「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(164ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, an electrode pattern can be formed in a short process, without forming a mask required for protecting silver in etching, by leaving, as it is, only silver on the gold or platinum layer, in the silver thin film formed on the whole surface on the glass substrate where a gold or platinum pattern is formed.例文帳に追加

さらに、金や白金のパターンを形成したガラス基板上の全面に形成された銀薄膜のうちの、金や白金層の上のみに銀を残し、エッチングの際に銀を保護するために必要となるマスクを形成することなく短い工程で電極パターンを形成できる。 - 特許庁

The manufacturing method for a denture is a consistent flask bottom face heating process in which heating is conducted from the bottom face of a flask which is injection batch buried on a previously heated hot plate until the model surface temperature acquires the temperature required for temporary polymerization of a resin in the form of a rice cake.例文帳に追加

本発明の有床義歯の製造法は終始し一貫したフラスコ底面加熱方式であり、あらかじめ加熱しておいた熱板上で注入一括埋没したフラスコ底面から加熱し、模型表面温度がもち状レジンの仮重合に必要な温度に達するまで行う。 - 特許庁

The method has the process to develop the fine particle of the II-VI group compound in the aqueous solution and to modify the developed fine particle surface with the water soluble inorganic compound.例文帳に追加

また、水溶性無機化合物を含有する液相中でII−VI族系化合物の微細粒子を生成させるとともに、生成した前記微細粒子の表面を前記水溶性無機化合物によって修飾する工程であることを特徴とする表面修飾微細粒子の製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing process of electronic component, expansion of plating can be prevented, when a second metal electrode layer 34 and a third metal electrode layer 36 are formed, by forming a glass layer 40 at an edge of a first metal electrode layer 32 on the front surface of a ceramic raw material 10.例文帳に追加

この電子部品の製造方法では、セラミック素体１０の表面上に第１の金属電極層３２の縁にガラス層４０を形成することで、第２の金属電極層３４及び第３の金属電極層３６を形成する際のめっき伸びを防止できる。 - 特許庁

In the device, the merit of the cleanerless system is obtained by controlling the triboelectricity of the residual developer of transfer, electrifying process of the triboelectricity of the residual developer of transfer to a normal polarity is carried by a developer electrified quantity control means 7 and the image carrier surface is electrified by the electrifying means 2 and simultaneously made to be an appropriate electrified quantity.例文帳に追加

転写残現像剤のトリボを制御し、クリーナレスシステムのメリットを得るものであり、転写残現像剤のトリボを、現像剤帯電量制御手段７で正規極性に帯電処理し、帯電手段２で像担持体面を帯電すると同時に適正帯電量にすること。 - 特許庁

High-frequency energy is given to a gas introduced into the processing chamber 2D by a gas inlet means 6 from a high-frequency power supply 71 through the intermediary of a matching device 72 to produce a plasma P, and the surface of a substrate 9 held by the substrate holder 5 located at a closing position is subjected to pre-process etching.例文帳に追加

ガス導入手段６が導入したガスに、基板ホルダー５と一体に移動する整合器７２を介して高周波電源７１から高周波エネルギーが与えられてプラズマＰが形成され、閉位置にある基板ホルダー５に保持された基板９の表面が前工程エッチング処理される。 - 特許庁

A hole 21 is opened near the base end 7a of the cage 7 so as to visually confirm the outer peripheral surface of a connecting end part 3 of a male pipe 2 positioned inside a bead hook part 6 in the connecting state, whereby the inspection time for a pipe joint 1 in a manufacturing process can be reduced.例文帳に追加

また、孔２１はケージ７の基端７ａの近傍から開口し、連結状態でビードフック部６の内側に位置するオス管２の接続端部３の外周面を目視可能とするものであるため、製造工程における管継手１の検品時間が短縮する。 - 特許庁

To provide a method for producing a light shielding member which can produce a light shielding material provided with a metal particle-containing film having excellent adhesion with a base material and optical solidity, and having excellent surface hardness and light shieldability to various wavelengths by a simple process.例文帳に追加

基材との密着性、及び光堅牢性に優れた金属粒子含有膜を備え、優れた表面硬度を有し、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光材料を簡便な工程により作製しうる遮光部材の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a micro device and a method of manufacturing the micro device, in which the optical path is switched with a function plane at low loss by preventing the rough surface of the function plane caused by a smoothening process.例文帳に追加

本発明は、機能面により光路切り換えを行うマイクロデバイス及びその製造方法に関し、平滑化処理により機能面が表面荒れすることを防いで、光路の切り換えを低損失で行うことのできるマイクロデバイス及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition which ensures satisfactory surface curability and curing depth during exposure and can form a colored pattern excellent in resolution even when a thick colored pattern is formed by a photography process, and the cured material of the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a vertical resonator-type surface-emitting laser, etc., that can bring the central axes of an electrode opening and a current constriction structure in agreement and can construct a mesa structure with a uniform shape, which has high output and can do single-transverse-mode oscillation using the basic mode.例文帳に追加

電極開口部の中心軸と電流狭窄構造の径の中心軸を一致させ、かつ均一な形状のメサ構造を構成することができ、高出力で、基本モードによる単一横モード発振が可能な垂直共振器型面発光レーザの製造方法等を提供する。 - 特許庁

The control part 5 is equipped with a bubble moving means 6, and executes a process wherein gas dissolved into liquid in a sample container is generated as bubbles by driving the syringe in the sucking direction at high speed, and generated bubbles are raised to the vicinity of the liquid surface of the liquid in the sample container.例文帳に追加

制御部５は気泡移動手段６を備えており、シリンジを高速で吸引方向に駆動することによってサンプル容器内の液体に溶存する気体を気泡として発生させ、発生した気泡をサンプル容器内の液体の液面付近に上昇させる工程を実行する。 - 特許庁

To provide a superior surface acoustic wave device of high yield free from the deterioration of attenuation in a high-frequency region by realizing precise positioning of a dicing blade and a wafer in a dicing process and moreover eliminating the left uncut of a dicing line.例文帳に追加

ダイシング工程におけるダイシングブレードとウエハとの高精度な位置合せを可能にし、しかもダイシング線の切り残しをなくすことができ、これにより、高周波領域における減衰量の劣化のない、高歩留まりの優れた弾性表面波装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for treating radioactive metal waste includes a chemical decontamination process for conducting decontamination by soaking the radioactive ferrous metal waste in a decontamination liquid containing an aliphatic carboxylic acid and eluting the surface of the radioactive metal waste as an aliphatic carboxylic acid metal salt in the decontamination liquid.例文帳に追加

鉄系の放射性金属廃棄物を、脂肪族カルボン酸を含む除染液に浸漬して、放射性金属廃棄物の表面部を脂肪族カルボン酸金属塩として除染液中に溶出させて除染を行う化学的除染操作を含む放射性金属廃棄物の処理方法。 - 特許庁

The cleaning agent which is used after a chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device having the copper wiring on the surface comprises an organic acid (A) and poly amino carboxylic acid (B) having a sulfone group or a phosphon group as a substituent.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程において、表面に銅配線を有する半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸と、（Ｂ）スルホン基またはフォスホン基を置換基として有するポリアミノカルボン酸とを含有する洗浄剤である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor chip capable of using existing facilities in thinning and separation processes, dispensing with removal of a mask from a circuit formation surface after a plasma dicing process, and easily handling a semiconductor wafer between processes.例文帳に追加

薄化工程及び剥離工程で既存の設備を使用することができ、プラズマダイシング工程の後、回路形成面からマスクを除去する必要がなく、工程間における半導体ウェハの取り扱いが容易な半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Preferably, the liquid-impermeable catalyst layer is formed through at least one process chosen from electroplating, vapor deposition, sputtering and ion plating, has a thickness of 0.5-30 μm and has a platinum group metal deposited inside or on its surface through electroless plating.例文帳に追加

前記液不透過性触媒層が電気めっき、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティングのいずれかの１つ以上の方法により形成され、その厚さが０．５μｍから３０μｍであること、前記隔膜の表面或いはまた内部に、無電解めっきによる白金族金属を担持していることが好ましい。 - 特許庁

Prior to a catalyst-holding process of making the fibrous carbon (carbon nanotube) as a carbonaceous material hold a catalyst, a reactive site is introduced on the surface of the fibrous carbon by using an oxidant.例文帳に追加

また、該方法で得られた触媒担持繊維状炭素を燃料電池用電極ないし燃料電池に適用することにより、無駄なく効果的に“触媒，導電体（炭素），電解質”の３者を密接させることができ、性能が向上した燃料電池用電極ないし燃料電池を提供すること。 - 特許庁

A technique of imaging a hologram surface shape is provided for detecting a hologram film defect in hologram products and after the aluminum deposition process, which are the lighting method for imaging using coaxial epi-illumination, a hologram image acquisition method, and the hologram defect extraction method.例文帳に追加

ホログラム製品およびアルミニウム蒸着工程後におけるホログラムフィルム欠陥検出のためのホログラム表面形状の画像化手法であって、同軸落射照明を用いることを特徴とする画像化用照明方法、ホログラム画像取得方法、およびホログラム欠陥抽出方法である。 - 特許庁

To provide an etchant for GaInP system compound semiconductor and an etching method which are treated easily, realize the etching at the etching rate which is relatively approximated to that of the etchant for the AlGaInP system and As system compound semiconductors, and obtain a resulting smooth and uniform surface after the etching process.例文帳に追加

手軽に取り扱うことができ、かつAlGaInP系およびAs系化合物半導体などのエッチング液と比較的近いエッチング速度でエッチングが行え、かつエッチング後に得られる表面が平滑かつ均一であるGaInP系化合物半導体用エッチング液およびエッチング方法の提供。 - 特許庁

To provide a developing device that can prevent on abnormality in image density and a surface staining by setting the toner consumption in accordance with the actual usage situation of the toner at the process of forcibly consuming the toner, and forcibly consuming the toner in accordance with the advance of the toner deterioration.例文帳に追加

トナーの強制消費を行う際にトナーの実際の使用状況に対応する消費量を設定できるようにすることによりトナー劣化の進行状況に対応した強制消費を行わせて画像濃度の異常や地肌汚れの発生を防止できる現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for nickel hydroxide powder of high tapping density for an alkaline secondary battery to make small a tapping density reduction amount from a raw powder as much as possible by coating uniformly cobalt hydroxide having excellent crystallization property on a particle surface of nickel hydroxide raw powder.例文帳に追加

結晶性の良い水酸化コバルトを水酸化ニッケル原料粉末の粒子表面に均一に被覆して、該原料粉末からのタップ密度減少量をできるだけ少なくする、高タップ密度のアルカリ二次電池用水酸化ニッケル粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electron source having excellent electron emission characteristics and having electron emission characteristic having high uniformity and an image forming apparatus by reducing the time required for a manufacturing process for the electron source having a plurality of surface conductive type electron emitting elements.例文帳に追加

表面伝導型の電子放出素子を複数備えた電子源の製造プロセスにかかる時間を短縮し、優れた電子放出特性を有すると共に均一性の高い電子放出特性を有する電子源および画像形成装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Or, the core material is manufactured by a method including a process of alloying the impurities exposed on the surface of the first core material by putting the first core material containing nickel and containing the impurities dissolving at the positive electrode potential under heat treatment in an atmosphere in which nickel is not oxidized.例文帳に追加

または、ニッケルを含み且つ正極電位で溶解する不純物を含む第１の芯材を、ニッケルが酸化しない雰囲気中で熱処理することによって、第１の芯材の表面に露出している不純物を合金化させる工程を含む方法で芯材を製造する。 - 特許庁

In the next process, an epitaxial growth layer 22 is formed by epitaxial-growing the Si layer on the surface of the Si layer 11a that has been exposed, and a source-drain region 23 is formed at an epitaxial growth layer 22.例文帳に追加

次いで、露出されたＳｉ層１１ａの表面上に、Ｓｉ層をエピタキシャル成長させてエピタキシャル成長層２２を形成するとともに、エピタキシャル成長層２２にソース・ドレイン領域２３を形成する工程を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法および半導体装置である。 - 特許庁

As compared with the case of forming the fluorescent surface as one lot by one transfer film, correction of only one process can do, even if either one of the forming processes of the first and the second fluorescent substance parts produce failures, thus the yield of manufacture can be improved.例文帳に追加

また、１つの転写用フィルムのみで一括して蛍光面を形成する場合と異なり、第１の蛍光体部および第２の蛍光体部のいずれか一方の形成工程に不良が生じたとしても、いずれか一方の工程のみをやり直すだけで良く、歩留まりの向上を図ることができる。 - 特許庁

In this process, a front edge surface 4B of the slider pushes a bent part 11B of an eject plate 11, the eject plate 11 moves to a position indicated in the figure resisting an energizing force of a spring 12, and a bent part 11A of the eject plate in restrained from restoring by a restraining part 8B of a lock plate 8.例文帳に追加

このとき、スライダの前端面４Ｂがイジェクトプレート１１の折曲部１１Ｂを押すので、イジェクトプレート１１はスプリング１２の付勢力に抵抗しながら図示の位置に至り、イジェクトプレートの折曲部１１Ａはロックプレート８の抑止部８Ｃに復元を制止される。 - 特許庁

To provide a surface treated steel sheet excellent in workability and weather resistance, in which stable rust is formed at an early stage not only in rural districts but also in coastal regions, the generation of flowing rust and the elution of contaminants do not occur in the process of the deposition, and the adhesion for a coating film after working is also good.例文帳に追加

田園地帯では勿論のこと海岸地帯でも安定錆を早期に形成し、該形成の途上で流れ錆の発生や環境汚染物質の溶出がなく、加工後の塗膜密着性も良好な、加工性および耐候性に優れる表面処理鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide an electrolytic processing method to process a work furnished with a first hole and a second hole to be open in the wall portion surrounding the first hole, capable of processing the edge part as the contacting part of the first hole surrounding wall with the second hole surrounding wall into an approximately curved surface.例文帳に追加

被加工物に、第１の孔と、第１の孔の周壁部に開口する第２の孔とが形成されている場合に、第１の孔の周壁部と第２の孔の周壁部とが接する部分であるエッジ部を、略曲面状に加工することが可能な電解加工方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises adding to mix alumina as a calcination preventing agent to the fluorescent substance precursor on a process so that the calcinations preventing agent may be added to the unit mass of the fluorescent substance precursor at a rate of 5-100% relative to the BET specific surface area of the fluorescent substance precursor.例文帳に追加

焼結防止剤としてアルミナを蛍光体前駆体形成中に添加し、蛍光体前駆体単位質量当たりの焼結防止剤添加量が蛍光体前駆体のＢＥＴ比表面積に対して５〜１００％になるように混合して焼成する。 - 特許庁

The manufacturing process comprises a step wherein a molded product, which comprises silicon carbide and carbon and has a size larger than the final size, is impregnated with molten silicon and a step wherein the surface layer of the molded product impregnated with the molten silicon is shaved off through machining to obtain the part of the final size.例文帳に追加

最終寸法より大きく成形された炭化ケイ素とカーボンからなる成形体に溶融シリコンを含浸させる工程と、溶融シリコンの含浸された前記成形体の表面層を機械加工により削除して最終寸法の部品とする工程とを有する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, configured by mounting a semiconductor chip on a mounting substrate, which inhibits heat radiation of the heat generated at the semiconductor chip to the air on the peripheral side surface side as much as possible, releases the heat to the mounting substrate more definitely, and is manufactured in a low-cost and simple manufacturing process.例文帳に追加

半導体チップが実装基板に搭載されて構成された半導体装置において、半導体チップに発生した熱の周側面側の空気中への放熱を可能な限り抑制し、熱をより確実に実装基板に逃がし、かつ製造を低コストかつ簡易な製造プロセスにする。 - 特許庁

To provide a spherical toner which has smooth surface, is superior in performances, such as electrical chargeability and transfer characteristics, provides high image quality, to provide a manufacturing method for the toner and to provide a developer, a vessel containing the toner, a process cartridge, an image forming apparatus, and an image forming method which use the toner and provide high image quality.例文帳に追加

表面が平滑であり、帯電性、転写性等の諸特性に優れ、高画質が得られる、球形のトナー及びその製造方法、並びに、該トナーを用い、高画質化が可能な、現像剤、トナー入り容器、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

When the process cartridge is loaded in the image forming device main body, a pressure member 26 energized by a pressure spring 27 on the image forming device main body side gets into space between the members 24 and 23, energizes the member 23 downward and pressures the roller 2 to the surface of the drum 1.例文帳に追加

プロセスカートリッジを画像形成装置本体に装着すると、画像形成装置本体側の、加圧ばね２７によって付勢された加圧部材２６が、ガイド部材２４と軸受部材２３との間に入り込んで軸受部材２３を下方に付勢して、帯電ローラ２を感光ドラム１表面に加圧する。 - 特許庁

To provide a forming method and a forming product obtained by the forming method capable of improving a yield, unit strength, surface- roughness and dimensional accuracy, and forming a cylindrical forming product having a dimensional height which cannot be obtained through a single drawing work by a single drawing, ironing, and compression forming process.例文帳に追加

歩留まり、強度、表面あらさ及び寸法精度の向上を図り、一回の絞り加工では得ることができない、高さのある容器状成形品を、一回の絞り・しごき・圧縮成形加工により成形する成形方法及びその成形方法により得られる成形品の提供。 - 特許庁

To provide a primer coat which imparts high adhesive properties to a coating film formed by a vacuum plating process by applying one kind of primer coat without making the applied formation of discrete undercoats, to a resin which does not undergo a surface modification, even when it is merely exposed to a high frequency plasma or a CD plasma.例文帳に追加

単に高周波プラズマや直流プラズマに曝した程度では表面改質されない樹脂に、それぞれアンダーコートを塗り分けることなく、一種類のプラマーコートを塗布することで、真空メッキ法で成膜した膜に、高い密着性が得られるプライマーコートを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a composite steel component, which can achieve a sufficient effect of improving the surface hardness of a part that requires wear resistance, which can improve the characteristics of a welded portion more than ever, and which can completely abolish an anti-carburizing process during manufacture.例文帳に追加

耐摩耗性が必要な部分の十分な表面硬度向上効果が得られると共に、溶接部の特性をこれまで以上に向上させることができ、かつ、製造時の防炭処理を完全に廃止することができる複合鋼部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface-oxidized abrasion-resistant lubrication coating film which prevents the occurrence of damage in a contacting object which is an opponent that abrades or comes in contact with a base material or the coating film, by using an inexpensive material with a simple process, and can show high lubricity for a long period of time.例文帳に追加

簡単な方法で，かつ，廉価な材料を使用して，母材や被膜の摩耗，接触の相手方となる被接触物体に損傷が発生することを防止でき，長期に亘り高い潤滑性を発揮することのできる表面酸化耐摩耗潤滑被膜を提供する。 - 特許庁

To provide a moisture absorbing/releasing agent suppressing the wetting of a surface caused by a deliquescent substance at the time of moisture absorption, having high moisture absorbing/releasing capacity and a high moisture absorbing and desorbing speed in the vicinity of room temperature and capable of being inexpensively mass-produced by a simple process.例文帳に追加

吸湿時に潮解性物質に起因して発生する表面の濡れが抑制されていることに加えて、吸放湿容量および室温付近での吸放湿速度が共に高く、さらに簡単な工程で安価に大量生産することが可能な吸放湿剤を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional display device for advertisement which does not require any mold and is not subjected to the process of heat forming after print and is prevented from deformation of a print previously provided on the surface of a sheet and is formed like a sheet so that plural display devices can be closely piled up and shipped and reduces transporting and packing expenses.例文帳に追加

金型が不要で、印刷後の加熱成形加工の工程がなく、事前にシートの表面に施した印刷が変形しない上に、複数枚を密着して積み重ねて出荷できるようにシート状に形成し、輸送梱包経費を低減できる広告用立体ディスプレーを提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing an epitaxial wafer for nitride semiconductor light-emitting diode, in which a moderately roughened surface exhibiting high light take-out efficiency is provided, without bringing about increase in fabrication method and fabrication cost, as in the methods where wet etching or a resist pattern have been used for a long time.例文帳に追加

長時間のウエットエッチングやレジストパターンを用いる方法のように製造工程及び製造コストの増加をもたらすことがなく、光取出し効率の高い適度に荒れた表面を有する窒化物半導体発光ダイオード用エピタキシャルウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device, wherein since foreign matters stuck to the surface of an electrifying roller increase with the lapse of time, the foreign matter is removed while preventing adhesion, and also, its removing performance therefor can be maintained over a long period, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

本発明の課題は、経時で増加する帯電ローラ表面への異物付着に対して、異物を固着することを防止ししながら除去し、かつその除去性能が長期にわたって維持できる清掃装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

In a process for manufacturing the original plate for the lithographic printing plate which is constituted by providing an image recording layer containing water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared light absorber on a support, a slip sheet is laminated on an image recording layer surface within 5 minutes after applying and drying a coating liquid onto the image recording layer.例文帳に追加

水不溶且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含む画像記録層を支持体上に設けた平版印刷版用原板を製造する工程において、画像記録層塗布液の塗布乾燥後５分以内に合紙を画像記録層表面に重ね合わせる。 - 特許庁

To obtain an optical semiconductor device having an electrode pad surface, whose size makes improvement of light leading-out efficiency and high efficiency of a bonding process compatible with each other, without causing troubles in that a P-N junction is shorted by alignment deviation when an electrode pattern is formed, and a manufacturing method of the device.例文帳に追加

電極パターン形成時のアラインメントずれによりＰＮ接合間がショートされるといったトラブルを起こさず、光取出効率の向上とボンディング工程の効率化を両立させる大きさの電極パッド面を持つ光半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a piston base 11 (base) in which admittance of an anodic oxidation coating layer 13 is within a specified range (for example, 0.9 to 2.0 mS) by specifying the surface roughness of the piston base 11 (base) to be 3.0 μmRa or less, good adhesion of a chromium plating layer is reliably obtained in a chromium plating process.例文帳に追加

ピストン基体１１（基体）の表面粗さを3.0μmRa以下と規定することで、陽極酸化皮膜層１３のアドミッタンスが規定範囲（例えば0.9〜2.0mS）内であるピストン基体１１（基体）においては、クロムめっき処理工程において、確実に、クロムめっきの良好な密着性を得ることができる。 - 特許庁