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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

The molding process forms the mold 40 having a front groove part 4A in the rotary shaft direction of the commutator, and curved surface-shaped both edge parts 4C and 4C in front both edge parts 4C and 4C in the rotary shaft direction, by sintering carbon powder including copper powder.例文帳に追加

成型工程では、銅紛を含有するカーボン粉末を焼結し、整流子の回転軸方向に沿った正面の溝部4Aと、回転軸方向における正面の両縁部4C、4Cに曲面状の両縁部4C、4Cとを有する成型体40を形成する。 - 特許庁

To provide a stamper production device using a dot printer theory forming a dot pattern by giving a physical deformation to a stamper without using complex process nor expensive equipment such as removing or cutting off stamper surface by etching.例文帳に追加

ドットパターンを形成することにおいて、エッチィングなどのようにスタンパ表面を剥ぎ取ったり、削り取ったりするなど、複雑な工程や高価な装備を備えず、スタンパに物理的な変形を加えることで、ドットパターンを形成するドットプリンター原理を利用したスタンパ製造装置を提供する。 - 特許庁

In a coating process wherein a fibrous base material is impregnated with a thermosetting resin varnish, a parting plate or a parting rod for preventing bubbles stagnating on the surface of the resin varnish from being caught up when the resin varnish penetrates into the fibrous base material, is used for impregnation in this manufacturing method of the prepreg.例文帳に追加

繊維質基材に熱硬化性樹脂ワニスを含浸する塗工工程において、繊維質基材が樹脂ワニスに浸入する際、樹脂ワニス表面に滞留する気泡を巻き込むことを防止する仕切り板あるいは、仕切り棒を使用し含浸することを特徴とするプリプレグの製造方法。 - 特許庁

Accordingly, in a mold body forming process, for arranging the electrodes to the plate surface of the insulated member 405, a portion, laminated to the solid electrolyte object 435 of the electrodes and a portion laminated to the insulated member 405, contact each other at least in part.例文帳に追加

このため、成型体形成工程において、絶縁部材405の板面に電極を配置するにあたり、電極のうち固体電解質体435に積層された部分と絶縁部材405に積層された部分とは、少なくとも一部が互いに接触した状態となる。 - 特許庁

例文

To provide an apparatus for cooling a hot-dipped steel sheet, which maintains a surface quality, maximizes a coolability of the cooling apparatus and increases an efficiency of a productivity in manufacturing the plated steel sheet, in a cooling process after hot-dipping a steel sheet, and to provide a cooling method.例文帳に追加

溶融めっき鋼板のめっき後の冷却過程において、表面性状を維持し、かつ、冷却装置の冷却能力を最大限とし、めっき鋼板製造の生産性を効率化することができる溶融めっき鋼板の冷却装置および冷却方法を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a surface modifying method and the device by performing a peening process without any contact between a workpiece to be modified and a vibration plate, to reduce a reaction force applied to the vibration plate and need no solid shot material used for other peening methods, resulting in a decreased cost, no need to collect peening material and superior executing performance.例文帳に追加

被改質材と振動板とを非接触とした状態でピーニング作用を行え、振動板に加わる反力が小さく、他のピーニングの様に固形のショット材が不要であり、大幅なコスト低下が図れるとともに、ピーニング材を回収する必要を無くし、施工性の優れたものとする。 - 特許庁

To provide a self-adhesive optical film having an adhesive layer laminated on at least one surface of an optical film, which is easily handled without causing dropping of the self-adhesive agent even when the film edge is touched during handling in a use process.例文帳に追加

光学フィルムの少なくとも一方の面に粘着剤層が積層されている粘着型光学フィルムであって、使用工程でのハンドリングの際に端部の接触に対しても粘着剤の欠落を起こさない、取扱いの容易な、粘着型光学フィルムを提供すること。 - 特許庁

In a process to form this electron injecting layer 52, coating liquid obtained by mixing a complex having the same number of chelate ligands as the number of the valences of a center atom and an organic material forming a neutral legend in a solvent is applied on the entire surface of a substrate, and heat treatment is applied to it.例文帳に追加

この電子注入層52の形成工程は、中心原子の価数と同数のキレート配位子を有する錯体と、中性配位子となる有機材料とを溶媒中に混合した塗布液を基板全面に塗布し、これを熱処理することにより行なう。 - 特許庁

In a drying process, hot air is supplied to the inner basket 25 by a fan motor 31 and a heater 32 so that humid air generated by blowing the hot air upon the drying object is cooled, dehumidified and dried by a cooling air blower 4 for cooling an outside surface of the outer tub.例文帳に追加

乾燥行程で、ファンモータ31とヒータ32により内槽25に温風を供給し、乾燥対象物に温風を吹き付けることにより発生する多湿空気を、外槽の外面を冷却する冷却用送風機42により冷却して除湿し乾燥させる。 - 特許庁

例文

This method for producing a titanium dioxide pigment comprises the following process: a liquid organic compound is mixed with a heated gas serving as a grinding medium, the mixture is then fed into a gas-flow type grinder, where titanium dioxide particles are ground by the action of the mixture while treating the particle surface with the organic compound.例文帳に追加

液状の有機化合物と、加熱した粉砕媒体となる気体とを混合して気流式粉砕機に供給し、二酸化チタン粒子を粉砕しながらその粒子表面を有機化合物で処理し、有機化合物処理二酸化チタン顔料を製造する。 - 特許庁

例文

In a rewinding method in which the bonding wire for the semiconductor device reeled out of an unwinding machine is rewound by a take-up machine with assist of the rewinding guide after a wiredrawn process, the hard base material surface of the rewinding guide is covered with a ceramics coating film.例文帳に追加

伸線工程後に巻戻機から繰り出されたボンディングワイヤを巻替ガイドで案内して巻取機で巻取るボンディングワイヤの巻替方法において、該巻替ガイドが硬質基材表面にセラミックスコーティング膜を被覆されている半導体素子用ボンディングワイヤの巻替方法。 - 特許庁

To provide a non-contact type alignment processing device capable of forming a multi-domain alignment at low cost even with a large substrate and enlarging the angle of visibility of a liquid crystal display device without using a metal mask or a photo lithography process and without a troublesome surface treatment of an alignment film.例文帳に追加

メタルマスクやフォトリソグラフィー工程を用いず、煩雑な配向膜の下地処理も行なわずに、基板が大型化しても低コストでマルチドメイン配向を形成して、液晶表示装置の視野角を拡大することができる非接触式配向処理装置を提供する。 - 特許庁

An insulating layer is made of the first insulating layer and the second insulating layer which is stacked on the first insulating layer and is lower in etching speed than the first insulating layer, and even in a light etching process for a surface oxide film, the topside of an isolation wall projects from the top end of the storage node layer.例文帳に追加

絶縁層を、第1絶縁層と、第1絶縁層上に積層された第1絶縁層よりエッチング速度の遅い第2絶縁層から形成し、表面酸化膜のライトエッチング工程後においても、分離壁の上面がストレージノード層の上端より突出した構造とする。 - 特許庁

A vacuum deposition device is equipped with a wafer support substrate, a lamp heater, and a first and a second evaporation source that are all installed in the same vacuum device, and three processes of forming the barrier metal layer of the Schottky barrier diode, carrying out an annealing process, and forming a surface electrode are continuously carried out in the same vacuum device.例文帳に追加

同一真空装置内にウェハ支持基板、ランプヒーター、第1および第2の蒸発源を設置した真空蒸着装置を用い、ショットキーバリアダイオードのバリアメタル層形成、アニール処理、表面電極形成の3工程を同一真空装置内で連続して行う。 - 特許庁

To produce a graft copolymer-based mixed powder that is improved in surface tackiness with high efficiency and is excellent in powder characteristics such as fluidity, or the like, and that is prevented from adhering on a manufacturing device in a manufacturing process, and provide a method for improving powder characteristics of a graft copolymer.例文帳に追加

表面の粘着性を高効率で改質し、流動性などの粉体特性に優れ、製造工程における製造装置への粉体付着が防止されたグラフト共重合体混合粉体およにグラフト共重合体の粉体特性改良方法を提供する。 - 特許庁

Hereupon, the number of silicon crystals having crystal defects near the surface of the silicon layer is made smaller than 8E14 in the silicon-ion injecting process, and the injecting quantity of silicon ions per unit volume which are injected into the vicinity of the interface between the sapphire substrate and the silicon layer is made not less than 3.0E19 ions/cm^3.例文帳に追加

そして、前記シリコンイオン注入工程において、前記シリコン層の表面付近の結晶欠陥を有するシリコンの数を8E14未満とし;前記サファイア基板と前記シリコン層との界面付近における前記シリコンイオンの単位容積当たりの注入量を3.0E19 ions/cm3 以上とする。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image carrier which comprises a cross-linked surface layer and a photosensitive layer having excellent flaw resistance and abrasion resistance, and satisfactory electric properties, and can provide high-quality images over a long period of time, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus, and an image forming method thereof.例文帳に追加

耐傷性及び耐摩耗性が高く、かつ電気的特性が良好な架橋表面層、及び感光層を有し、長期間に亘って高画質化を実現できる静電潜像担持体及びプロセスカートリッジ、並びに、画像形成装置及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

The number of grinding passes performed in a second grinding process is obtained by multiplying the difference (S-S0) between a recessed part area ratio S of the processed surface state and a planned area ratio S0 by the number of grinding passes (inclination k (constant value)) per change of the recessed part area ratio, and it is executed.例文帳に追加

この加工面状態の凹部面積割合Sと予定面積割合S0との差(S−S0)に、凹部面積割合の変化当たりの研削パス回数(傾きk(一定値))を乗じて、第2研削加工において行う研削パス回数を求め、それを実行する。 - 特許庁

The adhesion is improved in such a manner that the SiO_2 filler is exposed by a surface treatment of a resin face of the package seating 1 with a blast process, etc., and the stripping to be generated at the mounting operation by a solder or the decrease of adhesion when the stress due to the thermal distortion is repeatedly added, can be suppressed.例文帳に追加

ブラスト処理などによるパッケージ台座1の樹脂面の表面処理により、SiO_2フィラーを露出させることにより密着性が向上し、はんだ実装時に発生する剥離、あるいは繰り返し熱的歪みストレスを加えたときの密着性の低下を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a three-dimensional structure capable of checking or analyzing a failure of a process for manufacturing various devices or parts by allowing a user to know a shape of a sample to be evaluated from the surface to the interior or the distribution of the atom in three dimensions.例文帳に追加

3次元構造評価方法に関し、簡単な手段に依って、評価対象物の表面から内部へ向かう形状や元素の分布の変化を立体的に知ることができるようにして、種々なデバイスや部品などの製造プロセスの確認や故障解析など行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a fluffing degree measuring device for a carbon fiber filament yarn capable of measuring a degree of fluffing on a surface of a carbon fiber filament yarn at a practically effective precision so as to be close to a degree of fluffing in an actual treatment process when conducting various treatment to the carbon fiber filament yarn.例文帳に追加

炭素繊維糸条に種々の加工を加える際に、炭素繊維糸条の表面に発生する毛羽立ちの程度を、実際の加工工程における毛羽立ちの程度に近い実用上有効な精度で測定できる炭素繊維糸条の毛羽立ち度測定装置を提供する。 - 特許庁

On the other hand, when the processing rate is relatively low, the heat generation due to the process decreases that much, the rolling oil 3 leaves on the surface of the aluminum alloy sheet stock 1 even in the rolling outlet side, as shown in (b), the rolling oil 3 is interposed between the abrasive powder 2 and the aluminum alloy sheet stock 1.例文帳に追加

一方、加工率が比較的低い場合には、それだけ加工による発熱も小さくなり、圧延出側でもAl合金素板1の表面上に圧延油3が残っており、(b)に示すように、摩耗粉2とAl合金素板1との間に圧延油3が介在するようになる。 - 特許庁

After sliding and moving the recovery unit 4 to a position facing the head unit 3 at the upright position, a recovery process such as wiping of the ink ejecting surface of the printing head by a wiper of the recovery unit 4, capping and maintenance ejection by a unit main body of the recovery unit 4 is executed.例文帳に追加

回復装置4を直立位置にあるヘッド装置3に対して対向する位置までスライド移動させ、回復装置4のワイパによる印字ヘッドのインク吐出面のワイピングや回復装置4のユニット本体によるキャッピングおよびメンテ吐出等の回復処理が行われる。 - 特許庁

To provide a method of grinding a silicon wafer capable of improving quality of a surface shape of the wafer, further miniaturizing an electronic circuit, and solving such a problem that fine particles increase on the rear of the wafer after a grinding process is completed when all grinding processes are done in double-side grinding.例文帳に追加

ウェーハの表面形状の高品質化が図れ、電子回路のさらなる微細化を可能とし、全ての研磨を両面研磨とした際に問題化する、研磨工程終了後のウェーハ裏面の微小パーティクルの増加を解消可能なシリコンウェーハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing metal hyperfine particles in which an organic matter film is efficiently formed on each surface at high energy, and which is hard to be oxidized even in the air without requiring an external heating apparatus by a simple process, and to provide an inexpensive production device with a simple constitution used for the method.例文帳に追加

簡単な工程で外部加熱装置を必要とせずに、高いエネルギー効率で表面に有機物被膜が形成された、大気中でも酸化しにくい金属超微粒子を効率良く製造する方法、及び該方法に使用する安価で簡単な構成の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TIG welding wire that dispenses with a process for coating active flux on the surface of an object to be welded at the time of welding, to be able to obtain deep penetration characteristic even under ordinary TIG welding conditions, and allows highly efficient TIG welding, regardless of the kind of steel of the object to be welded.例文帳に追加

被溶接物の鋼種に関係なく、溶接時に被溶接物表面に活性フラックスを塗布する工程を省略し、通常のTIG溶接条件でも深い溶け込みが得られ、高能率なTIG溶接を可能とするTIG用溶接ワイヤを提供する。 - 特許庁

When the printing plate having thickness of about 3-5 mm is produced in an exposure process performing double-face exposure, the surface of the support is irradiated with actinic rays for exposing the plate through the support side so that the light irradiation intensity becomes lower than 2.0 mW/cm^2 by a light attenuation film.例文帳に追加

両面露光を行う露光工程によって版厚約3mm〜5mm程度の印刷版を製造する場合、支持体側からの露光の際に支持体表面に照射される活性光線の光照射強度を減光フィルムにより2.0mW/cm^2より小さくして行うこと。 - 特許庁

In this resist film forming process, air bubbles are guided to a place other than the clearance 23 through channel holes 30a and 30b communicating with the outside of the nozzle from the vicinity of the clearance 23 so that the air bubbles do not block the clearance 23 of the nozzle 22 immersed in the liquid tank while the resist agent is applied to the coated surface.例文帳に追加

このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤の塗布中は、液槽内に浸漬させたノズル22の隙間23を気泡が塞がないように、隙間23近傍からノズル外側に連通する通路孔30a,30bを経て、気泡を隙間23以外の部位へ誘導させる。 - 特許庁

The sensor housing producing process is that the sensor housing 40 has a seating part 401 for joining an outer periphery plane 501 of the seal diaphragm 50, and on the seating part 401 a metal layer 402 of different material from the seating part 401 is provided for forming a joining surface 458.例文帳に追加

センサハウジング作製工程は、シールダイヤフラム50の外周平面部501を接合する台座部401を有してなり、かつ、台座部401と異なる材質よりなるメタル層402を台座部401の表面である接合面458に形成してなるセンサハウジング40を作製する工程である。 - 特許庁

To provide a film, in which fine projections are provided on the surface and both writing properties and tracing properties are excellent and the whole beam transmittance and light diffusion transmittance are large and a rate of heat shrinkage is small and heat resistance is excellent, in the film- making process of an ordinary polyester film at a low cost together with stabilized quality.例文帳に追加

表面に微小突起を有し、筆記性とトレース性に優れ、全光線透過率と光拡散透過率の大きな、熱収縮率の小さい耐熱性に優れたフィルムを通常のポリエステルフィルムの製膜工程内で安定した品質とともに安価に提供する。 - 特許庁

(2) This is a manufacturing method of a flexible optical disk given in (1) to be irradiated with light intermittently in a process which forms a protective coat layer of an information recording layer containing a recording layer, and a hard coat layer of a back surface of film substrate using the photocurable resin after forming the recording layer on the transfer layer.例文帳に追加

(2)転写層上に記録層を形成した後、光硬化性樹脂を用いて、記録層を含む情報記録層の保護コート層及びフィルム基板の裏面のハードコート層を形成する工程において、断続的に光を照射する(1)記載のフレキシブル光ディスク作製方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor exhibiting stable and excellent electrophotographic characteristics even in repeated use and having high durability and high stability without causing deterioration in surface properties for a long period of time, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device with the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

繰り返し使用時にも安定して優れた電子写真特性を示し、長期間に亘りその表面性が低下することのない高耐久、高安定な電子写真感光体、並びにこの電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

The top of a probe having a piezoelectric element is scanned while being in contact with a surface to be measured, and thereby pulse-like electric signals are generated at the piezoelectric element, and then the electric signal is amplified for a prescribed period by an amplifying circuit 23, and the distinguishing signal is generated by carrying out the process of integration using an integrating circuit 24.例文帳に追加

圧電素子を有するプローブの先端を被測定表面に当接しながら走査することにより、前記圧電素子部にてパルス状の電気信号を発生させ、この電気信号を、所定時間だけ増幅回路23で増幅し、積分回路24で積分処理して識別信号とする。 - 特許庁

The locking members 81 and 82 are provided with locking arms 81e and 82e for locking the cover member 80 on the frame body of the process cartridge 13 and which are inserted between the photoreceptor 15 and the electrifying means 17 so as to separate the circumferential surface of the photoreceptor from the electrifying means.例文帳に追加

係止部材81,82はプロセスカートリッジ13の枠体14に対しカバー部材80を係止し、かつ電子写真感光体15と帯電手段17との間に挿入されて電子写真感光体の周面と帯電手段とを離間させる係止腕81を有する。 - 特許庁

To solve the problem that the cut waste of a gate part metal, provided on a substrate scatters on a solder ball surface and causes a short-circuit defect between the solder balls of a semiconductor device, in a cutting process of making the substrate provided with a plurality of semiconductor chip loading regions into the individual pieces of a semiconductor device single body.例文帳に追加

複数の半導体チップ搭載領域を備えた基板を半導体装置単体に個片化する切断工程において、基板に設けられたゲート部金属の切断くずがはんだボール面上に飛散して半導体装置のはんだボール間のショート不良を招く。 - 特許庁

This is obtd. by subjecting a cast slab having ≥15 vol.% equi-axed crystal ratio to hot rolling, grinding the surface by ≥10 μm, next, subjecting it to cold rolling including process annealing or not including that according to Cr content or the like and moreover executing bright annealing or annealing and pickling.例文帳に追加

これは、等軸晶率が15体積%以上である鋳造スラブを熱間圧延し、表面を10μm以上研磨し、次いで、Cr含有量等に応じて中間焼鈍を含むかあるいは含まずに冷間圧延し、さらに光輝焼鈍または焼鈍・酸洗を施して得られる。 - 特許庁

The resist pattern is removed, and plating process for a conductive film is performed for the surface of the insulation layer to form a second conductive pattern, and further the via hole in which a conductive plating film is formed in the thickness direction of the insulation layer is formed as a feed via in the porous region.例文帳に追加

レジストパターンを除去し、絶縁層の表面に対し導電膜のめっき処理を行なうことで第2の導電パターンを形成するとともに、多孔質領域に絶縁層の厚さ方向に導導めっき膜を形成したバイアホールをフィードビアとして形成する。 - 特許庁

To provide a developing device of two-component development system, a process cartridge, and an image forming apparatus which have no side effects, and in which toner fixation is hard to be caused on the surface of a developer carrier even with the elapse of time even when low melting point and small grain diameter toner is used, and when a toner recycle mechanism is used.例文帳に追加

低融点・小粒径トナーを用いた場合や、トナーリサイクル機構を用いた場合であっても、副作用なく、経時においても現像剤担持体の表面にトナー固着が生じにくい、2成分現像方式の現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The formation process of this dispersion comprises steps of preparing zinc oxide composite particles which are obtained by coating the surface of each of the particles of fine particulate zinc oxide with at least one compound selected from oxides/hydroxides of Al, Si, Zr and Sn and have a ≤0.1 μm average particle diameter, and dispersing the prepared composite zinc oxide particles in a dispersion medium.例文帳に追加

微粒子酸化亜鉛の粒子表面にAl、Si、Zr或いはSnの酸化物もしくは水酸化物のうちの1種或いは複数種を被覆してなる、平均粒子径が 0.1μm以下の複合酸化亜鉛を分散媒体中に分散するように構成する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which light scattering and bleeding are not caused, a photoconductive layer is uniform, a low surface energy and mechanical and electric durabilities are compatible, and a residual potential is low, and sensitivity is high and to provide a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and an image forming device.例文帳に追加

光散乱やブリードがなく、均一な状態の光導電層であって低表面エネルギーと機械的、電気的耐久性を両立した高感度かつ低残留電位の電子写真感光体、及び該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate applying a silver complex salt diffusion transfer process, excellent in various printing characteristics, excellent particularly in resistance to the stain of the non-image area and scratch stain (the stain of a scratched part of the plate surface) and having enhanced handleability.例文帳に追加

本発明は銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版は印刷諸特性に優れ特に非画像部分の汚れ及びスクラッチ汚れ(版面の引っ掻き傷部分の汚れ)に優れ取り扱い性の向上した平版印刷版を提供する事を目的とする。 - 特許庁

To realize a manufacturing process of a semiconductor which is free from defect/failure and inner contamination of production installation due to fragment of film peeling of the oxide film of a high melting point metal formed in the wafer rear surface of a semiconductor in a semiconductor device wherein the oxide film of a high melting point metal is used.例文帳に追加

高融点金属の酸化膜を使用する半導体装置において、半導体のウエハ裏面に形成された高融点金属の酸化膜の膜剥離した破片による欠陥不良および生産設備内部汚染がない半導体の製造工程を実現する。 - 特許庁

To provide a method for releasing a belt made of a urethane elastomer using a releasing agent enabling easy mold release even in a belt with projections made of the urethane elastomer, which does not generate trouble such as deformation or the like without increasing a cycle time in a process for manufacturing the belt made of the urethane elastomer and having complicated projections on its back surface.例文帳に追加

ウレタンエラストマー製ベルトの製造工程において、サイクルタイムを増加せずに変形等の不具合無く、複雑な突起が背面についた突起付ウレタンエラストマー製ベルトであっても、離型が容易にできる離型剤を用いたウレタンエラストマー製ベルトの離型方法を提供する。 - 特許庁

Then, the projected part projected upwards from the upper surface of the metal film 17 of the side wall 31 composed of a reaction product and formed on the inner side face of an etching part 18 in the process of the dry etching is removed by plasma treatment using gas containing fluorine elements.例文帳に追加

そして、前記ドライエッチングの過程でエッチング部位18の内側面に形成された反応生成物からなる側壁31の、金属膜17の上面より上方に突出する突出部を、フッ素元素を含むガスを用いたプラズマ処理により行うこと除去する。 - 特許庁

To provide a cutting tool insert coated by the chemical vapor deposition method and equipped with a TiC_xN_y layer having a low tensile stress of 10 to 300 MPa and an αAl_2O_3 layer having a high surface smoothness of 0.1 μm or less when measured in the inter-atomic force microscopic process.例文帳に追加

本発明は、10〜300MPaの低引張応力を備えたTiC_xN_y層と、原子間力顕微鏡技法によって測定したときに0.1μm以下の高表面平滑度を備えたαAl_2O_3層と、を有する化学蒸着法で被覆した切削工具インサートに関する。 - 特許庁

The drawing die 4 used for the drawing process of which the aperture marginal section 5a of the die opening 5 is formed into a gently curved surface of 30 mm or 150 mm curvature radius, and the bearing section 5b connected with the aperture marginal section 5a is formed in a length of 3.0 mm to 15.0 mm.例文帳に追加

この引抜加工に用いる引抜ダイス4は、そのダイス孔5の開口周縁部5aが曲率半径30mm〜150mmの緩やかな曲面に形成されるとともに、該開口周縁部5aに連接するベアリング部5bが3.0mm〜15.0mmの長さに形成されてなる。 - 特許庁

To provide a coating for dot printing capable of forming a dot printed coating film causing no peeling/falling off the surface of a processed steel even by passing through such a quenching treatment as to undergo a severe temperature change from about 890-930°C high temperature heating-stage to water cooling in a steel material manufacturing process.例文帳に追加

鋼材製造工程における約890〜930℃の高温加熱状態からの水冷という苛酷な温度変化が加えられる焼入処理を経由しても被処理鋼材表面から剥離・脱落しないドット印字塗膜が形成できるドット印字用耐熱ペイントを提供する。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a bonding peel-off defect caused by the reason that components such as C and F in etching gas such as CF_4 and CHF_3 to be used in an etching process for forming the aperture of a passivation film consisting of a silicon nitride film is left on the Al surface of a bonding pad.例文帳に追加

本発明は、シリコン窒化膜から成るパッシベーション膜に開口部を形成するためのエッチング工程において用いられる、例えばCF_4やCHF_3等のエッチングガス内のCやFの成分などがボンディングパッドのAl表面に残ることに起因するボンディング剥がれ不良を抑止する。 - 特許庁

例文

Therefore, unlike a conventional structure in which the folded parts are formed on all four sides of the door front surface material, the number of steps for forming the folded parts can be reduced by an amount equivalent to two sides and, accordingly, the production process of the heat-insulated door can be simplified and a cost can be lowered.例文帳に追加

このため、扉表側面材の4辺すべてに折返し部を形成していた従来構成とは違い、折返し部を形成する工程が2辺分少なくなり、その分、断熱扉の製造工程を簡素化できると共に、コストを低減化することが可能となる。 - 特許庁




  
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