insulation layer 12 of first insulating material on a metal plate 11 by sol-gel method, and (ii) a step for forming an insulation portion 14 of second insulating material on the surface of the metal plate 11 at a part facing the pinhole portion of the insulation layer 12.例文帳に追加

（ｉ）金属板１１上に、ゾル・ゲル法で第１の絶縁材料からなる絶縁層１２を形成する工程と、（ii）絶縁層１２のピンホール部分に面する金属板１１の表面に、第２の絶縁材料からなる絶縁部１４を形成する工程とを含む。 - 特許庁

At least one small holes 16 or 16' is formed on a suitable position of the pulley for venting air in a space enclosed by the annular end surface wall part, the outer peripheral wall part and the inner circumferential wall part when the pulley is dipped into various kinds of treating liquids in a plating process for the pulley.例文帳に追加

プーリのメッキ処理工程中に該プーリを種々の処理液に浸漬する際に環状端面壁部と、外周壁部と、内周壁部とで囲まれた空間内の空気を逃がすために該プーリの適当な箇所に少なくとも１つの小孔（１６、１６′）が形成される。 - 特許庁

The vasoocclusive microcoil 10 for therapeutic treatment of a patient's vasculature includes the surface with a plurality of voids or pores 12 therein that operates to accelerate the healing process in the patient's vasculature when the microcoil is introduced into the patient's vasculature.例文帳に追加

患者の血管構造の治療的処置のための血管塞栓マイクロコイル１０は、それ自体の中に複数の間隙又は孔１２を備えた表面を含み、この間隙又は孔が、マイクロコイルが患者の血管構造内に導入されたときに、患者の血管内の治癒プロセスを促進するよう作用する。 - 特許庁

To improve efficiency in a lamination process by preventing each thickness in a part in which conductive paste is positioned and a part in which no conductive paste is positioned from being accumulated, when manufacturing a sheet laminate in a laminated type electronic component and preventing the flatness of a surface to be printed from being blocked.例文帳に追加

積層型電子部品のシート積層体を製造しようとするときに、導電性ペーストが位置する部分とそうでない部分の各厚みが累積し、印刷すべき面の平面性が阻害されることを防止し、積層の工程の能率向上を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method of application of a film to a sheet-shaped organic EL structure (substrate) under vacuum, wherein the film has high quality by increasing of density, reduction of film porosity and internal stresses therein, and reduction of the substrate temperature during the process of application of the film coating on its surface.例文帳に追加

シート状の有機ＥＬ構造体（基板）の面に真空下で成膜される薄膜の密度が高く、薄膜気孔率および内部応力が低く、成膜プロセス中に基板温度が低下することにより高品質な薄膜及び基板面への薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which continuously provides high-quality toner image free of void, fogging, and black dot in a character image even if a number of sheets of printing are performed without applying a solid lubricant on a photoreceptor surface, and also to provide an image forming apparatus, a process cartridge, and a color image forming apparatus.例文帳に追加

固体潤滑剤を感光体表面に塗布せずに多数枚プリントを行っても、文字画像の中抜け、かぶりや黒点のない高品質のトナー画像を継続して得ることができる優れた電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及びカラー画像形成装置の提供。 - 特許庁

On the other hand, when the processing rate is relatively low, the heat generation due to the process decreases that much, the rolling oil 3 leaves on the surface of the aluminum alloy sheet stock 1 even in the rolling outlet side, as shown in (b), the rolling oil 3 is interposed between the abrasive powder 2 and the aluminum alloy sheet stock 1.例文帳に追加

一方、加工率が比較的低い場合には、それだけ加工による発熱も小さくなり、圧延出側でもＡｌ合金素板１の表面上に圧延油３が残っており、（ｂ）に示すように、摩耗粉２とＡｌ合金素板１との間に圧延油３が介在するようになる。 - 特許庁

After sliding and moving the recovery unit 4 to a position facing the head unit 3 at the upright position, a recovery process such as wiping of the ink ejecting surface of the printing head by a wiper of the recovery unit 4, capping and maintenance ejection by a unit main body of the recovery unit 4 is executed.例文帳に追加

回復装置４を直立位置にあるヘッド装置３に対して対向する位置までスライド移動させ、回復装置４のワイパによる印字ヘッドのインク吐出面のワイピングや回復装置４のユニット本体によるキャッピングおよびメンテ吐出等の回復処理が行われる。 - 特許庁

To provide a method of grinding a silicon wafer capable of improving quality of a surface shape of the wafer, further miniaturizing an electronic circuit, and solving such a problem that fine particles increase on the rear of the wafer after a grinding process is completed when all grinding processes are done in double-side grinding.例文帳に追加

ウェーハの表面形状の高品質化が図れ、電子回路のさらなる微細化を可能とし、全ての研磨を両面研磨とした際に問題化する、研磨工程終了後のウェーハ裏面の微小パーティクルの増加を解消可能なシリコンウェーハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing metal hyperfine particles in which an organic matter film is efficiently formed on each surface at high energy, and which is hard to be oxidized even in the air without requiring an external heating apparatus by a simple process, and to provide an inexpensive production device with a simple constitution used for the method.例文帳に追加

簡単な工程で外部加熱装置を必要とせずに、高いエネルギー効率で表面に有機物被膜が形成された、大気中でも酸化しにくい金属超微粒子を効率良く製造する方法、及び該方法に使用する安価で簡単な構成の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for inkjet heads in which registration at the time of working nozzle holes of a nozzle plate is facilitated while a nozzle plate surface is prevented from being flawed at the time of working each process and dust is prevented from entering the nozzle holes, and the working efficiency can be improved.例文帳に追加

各工程作業時のノズルプレートの表面の傷付きを防止し、またノズル孔内へのゴミの進入を防止しながら、ノズルプレートのノズル孔加工時の位置合わせが容易であり、作業効率を向上することができるインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the wetting body 13a is dried by an ultra- critical drying method in which the substantial surface tension of the wetting body 13 can be reduced to an extremely small degree, a porous body for forming the porous layer is not totally shrunk at the drying process and the porous layer is formed in the almost whole of the flow passage 12.例文帳に追加

次に、湿潤体１３ａの実質的な表面張力を非常に小さくすることができる超臨界乾燥法により乾燥すると、乾燥過程で多孔質層を形成するための多孔質体がほとんど収縮せず、流路１２内のほぼ全体に多孔質層が形成される。 - 特許庁

To provide a comprehensive polishing and cleaning method of a wafer, which can reduce a cleaning load in a final cleaning process compared to a conventional method and can finish with the cleaned surface of the wafer having a high cleanliness in efficient cleaning processes from the final polishing to the final cleaning.例文帳に追加

従来よりも最終洗浄工程における洗浄負荷を低減できると共に、仕上げ研磨から最終洗浄に亘って効率的な洗浄工程でウエハ表面の高清浄な最終洗浄上がりが可能なウエハの総合研磨洗浄方法の提供。 - 特許庁

To provide a surface-mounting electronic part which prevents the pressure buildup of the internal space of a main electronic part in a packaging process, and which can make the internal space of the main electronic part into the state wherein a hermetic seal is performed after packaging, and also to provide a method of packaging it and a packaging structure.例文帳に追加

実装工程では電子部品本体の内部空間の圧力上昇を防止することが可能で、かつ、実装後には電子部品本体の内部空間を気密封止された状態とすることが可能な表面実装型電子部品、その実装方法および実装構造を提供する。 - 特許庁

In the process for melting the non-ferrous metal, hollow articles 3 made of a material having a melting point higher than that of the non-ferrous metal are floated or dipped near the surface of the molten metal to cover the molten metal 2 formed by melting the non-ferrous metal inside a vessel 1.例文帳に追加

容器１内で溶解することにより形成される非鉄金属の溶湯表面近傍に、非鉄金属よりも融点の高い材質で構成された中空物体３を浮遊または浸漬させることにより、溶湯２を覆いながら溶解する非鉄金属の溶解方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high resistance to mechanical deteriorations such as wear and scuffing of a surface of a photosensitive layer and peeling of a film due to grating of a cleaning blade, a magnetic brush, etc., and contact with a developer, paper, etc., when used repeatedly in an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスで繰り返し使用される際の、クリ−ニングブレ−ド、磁気ブラシなどの摺擦や現像剤、紙との接触等による感光層表面の摩耗や傷の発生、膜の剥がれといった機械的劣化に対する耐久性の高い電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

After appropriately forming a lower layer 2 of a multilayer wiring structure on a semiconductor substrate 1, an edge insulation film 14 is formed so as to cover a beveled portion 1a of the semiconductor substrate 1 and to have a thickness substantially equal to that of the lower layer 2, and then the surface of the upper insulation film 11a is planarized through a CMP process.例文帳に追加

半導体基板１上に、多層配線構造の下層部分２を適宜形成した後、半導体基板１のベベル部１ａを覆うように、下層部分２と略同等の膜厚に縁部絶縁膜１４を形成し、上部絶縁膜１１ａをＣＭＰで表面研磨して平坦化する。 - 特許庁

Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.例文帳に追加

梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜８μｍの梨地模様と１００メッシュ以下で深さが５０〜３００μｍの凹凸模様とを形成させる。 - 特許庁

A vacuum deposition device is equipped with a wafer support substrate, a lamp heater, and a first and a second evaporation source that are all installed in the same vacuum device, and three processes of forming the barrier metal layer of the Schottky barrier diode, carrying out an annealing process, and forming a surface electrode are continuously carried out in the same vacuum device.例文帳に追加

同一真空装置内にウェハ支持基板、ランプヒーター、第１および第２の蒸発源を設置した真空蒸着装置を用い、ショットキーバリアダイオードのバリアメタル層形成、アニール処理、表面電極形成の３工程を同一真空装置内で連続して行う。 - 特許庁

To produce a graft copolymer-based mixed powder that is improved in surface tackiness with high efficiency and is excellent in powder characteristics such as fluidity, or the like, and that is prevented from adhering on a manufacturing device in a manufacturing process, and provide a method for improving powder characteristics of a graft copolymer.例文帳に追加

表面の粘着性を高効率で改質し、流動性などの粉体特性に優れ、製造工程における製造装置への粉体付着が防止されたグラフト共重合体混合粉体およにグラフト共重合体の粉体特性改良方法を提供する。 - 特許庁

Hereupon, the number of silicon crystals having crystal defects near the surface of the silicon layer is made smaller than 8E14 in the silicon-ion injecting process, and the injecting quantity of silicon ions per unit volume which are injected into the vicinity of the interface between the sapphire substrate and the silicon layer is made not less than 3.0E19 ions/cm^3.例文帳に追加

そして、前記シリコンイオン注入工程において、前記シリコン層の表面付近の結晶欠陥を有するシリコンの数を8E14未満とし；前記サファイア基板と前記シリコン層との界面付近における前記シリコンイオンの単位容積当たりの注入量を3.0E19 ions/cm3 以上とする。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image carrier which comprises a cross-linked surface layer and a photosensitive layer having excellent flaw resistance and abrasion resistance, and satisfactory electric properties, and can provide high-quality images over a long period of time, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus, and an image forming method thereof.例文帳に追加

耐傷性及び耐摩耗性が高く、かつ電気的特性が良好な架橋表面層、及び感光層を有し、長期間に亘って高画質化を実現できる静電潜像担持体及びプロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

The number of grinding passes performed in a second grinding process is obtained by multiplying the difference (S-S0) between a recessed part area ratio S of the processed surface state and a planned area ratio S0 by the number of grinding passes (inclination k (constant value)) per change of the recessed part area ratio, and it is executed.例文帳に追加

この加工面状態の凹部面積割合Ｓと予定面積割合Ｓ０との差（Ｓ−Ｓ０）に、凹部面積割合の変化当たりの研削パス回数（傾きｋ（一定値））を乗じて、第２研削加工において行う研削パス回数を求め、それを実行する。 - 特許庁

The adhesion is improved in such a manner that the SiO_2 filler is exposed by a surface treatment of a resin face of the package seating 1 with a blast process, etc., and the stripping to be generated at the mounting operation by a solder or the decrease of adhesion when the stress due to the thermal distortion is repeatedly added, can be suppressed.例文帳に追加

ブラスト処理などによるパッケージ台座１の樹脂面の表面処理により、ＳｉＯ_２フィラーを露出させることにより密着性が向上し、はんだ実装時に発生する剥離、あるいは繰り返し熱的歪みストレスを加えたときの密着性の低下を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a three-dimensional structure capable of checking or analyzing a failure of a process for manufacturing various devices or parts by allowing a user to know a shape of a sample to be evaluated from the surface to the interior or the distribution of the atom in three dimensions.例文帳に追加

３次元構造評価方法に関し、簡単な手段に依って、評価対象物の表面から内部へ向かう形状や元素の分布の変化を立体的に知ることができるようにして、種々なデバイスや部品などの製造プロセスの確認や故障解析など行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a TIG welding wire that dispenses with a process for coating active flux on the surface of an object to be welded at the time of welding, to be able to obtain deep penetration characteristic even under ordinary TIG welding conditions, and allows highly efficient TIG welding, regardless of the kind of steel of the object to be welded.例文帳に追加

被溶接物の鋼種に関係なく、溶接時に被溶接物表面に活性フラックスを塗布する工程を省略し、通常のＴＩＧ溶接条件でも深い溶け込みが得られ、高能率なＴＩＧ溶接を可能とするＴＩＧ用溶接ワイヤを提供する。 - 特許庁

When the printing plate having thickness of about 3-5 mm is produced in an exposure process performing double-face exposure, the surface of the support is irradiated with actinic rays for exposing the plate through the support side so that the light irradiation intensity becomes lower than 2.0 mW/cm^2 by a light attenuation film.例文帳に追加

両面露光を行う露光工程によって版厚約３ｍｍ〜５ｍｍ程度の印刷版を製造する場合、支持体側からの露光の際に支持体表面に照射される活性光線の光照射強度を減光フィルムにより２．０ｍＷ／ｃｍ^２より小さくして行うこと。 - 特許庁

In this resist film forming process, air bubbles are guided to a place other than the clearance 23 through channel holes 30a and 30b communicating with the outside of the nozzle from the vicinity of the clearance 23 so that the air bubbles do not block the clearance 23 of the nozzle 22 immersed in the liquid tank while the resist agent is applied to the coated surface.例文帳に追加

このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤の塗布中は、液槽内に浸漬させたノズル２２の隙間２３を気泡が塞がないように、隙間２３近傍からノズル外側に連通する通路孔３０ａ，３０ｂを経て、気泡を隙間２３以外の部位へ誘導させる。 - 特許庁