「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(165ページ目) - Weblio英語例文検索

This hydrosilation process comprises contacting a silicon hydride and an unsaturated reactant in the presence of a supported bimetallic catalyst comprising an active hydrosilating metal such as platinum in elemental or compound form and a surface segregating metal such as copper in elemental or compound form on a support.例文帳に追加

担体に担持された、元素状または化合物の形態にある白金等の活性ヒドロシリル化金属と元素状または化合物の形態にある銅等の表面偏析金属とを含んでなる二金属触媒の存在下で水素化ケイ素と不飽和反応物を接触させることを含むヒドロシリル化方法。 - 特許庁

To provide a soil solidification agent showing nearly natural soil color under neutral or weakly alkaline pH range with high surface hardness, water absorbency and retentivity, and impact absorptivity used for soil pavement material, and a soil paving process.例文帳に追加

中性又は弱アルカリ性域のｐＨで、自然土に近い色合いを有し、しかも表面硬度が高く、吸水性、保水性、衝撃吸収性も良好な土壌舗装材料、該土壌舗装材料に用いられる土壌用固化剤、及び該土壌舗装材料を用いた土壌舗装方法を提供すること。 - 特許庁

A phosphor system can be distributed on the surface plate without the need to execute multiple times of continuous sticking, masking and substance removal processes, and the different phosphor substances 103, 103b and 103c constituting the phosphor system can be stuck in the single process.例文帳に追加

多数回の連続する付着、マスキングおよび物質除去工程を行う必要なく、先に記載した蛍光体システムを面板上に分配することができ、蛍光体システムを構成する異なる蛍光物質（１０３，１０３ｂ，１０３ｃ）を単一工程で付着することができる。 - 特許庁

To provide highly heat resistant linking parts for electrode capable of withstanding to a graphitization process at ≥3000°C and method for producing the same by including carbon fibers activated by oxidation into the linking parts comprising carboneceous materials, applying a carbonated coating on the surface of the carbon fibers.例文帳に追加

炭素材料から成る電極用接続片に、酸化により活性化した炭素繊維を含ませ、該炭素繊維の表面に炭化被覆を施し、３０００℃以上の黒鉛化処理にも耐え得る、耐高熱性の炭素電極用接続片及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent peeling of a shield layer formed on the front surface of an internal layer flexible substrate therefrom during the manufacturing process in the manufacturing method of rigid flex multilayer printed wiring board constituted with a rigid portion having the flexible property and a rigid portion where electronic components are mounted.例文帳に追加

可撓性を有するフレキシブル部と電子部品の実装がされるリジッド部によって構成されたリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法において、内層フレキシブル基板の表面に形成されているシールド層が、製造工程中において、内層フレキシブル基板より剥離されないようにする。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor device comprises a forming process of forming a separation permissible film for adjusting the quantity of impurity separated from a gate electrode on the surface of the gate electrode, at a temperature where the separation of the impurity from the source electrode and the drain electrode can be blocked.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、ソース電極及びドレイン電極からの不純物の離脱を阻止可能な温度で、ゲート電極の表面に、当該ゲート電極から離脱する不純物の量を調整するための離脱許容膜を形成する形成工程を含む。 - 特許庁

The process for preparing the composite carbon black comprises subjecting carbon black to adsorption treatment with an organic dyestuff derivative or triazine derivative having a basic functional group(s), and then treating this with an inorganic particle in such a pH range that the particle has a negative surface charge.例文帳に追加

カーボンブラックに塩基性官能基を有する有機色素誘導体または塩基性官能基を有するトリアジン誘導体を吸着処理し、次いで無機粒子がマイナスの表面電荷を持つｐＨ領域において上記無機粒子で処理することを特徴とする複合化カーボンブラックの製造方法。 - 特許庁

In the process for producing a polyester from a dicarboxylic acid compound and a diol compound, a polycondensation catalyst is used which comprises a group 4 element phosphate having a mean particle diameter of 10 μm or smaller, or a specific surface area of 5 m^2/g or greater.例文帳に追加

ジカルボン酸化合物とジオール化合物とからポリエステルを製造するに際し、重縮合触媒として、平均粒子径が１０μｍ以下、もしくは比表面積が５ｍ^2／ｇ以上である４族元素リン酸塩を用いることを特徴とするポリエステルの製造方法。 - 特許庁

To provide an etchant for GaInP system compound semiconductor and an etching method which are treated easily, realize the etching at the etching rate which is relatively approximated to that of the etchant for the AlGaInP system and As system compound semiconductors, and obtain a resulting smooth and uniform surface after the etching process.例文帳に追加

手軽に取り扱うことができ、かつAlGaInP系およびAs系化合物半導体などのエッチング液と比較的近いエッチング速度でエッチングが行え、かつエッチング後に得られる表面が平滑かつ均一であるGaInP系化合物半導体用エッチング液およびエッチング方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor chip capable of using existing facilities in thinning and separation processes, dispensing with removal of a mask from a circuit formation surface after a plasma dicing process, and easily handling a semiconductor wafer between processes.例文帳に追加

薄化工程及び剥離工程で既存の設備を使用することができ、プラズマダイシング工程の後、回路形成面からマスクを除去する必要がなく、工程間における半導体ウェハの取り扱いが容易な半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Preferably, the liquid-impermeable catalyst layer is formed through at least one process chosen from electroplating, vapor deposition, sputtering and ion plating, has a thickness of 0.5-30 μm and has a platinum group metal deposited inside or on its surface through electroless plating.例文帳に追加

前記液不透過性触媒層が電気めっき、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティングのいずれかの１つ以上の方法により形成され、その厚さが０．５μｍから３０μｍであること、前記隔膜の表面或いはまた内部に、無電解めっきによる白金族金属を担持していることが好ましい。 - 特許庁

Prior to a catalyst-holding process of making the fibrous carbon (carbon nanotube) as a carbonaceous material hold a catalyst, a reactive site is introduced on the surface of the fibrous carbon by using an oxidant.例文帳に追加

また、該方法で得られた触媒担持繊維状炭素を燃料電池用電極ないし燃料電池に適用することにより、無駄なく効果的に“触媒，導電体（炭素），電解質”の３者を密接させることができ、性能が向上した燃料電池用電極ないし燃料電池を提供すること。 - 特許庁

A technique of imaging a hologram surface shape is provided for detecting a hologram film defect in hologram products and after the aluminum deposition process, which are the lighting method for imaging using coaxial epi-illumination, a hologram image acquisition method, and the hologram defect extraction method.例文帳に追加

ホログラム製品およびアルミニウム蒸着工程後におけるホログラムフィルム欠陥検出のためのホログラム表面形状の画像化手法であって、同軸落射照明を用いることを特徴とする画像化用照明方法、ホログラム画像取得方法、およびホログラム欠陥抽出方法である。 - 特許庁

This manufacturing method of an oxide semiconductor electrode comprising a conductive substrate and an oxide semiconductor layer includes a process for applying a solution containing metal alkoxide and the solid electrolyte melt to the surface of the conductive substrate to form the oxide semiconductor layer by a sol-gel method.例文帳に追加

導電性基板と酸化物半導体層からなる酸化物半導体電極の製造方法において、導電性基板の表面上に、金属アルコキシドと固体電解質溶融体を含む溶液を塗布し、ゾルゲル法により酸化物半導体層を形成する工程を含む。 - 特許庁

The process for preparing the surface-treated organic pigment comprises mixing two mixtures each comprising an organic pigment, an aqueous medium, rosins and/or derivatives of the organic pigment by conducting impingement mixing as a mixing technique.例文帳に追加

有機顔料と、水性媒体と、ロジン類及び／又は前記有機顔料の誘導体とを含有する混合物同士を混合する表面処理有機顔料の製造方法において、前記混合の手段として衝突混合を行うことを特徴とする表面処理有機顔料の製造方法。 - 特許庁

To provide a process for nickel hydroxide powder of high tapping density for an alkaline secondary battery to make small a tapping density reduction amount from a raw powder as much as possible by coating uniformly cobalt hydroxide having excellent crystallization property on a particle surface of nickel hydroxide raw powder.例文帳に追加

結晶性の良い水酸化コバルトを水酸化ニッケル原料粉末の粒子表面に均一に被覆して、該原料粉末からのタップ密度減少量をできるだけ少なくする、高タップ密度のアルカリ二次電池用水酸化ニッケル粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electron source having excellent electron emission characteristics and having electron emission characteristic having high uniformity and an image forming apparatus by reducing the time required for a manufacturing process for the electron source having a plurality of surface conductive type electron emitting elements.例文帳に追加

表面伝導型の電子放出素子を複数備えた電子源の製造プロセスにかかる時間を短縮し、優れた電子放出特性を有すると共に均一性の高い電子放出特性を有する電子源および画像形成装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Or, the core material is manufactured by a method including a process of alloying the impurities exposed on the surface of the first core material by putting the first core material containing nickel and containing the impurities dissolving at the positive electrode potential under heat treatment in an atmosphere in which nickel is not oxidized.例文帳に追加

または、ニッケルを含み且つ正極電位で溶解する不純物を含む第１の芯材を、ニッケルが酸化しない雰囲気中で熱処理することによって、第１の芯材の表面に露出している不純物を合金化させる工程を含む方法で芯材を製造する。 - 特許庁

In the lens film provided with many convex lenses in a ≤300 μm pitch, the lenses disposed on the film surface are formed by applying a coating material containing a photosensitive resin and exposing and heating the material without subjecting the material to a developing process.例文帳に追加

多数の凸状レンズが３００μｍ以下のピッチで設けられたフィルムにおいて、前記フィルム表面に設けられたレンズが、感光性樹脂を含有するコーティング材料を塗布し、現像工程を経ることなく、露光、熱処理の工程により形成されたものであるレンズフィルム。 - 特許庁

In a process for growing a first nitride compound semiconductor layer in which a nitride semiconductor substrate is doped with n-type impurities, the main surface of the nitride semiconductor substrate is partially heavily doped and the first semiconductor layer is grown.例文帳に追加

本発明では、窒化物半導体基板上にｎ型不純物をドーピングした第１の窒化物化合物半導体層を成長する工程において、窒化物半導体基板の主面を部分的に前記不純物で高濃度化した後に第１の半導体層を成長する。 - 特許庁

The manufacturing method of the plate has a process for forming the image on the substrate having a hydrophilic surface by the inkjet recording method, using the inkjet ink containing no water substantially and containing polyurethane.例文帳に追加

親水性表面を有する支持体上に、実質的に水を含有しないインクジェット用インクを用いて、インクジェット記録方式により画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、該インクジェット用インクが、ポリウレタンを含有する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

To provide a bearing device for wheel and its processing method capable of performing the polishing process without generating a deflection in the squareness of the brake disc mounting surface of a hub flange part to the bearing part of a shaft body part, i.e. without causing side-runout, and of reducing the man-hours for processing.例文帳に追加

ハブのフランジ部のブレ−キディスク取付面と軸本体部の軸受部との直角度に振れを生じさせることなく、即ち、『面振れ』を起こすことなく研磨加工が可能であり、加工工数も低減することのできるホィ−ル用軸受装置及びその加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a SiC semiconductor substrate which can form a vertical semiconductor device, can be produced without a sticking process requiring the planarization of an intermediate interposing member such as a base substrate and a substrate surface, and can reduce the use amount of a high quality single crystal SiC.例文帳に追加

縦型の半導体素子の形成が可能で、かつ、ベース基板のような中間介在物や基板表面の平坦化が必要な貼り合せ工程を必要とせずに製造でき、高品質な単結晶ＳｉＣの使用量を減らすことが可能なＳｉＣ半導体基板を提供する。 - 特許庁

In a process for separating the semiconductor chip 20 from the dicing tape 200, the semiconductor chip 20 is separated from the dicing tape 200 so that the adhesive 202 of the dicing tape 200 remains on not the whole but a part of a surface 21 in the semiconductor chip 20, where the dicing tape 200 has been adhered.例文帳に追加

半導体チップ２０をダイシングテープ２００から剥離する工程では、ダイシングテープ２００の接着剤２０２が、半導体チップ２０におけるダイシングテープ２００が貼り付いていた面２１の全体ではなく一部に残るように、半導体チップ２０をダイシングテープ２００から剥離する。 - 特許庁

To provide a cutting device applied to a manufacturing process for panels etc., for example made of lightweight foam concrete (ALC), in which a semi-plastic substance made of uncured ALC etc. is cut into a panel shape or any other shape desired, capable of producing a flat and smooth cut surface and assuring good cutting efficiency.例文帳に追加

例えば軽量気泡コンクリート（以下、ＡＬＣという）パネル等を製造する場合などにおいて、未養生のＡＬＣ等の半可塑性体をパネル状その他所望形状に切断するための切断装置に係り、切断面が平滑で、かつ切断効率のよい切断装置を提供する。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing method in a manufacturing process of a semiconductor device, the object to be polished with an embedded interconnection formed in the low relative permittivity insulation film via the barrier metal is polished, by using a polishing solution containing colloidal silica, with a part of the surface covered with aluminum atoms.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨方法であって、低比誘電率の絶縁膜にバリアメタル層を介して埋め込み配線を形成してなる被研磨体を、表面の一部がアルミニウム原子で覆われたコロイダルシリカを含有する研磨液を用いて研磨する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a compound semiconductor device in which the ohmic characteristics can be improved at the contact part of the compound semiconductor and a metal electrode, by reducing the contact resistance of the compound semiconductor and the metal electrode, without damaging the surface of the compound semiconductor due to the process.例文帳に追加

化合物半導体表面にプラズマプロセスによるダメージを与えることなく、化合物半導体と金属電極との接触抵抗を低減し、両者の接触部におけるオーミック特性を改善することができる化合物半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fixing device surely controlling energizing to a heating roller with a hardware architecture even when control by a software process such as a CPU is disabled when surface temperature of a heating roller becomes abnormal.例文帳に追加

加熱ローラの表面温度が異常になった場合に、ＣＰＵなどのソフトウエア処理による制御が不能になったときでも、ハードウエア的な構成で加熱ローラへの通電を確実に制御することができる定着装置及び該定着装置を備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The ink jet recording material comprises a porous ink acceptive layer containing a vapor phase process silica fine particles and provided on a support in such a manner that the acceptive layer contains a cationic compound and a thiourea compound so that a pH of a film surface is 3 to 6.例文帳に追加

支持体上に気相法シリカ微粒子を含有する多孔質のインク受容層を設けたインクジェット記録材料において、該インク受容層にカチオン性化合物およびチオ尿素系化合物を含有し、膜面ｐＨが３〜６であることを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁

To provide a back sheet having a cured coating film of a fluororesin which is free of cohesion of titanium oxide when the cured coating film of the fluororesin containing the titanium oxide is formed on a base material sheet, facilitates a coating process to form a beautiful coating surface, and is smooth and superior in steam barrier properties and weatherability.例文帳に追加

基材シート上に二酸化チタンを含むフッ素樹脂の硬化塗膜を形成する際に、二酸化チタンが凝集せず、塗工し易く、綺麗な塗工面を形成でき、平滑で水蒸気バリア性や耐候性に優れたフッ素樹脂の硬化塗膜を有するバックシートの提供。 - 特許庁

The heat insulation method for a concrete surface comprises the following process: using the culture container; charging soil in the inside of the cylindrically partitioned section to plant evergreen herbaceous perennials; spreading the mosses all over the outside part of the section; and laying the moss-spread containers on the rooftop of the ferroconcrete building side by side.例文帳に追加

またコンクリート面の断熱方法は、上記の培養容器を使用し、筒状に仕切られた区画の内部には土壌を充填して常緑性の多年草を植え込み、その外の部分にコケ類を敷き詰めたものを鉄筋コンクリート建築の屋上に敷き並べる。 - 特許庁

The device monitors friction torque of a friction welded surface, defines a relative rotational speed of both base metals instantaneously-welded each other as zero in the friction torque range from its initial maximum value until it transfers to steady-state, while continuously providing thrust via a thrust bearing 18, and then terminates the friction welding process.例文帳に追加

摩擦圧接面の摩擦トルクをモニターし、その初期最大値から定常状態に移るまでの領域にて、瞬間的に圧接している両母材の相対回転速度を零とし、その間もスラストベアリング１８を介して推力を与え続けて、摩擦圧接溶接を終了させる。 - 特許庁

This method of manufacturing the low resistance silicon wafer includes a process to obtain a plurality of sliced wafers from a low resistance silicon single crystal ingot having specific resistance of not more than 1 Ωcm by using the wire for the wire saw subjected to copper plating or copper alloy plating on the surface of a steel wire.例文帳に追加

鋼線の表面に銅メッキ又は銅合金メッキが施されたワイヤソー用ワイヤを用い、比抵抗が１Ω・ｃｍ以下の低抵抗シリコン単結晶インゴットから複数枚のスライスウェーハを得る工程を含む低抵抗シリコンウェーハの製造方法の改良である。 - 特許庁

The process of a second embodiment comprises a step that the silicon substrate having the mesa encircled in the trench is formed, a step that a dielectric layer is formed in the trench abutted on the mesa, and a step that the silicon germanium layer is grown on the upper surface of the mesa by a selectively epitaxial growth method to form a silicon germanium base.例文帳に追加

第２実施例のプロセスは、トレンチに囲まれたメサを有するシリコン基板を形成するステップ、メサに隣接したトレンチに誘電層を形成するステップ、及び選択的エピタキシャル成長によりメサ上面にシリコン・ゲルマニウム層を成長させてシリコン・ゲルマニウム・ベースを形成するステップを含む。 - 特許庁

The metallic powder or the alloy powder having ≤5 μm particle diameter and ≤5 m2/g specific surface area is economically also obtained by using metallic compound powder in place of the metallic powder or the metal alloy and adding a reducing process at the time of heating.例文帳に追加

原料として用いる金属粉もしくは合金粉の代わりに金属化合物粉を用いても、加熱時に還元工程を追加することで、同様に粒径が５μm以下で比表面積が５平方メートル／ｇ以下である金属粉あるいは合金粉を経済的に得ることができる。 - 特許庁

To obtain a loose cushioning body comprising an extruded foam of biodegradable resin, having biodegradability, not requiring a complicated process for production, exhibiting sufficient shear cushioning ability even at a low packing density, not forming edge-crimped damage to the surface of contents and to provide a method for producing the loose cushioning body.例文帳に追加

生分解性でかつ、製造するのに複雑な工程が必要でなく、しかも低い充填密度で充分なズリ緩衝能を発揮し、内容物表面に擦過傷を与えない生分解性樹脂押出発泡体からなるバラ状緩衝体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the papermaking machine containing the calender apparatus, the thickness of the paper 107 is adjusted by a paper thickness adjusting apparatus 200 provided on the upstream side of the shoe calender 100 and then, surface treatment of the paper 107 is carried out by a shoe calender 100 installed in a post step of a drier process.例文帳に追加

板紙のカレンダ装置を含む抄紙機において、シューカレンダ１００の上流側に設けた紙厚み制御装置２００により紙１０７の厚みを調整した後、ドライヤ工程の後工程に設置したシューカレンダ１００により紙１０７の表面処理を行なうようにする。 - 特許庁

A method using the surface, e.g., a porous film, immobilizing with a simple method a nucleic acid from a sample including the nucleic acid, also releasing with a simple process and thereby specifically enabling practice of a perfectly automated method, is provided.例文帳に追加

核酸を含む試料から、単純な方法で、核酸を固定化することができ、かつ同様に単純な工程によってリリースすることができ、それにより完全に自動化された方法の実施を特に可能にする表面、例えば多孔性膜を使用する方法を使用する。 - 特許庁

To easily and reliably planarize steps formed on a semiconductor substrate without using the COM method, and obtain a superior flatness over a wide area of the semiconductor substrate surface without bringing about the process increase or cost up, thereby realizing a high speed operation with a little wiring delay.例文帳に追加

ＣＭＰ法を用いずに半導体基板上に生じた段差を容易且つ確実に平坦化し、工程増やコスト高を招来することなく半導体基板表面の広範囲で優れた平坦性を得ることにより、配線遅延の少ない高速動作化を実現する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a thin film transistor in which a shallow junction diffusion layer can be formed on the surface layer of a semiconductor thin film and thereby the leak current can be suppressed uniformly by relaxing the electric field at the drain end without providing an LDD region.例文帳に追加

半導体薄膜の表面層に浅い接合の拡散層を形成することが可能で、これによりＬＤＤ領域を設けることなくドレイン端においての電界を緩和してリーク電流を均一に抑えることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a toner manufacturing apparatus and a toner manufacturing method with which toner blister is not caused upon the fixation and a satisfactory toner image having an excellent fine line reproducibility without defective image can be stably formed over a long period of time by effectively and reliably removing remaining impurities from the surface of toner particles in a cleaning process.例文帳に追加

洗浄工程でトナー粒子表面より残存不純物を有効かつ確実に除去することにより、定着時にトナーブリスターが発生せず画像欠陥のない細線再現性に優れた良好なトナー画像を長期にわたり安定して作成可能にする。 - 特許庁

The surface height 19 of a reduction bath liquid and the boundary height 20 of a reactant-product bath liquid are independently set in the process of operation, so that the shape of a sponge lump 6 is cylindrically formed while evading the exposure of the sponge, and the space in the reduction bath liquid is effectively utilized.例文帳に追加

作業中に還元浴液浴面高さ１９、並びに、反応物—生成物浴液界面高さ２０を独立に設定することにより、スポンジ露頭を回避しつつスポンジ塊６形状を円柱状に形成し、還元浴液中の空間を有効活用する。 - 特許庁

The method of manufacturing the wafer 10A with the adhesive according to the present invention includes a first step of applying an adhesive composition on the surface of the semiconductor wafer 1 by the printing process, and a second step of volatilizing a solvent contained in the adhesive composition having been applied in the first step.例文帳に追加

また、本発明に係る接着剤付きウエハ１０Ａの製造方法は、半導体ウエハ１の表面に接着剤組成物を印刷法によって付設する第１工程と、この第１工程で付設した接着剤組成物に含まれる溶剤を揮発させる第２工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing a sheet includes a process for rotating a pair of rolls 2 and 3 equipped with mutually meshing toothed grooves 20 and 30 on the peripheral surface parts so as to follow the directions of revolving shafts, feeding a base sheet 10 to meshed parts between them and subjecting the substrate sheet 10 to stretch processing.例文帳に追加

本発明のシートの製造方法は、互いに噛み合う歯溝２０、３０が回転軸方向に沿うように周面部に設けられた一対のロール２、３を回転させ、それらの噛み合い部分に基材シート１０を供給し、基材シート１０に延伸加工を施す工程を具備している。 - 特許庁

To provide a method for spark discharge atomic emission spectrometric analysis for maximizing a measurement region as an analysis point configured on a surface of a sample, implementing a component analysis of a sample according to a multiple-analysis logic, and improving the accuracy of the component analysis and a speed of an analysis process.例文帳に追加

本発明は、試料面上に設定される分析点である測定領域の最大化を図り、多回分析ロジックに従った試料の成分分析を行い、成分分析の高精度化、分析処理の高速化を実現したスパーク放電発光分光分析方法に関する。 - 特許庁