「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(170ページ目) - Weblio英語例文検索

The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁

In the mounting process of the image sensors using solid image devices, an adhesive tape with polyethylene naphthalate (PEN) as a base material having a protrusion for exfoliation on at least a part of the periphery and having an adhesive layer on at least one surface is affixed to the light receiving section of the image sensor.例文帳に追加

固体撮像デバイスを用いた映像センサの実装工程において、映像センサの受光部に、ポリエチレンナフタレートを基材とし、その外周の少なくとも一部に剥離用の突起部を有し、かつ、少なくとも片面に粘着層を有する粘着テープを貼り合せることを特徴とする。 - 特許庁

To minimize the warpage of the seal surface of a cap having a projected part (guide) caused by pressing work distortion without increasing the complication of a manufacturing process, and also to secure the maximum effective height of a semiconductor element mount part in a cavity, when the cap is manufactured by pressing a metallic plate.例文帳に追加

金属板のプレス加工によって凸部（ガイド）を有するキャップを製造する際に、製造工程を複雑にすることなく、プレス加工歪みに起因するシール面の反りを極小にすると共に、キャビティ内の半導体素子搭載部の有効高さを最大限に確保できるようにする。 - 特許庁

The sensor chip 3 is formed from a stainless steel product manufactured by dissolving/casting, by a vacuum induction melting method, a steel ingot dissolved/cast by an ordinary solution process, and by dissolving/casting it again by a vacuum arc remelting method, and the surface thereof is polished.例文帳に追加

センサチップ３は、通常の溶解法によって溶解・鋳造された鋼塊を真空誘導溶解法によって溶解・鋳造し、さらに真空アーク再溶解法によって溶解・鋳造することにより製作されたステンレス鋼材によって形成され、その表面が研磨されている。 - 特許庁

To provide a coating material for plastics giving a soft coating film greatly improved in abrasion resistance and vacuum forming characteristics to a plastic molded article, and suitably applicable to environmental friendly surface treatment of an automobile interior trim material with consideration given to reduction in emission of volatile organic solvents (VOC) in a painting process.例文帳に追加

プラスチック成型品にソフトタッチで耐摩耗性や真空成型性が非常に向上した塗膜を与え、さらに塗装の際に揮発性有機溶剤（ＶＯＣ）の排出削減を考慮した環境対応型の自動車内装材の表面処理に適合したプラスチック用塗料を提供すること。 - 特許庁

In a process of executing development processing for an exposed resist film formed on the surface of a substrate W, a developing liquid mixed with a hydrophobing agent is supplied from a development liquid supply nozzle 28 onto the resist film, and the resist film is subjected to rinse processing, after the development processing and spin-dried.例文帳に追加

基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理する工程において、現像液供給ノズル２８から疎水化剤が混合された現像液を基板表面のレジスト膜上へ供給し、現像処理後にリンス処理しスピン乾燥する。 - 特許庁

To allow an electrode short circuit to occur by cutting the surface of an HSG silicon layer together with a natural oxidation film and producing HSG grain peeling due to lack of mechanical strength of a lower electrode when a wet etching process is performed before formation of a dielectric film in a manufacturing method of a capacitor utilizing HSG formation.例文帳に追加

ＨＳＧ形成を利用したキャパシタの製造方法で、誘電体薄膜の形成前にウェットエッチング工程を行うと自然酸化膜と一緒にＨＳＧシリコン層の表面も削られて、下部電極の機械的強度不足によりＨＳＧ粒剥がれが発生して電極短絡が起こる。 - 特許庁

In a process B in which the cylinder is not in operation, and a rear half portion of the car is washed by the top brush 8, the lowering speed of the top brush 8 is increased as the backward oscillating angle of the guide frame 9 is decreased due to the decrease in surface pressure, and the traveling speed of the traveling frame 4 is dropped.例文帳に追加

シリンダ３を不作動にしてトップブラシ８で車両の後半部を洗浄する（Ｂ）の工程では、面圧減少によって案内枠９が後方へ揺動する角度が小さくなる程、トップブラシ８の下降速度を増加させるとともに走行フレーム４の走行速度を低下させる。 - 特許庁

In the first supply process, the stator core 2 is held horizontally under such a posture as the coil ends 3a and 3b of the coil 3 by keeping the upper coil end 3a upward become vertical, varnish is injected from the upper surface of the upper coil end 3a and then the impregnation varnish is made to flow downward from the upper coil end 3a.例文帳に追加

次に、第１供給工程で、上側コイルエンド３ａを上に向けて、コイル３のコイルエンド３ａ，３ｂが上下になる姿勢でステータコア２を水平に保持し、上側コイルエンド３ａの上面からワニスを注入し、上側コイルエンド３ａの上から下へワニスを含浸流下させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a quartz glass tube by which the variation of the inside and outside diameter of the quartz glass tube to be manufactured is suppressed and the quartz glass tube having an excellent surface free from flaw or the like and the prescribed inside and outside diameter is obtained in the manufacture of the quartz glass tube by a pressurized hot plug insertion process.例文帳に追加

熱間プラグ圧入法により石英ガラス管を製造する方法において、製造される石英ガラス管の内外径の変動を抑制し、さらに疵などのない表面性状の良好な所定の内外径を有する石英ガラス管の製造方法の提供。 - 特許庁

A hose is wound around a winding drum in a state in which a motor and a pump are operated and high-pressure liquid obtained by operation of a pump from a nozzle of the top of the hose is jetted to the hose in a process before winding the hose around the winding drum to carry out removal of soil, mud, waste, etc., attached to the hose surface.例文帳に追加

原動機とポンプを稼動させた状態で巻取りドラムにホースを巻き取ると共に、ホースの先端のノズルからホンプの可動によって得られる高圧の液体の噴射を、巻取りドラムに巻き取る前の過程でホースに噴射し、ホース表面に付着した土、泥、ゴミ等の除去を行う。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which is used in a copying machine, a printer, a fax machine or the like using an electrophotographic process, which has superior repetition durability and surface slidability than the conventional photoreceptor, in which a coating liquid exhibits good stability in formation of a coating, and which demonstrates excellent productivity.例文帳に追加

電子写真プロセスを用いた複写機やプリンター、ファックスなどに用いられる、従来のものに比べ繰り返し耐久性および表面滑り性に優れ、しかも塗布形成の際の塗布液の安定性がよく、生産性に優れた電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition excellent in sensitivity, heat resistance, chemical resistance, process stability, formability and flatness, and capable of forming a highly fine pattern having a smooth surface and a high dimensional precision and containing little impurities, and to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

高感度であり、耐熱性、耐薬品性に優れ、プロセス安定性が高く、形状が良好で平坦性に優れ、パターン表面の荒れの少なく、不純物の混入が少なく寸法精度の高い高精細なパターンを形成できる感光性着色組成物及びカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

A specified diffraction grating is formed on the surface of a substrate 2 such as silicon by photolithography or the like to form a second reflection face 6, on which a transparent film 3 is formed flat and formed into a specified diffraction grating by using again a photolithographic process or the like to form a first reflection face 5.例文帳に追加

シリコンなどの基板２の表面にフォトリソグラフィー等により所定の回折格子を形成し第２の反射面６とした後、透明膜３を平坦に形成し再度フォトリソグラフィー等の技術を用いて所定の回折格子を形成することにより第１の反射面５とする。 - 特許庁

To provide a tumbling device automatically conveying and supplying stock meat to a massage drum, further automatically conveying the meat from the massage drum to a next process, capable of improving productivity in producing ham and also capable of widely reducing labor for cleaning a floor surface accompanying with the scattering of pickle liquid.例文帳に追加

タンブリング装置において、原料肉をマッサージドラムに自動的に搬送供給し、さらにマッサージドラムから自動的に次工程へ搬送して、ハム製造時の生産性を向上でき、しかもピックル液などの飛散に伴う床面の清掃の手間を大幅に軽減できるようにする。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having the step of flattening the semiconductor substrate front surface by buffing on the way of the wafer process, the shape of a hole-like marker for the alignment formed before the above flattening step inverse tapered shape-like cross-sectional shape.例文帳に追加

ウエハプロセスの途中で半導体基板表面をバフ研磨により平坦化する工程を有する半導体装置の製造方法において、前記平坦化工程の前に形成されるアライメント用ホール状マーカーの形状を逆テーパー状断面形状にする半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

To manufacture a xerographic photoreceptor which removes foreign substances such as minute machining shavings and dust before a photosensitive layer formation process on the surface of a cylindrical substrate for the xerographic photoreceptor, and eliminates dots resulting from the foreign substances to attain high image quality by suppressing device costs and manufacturing tact.例文帳に追加

電子写真感光体用の円筒状基体表面において微小な切削切り粉やダストといった異物を、感光層形成工程前に除去し、異物に起因するポチをなくして高画質を実現する電子写真感光体を、装置コスト及び製造タクトを抑えて製造する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating liquid crystal alignment to stabilize alignment with a pretilt angle in a single manufacturing process, compared with the prior art, by modifying the surface of an alignment film with adjustable directions and angles, and to provide a liquid crystal alignment system to be applied to the fabrication method.例文帳に追加

従来の技術と比較して、方向や角度が調整可能になるよう配向膜の表面を改質することで、単一の製造工程によりプレチルト角の配向の安定性を図るための液晶配向製法および該製法に適用される液晶配向システムを提供する。 - 特許庁

Printing is executed by using a lithographic plate having an image formed on a substrate which has a hydrophilic surface wherein a hydrophilic graft polymer chain exists and by using the emulsion ink obtained by a process wherein a hydrophilic component constituted mainly of water and/or a polyalcohol is added to an oil-based ink component and emulsified.例文帳に追加

親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に画像を形成した平版印刷版と、油性インキ成分に水及び／又は多価アルコールを主成分とする親水性成分を加え、乳化して得られたエマルジョンインキとを用いて印刷する。 - 特許庁

The method for manufacturing acoustic matching layers used for an ultrasonic sensor includes a process in which a plurality of recesses (11a) are formed on the surface of a resin layer (11), and a hard layer (12) made of ceramic or metal is formed with an aerosol deposition method so as to fill the recesses (11a).例文帳に追加

超音波センサ用音響整合層の製造方法は、樹脂層（１１）の表面に複数の凹部（１１ａ）を形成し、それらの凹部（１１ａ）を埋めるようにセラミックまたは金属からなる硬質層（１２）をエアロゾルデポジション法で形成する工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁

To provide an optical scanner and an image forming apparatus which enable the production cost of them to be reduced and can suppress attachment of foreign material on optical components arranged on an optical path from a scanning lens to the surface of an object to be irradiated during the maintenance process of a deflection means.例文帳に追加

装置の製造コストを安価にすることが可能、かつ、偏向走査手段のメンテナンス時に、走査レンズから被照射体表面までの光の光路上に配置された光学系部品に異物が付着するのを抑えることができる光走査装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which prevents reduction in hFE in low current due to an increase of the surface recombination current in a bipolar transistor and can microscopically form the device by forming an external base region in a self alignment manner to an emitter polycrystalline silicon film in a BiCMOS process.例文帳に追加

ＢｉＣＭＯＳプロセスにおいて、バイポーラトランジスタの表面再結合電流の増大による低電流でのｈ_FEの低下を防止し、外部ベース領域をエミッタ多結晶シリコンに対して自己整合的に形成することで微細化が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the first time solder paste printing process, a quantity of the solder paste 311 to be printed on the electrode 111 in an opening 213 of a mask 211 for printing laid on top of the substrate 100 is such that, when the paste becomes a molten solder 312, it is brought into contact with the upper surface 113 of the electrode.例文帳に追加

１回目のハンダペーストの印刷工程で、基板１００に重ねた印刷用マスク２１１の開口２１３における電極１１１上に印刷するハンダペースト３１１の量を、溶融ハンダ３１２となったときに電極上面１１３に接触する量とする。 - 特許庁

To provide a varnish coater which utilizes a stencil process printer of conventional common digital plate making-type and enables simple/convenient applying of a uniform varnish film to a specified area of the surface or cover of printed matter by any user.例文帳に追加

一般的な従来のデジタル製版式の孔版印刷装置を利用・活用して、誰でもが簡単手軽に、印刷物の表面や表紙等の所定エリアに均一皮膜のニス塗布を行うことを可能にするための孔版印刷装置を利用したニスコーティング装置を実現し提供する。 - 特許庁

Next, after the large size substrate 12A where both front and rear surfaces are coated with protection layers 23, 24 is fixed on a supporting board 25 and a primary slit 26 is formed on the large size substrate 12A with the dicing process, an end surface electrode 18 is formed by diffusing on the resin layer 16 from the inside of the primary slit 26.例文帳に追加

次に、表裏両面に保護層２３，２４を塗布した大判基板１２Ａを支持台２５上に固定し、ダイシングにより大判基板１２Ａに一次スリット２６を形成した後、スパッタにより一次スリット２６内から樹脂層１６上へと回り込む端面電極１８を形成する。 - 特許庁

The process of forming the mask layer 45 is carried out, for example, by loading the ink-jet printer 47 with an ink tank charged with a masking material 46 and injecting the masking material 46 onto the surface of the organic film 11 into a prescribed pattern (a pattern forming the openings) to form the mask layer 45 on the organic film 11.例文帳に追加

こうしたマスク層４５の形成工程は、例えば、マスキング材４６を充填したインクタンクをインクジェットプリンタ４７に装填し、所定のパターン（開口の形成パターン）でマスキング材４６を有機膜１１の表面に噴射して、有機膜１１上にマスク層４５を形成する。 - 特許庁

The surface of a fuel cell separator material A produced by subjecting a material consisting of graphite powder and a resin to a molding process or machining is contacted with flames B from a burner C and subjected to a flame processing at a temperature of 500-1200°C for a period between 0.5-30 sec so that the fuel cell separator equipped with hydrophilic property is accomplished.例文帳に追加

黒鉛粉と樹脂からなる材料を成形又は機械加工をして得られる燃料電池セパレータ材Aの表面を、バーナCからの火炎Bと接触させて500〜1200℃の火炎温度で、0.5〜30 secの処理時間でフレーム処理することにより親水性が付与された燃料電池セパレータとする。 - 特許庁

The aluminum metal vapor deposition layer 13 of the aluminum metal transfer foil film 11 is pressurized on a surface of the color glossy layer 3 of the transferrable sheet 1 and partial transfer is carried out by embossing process at an embossing transfer speed of 10 m-20 m per min at a temperature of an embossing roller of 120°C-140°C.例文帳に追加

前記被転写シート１の各色光沢層３の面に前記アルミ金属転写箔フィルム１１のアルミ金属蒸着層１３を加圧し、エムボス転写速度：毎分１０ｍ〜２０ｍ、エムボスローラの温度：１２０℃〜１４０℃の条件でエムボス加工により部分転写を行なう。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process, to prevent the peeling and scratch of a character and a ruled line, to enhance water resistance and durability, and to enable the preprovision of dense detailed figures etc., particularly, in a blackboard whose writing surface is preprovided with the character and the ruled line.例文帳に追加

特に、筆記面に予め文字や罫線が設けられた黒板において、製作工程を簡素化し、文字や罫線の剥がれや擦れを防止し、耐水性及び耐久性の向上を図るとともに、さらに、緻密で詳細な図形などをも予め設けておくことを可能とする。 - 特許庁

To make it possible to secure sufficient strength of a zeolite thin film, to reduce its dielectric constant, to enhance its flatness of the surface, also to realize the enhancement of its hydrophobicity, and further to reduce the cost by simplifying the production process, too, even in the case of using a zeolite crystal of other than an MFI type as a main component.例文帳に追加

ＭＦＩ型以外のゼオライト結晶を主成分とする場合であっても、ゼオライト薄膜の十分な強度を確保でき、誘電率低減、表面の平坦性向上、また疎水性向上をも実現し、さらに作成工程の簡略化による低コスト化も可能となるようにする。 - 特許庁

When the group III nitride single crystal is grown on a substrate 5, on whose surface the ground film 6 of the group III nitride single crystal is formed, by using the flux 2 containing a sodium metal, a pretreatment process is provided for keeping the ground film, or the like, at a keeping temperature lower than the growth temperature of the group III nitride single crystal.例文帳に追加

表面にIII属窒化物単結晶の下地膜６が形成された基板５上に、ナトリウム金属を含むフラックス２を使用してIII属窒化物単結晶を育成する際に、III属窒化物単結晶の育成温度よりも低い保持温度で保持する前処理工程を設ける。 - 特許庁

The heat treatment method includes a process where, in a sheet material in which an inorganic film is formed on the surface of a substrate made of a resin film, the inorganic film is subjected to heat treatment, and, for the heat treatment of the inorganic film, infrared rays with a wavelength hard to be absorbed by the substrate as compared with the inorganic film are used.例文帳に追加

本発明の熱処理方法は、樹脂フィルム製の基板の表面に無機膜が形成されたシート材に、無機膜に加熱処理を行う工程を有し、無機膜の加熱処理に、無機膜よりも基板の方が吸収されにくい波長の赤外線を用いる。 - 特許庁

In the following process of creating a second impervious structure extending from a second top end height H2 at a position higher than the water level at the high tide in the construction water area to the intra-dike bottom surface part, the influence of the uplift pressure from the outside of the dike is eliminated by the first impervious structure 24.例文帳に追加

以後の、施工水域の満潮時の水位よりも高位置の第２の天端高Ｈ２から堤内底面部に至る第２の遮水構造体を造成する工程では、第１の遮水構造体２４により、堤外からの揚圧力の影響を排除する。 - 特許庁

To provide a method for planarizing a planarizing film provided on the surface of a substrate to be worked having an unevenness in a production process for a semiconductor device or a display device capable of obtaining high planarity even with a thin planarizing film by a simple method without using an expensive apparatus.例文帳に追加

半導体装置や表示装置などの製造工程における凹凸を有する被加工基板表面に設けた平坦化膜の平坦化方法において、高価な装置を用いずに簡便な方法で薄い平坦化膜でも高い平坦度を得ることができる平坦化方法を提供する。 - 特許庁

To provide tantalum powder in which the sintering rate is suppressed, and the sintering process is easily and suitably controllable by uniformly incorporating nitrogen into fine tantalum powder having a large surface area, to produce a porous sintered body uniform in size and distribution of circular openings and to provide a high CV capacitor.例文帳に追加

微細で表面積の大きなタンタル粉末に窒素を均一に含有させて、焼結速度が抑制され、焼結工程を適切に制御しやすいタンタル粉末を提供し、空孔の大きさや分布が均一な多孔質焼結体を製造し、高ＣＶコンデンサを提供する。 - 特許庁

Other non-limiting embodiments of the disclosure provide methods of making ophthalmic elements and devices comprising a process forming an at least partial coating adapted to polarize transmitted electromagnetic waves on at least a portion of at least one exterior surface of the ophthalmic element or substrate.例文帳に追加

本開示の別の非限定的実施形態は、眼科エレメントまたは基板の少なくとも一つの外表面の少なくとも一部分の上に、透過電磁波を偏光させるようになされた少なくとも部分的な被膜を形成させる工程を包含する眼科エレメントおよびデバイスの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film for a transfer material having an antistatic capacity and a blocking preventing capacity to the surface opposite to the transfer layer of the transfer material and capable of not only enhancing the capacity of the transfer material but also reducing trouble accompanying static electricity at the time of production of the transfer material or at the time of a transfer process.例文帳に追加

転写材の転写層の反対面側に帯電防止性能とブロッキング防止能を併せ持ち、転写材の性能を向上させるとともに転写材作成時や転写工程時の静電気に伴うトラブルを軽減することのできる転写材用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The surface of a rotating disk is fed with a refrigerant so as to form a liquid film of the refrigerant, and the molten metal is subjected to primary pulverization by a gas atomizing process so as to obtain intermediate particles, and, while secondarily pulverizing the intermediate particles by the liquid film on the rotating disk, rapid cooling is performed.例文帳に追加

回転するディスクの表面に冷媒を供給して該冷媒の液膜を形成し、溶融金属をガスアトマイズ法にて１次粉砕して中間粒子を得、該中間粒子を前記回転するディスク上の前記液膜により２次粉砕しつつ急冷することとした。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which no crack occurs on a photoreceptor surface under conditions of being exposed by chemical substances such as oil or a hydrocarbon-based organic solvent and which satisfies requirements for scratch resistance, abrasion resistance, adhesiveness, and electrical properties, and a process cartridge and an image formation apparatus using the same.例文帳に追加

オイルや炭化水素系有機溶剤等の化学物質に曝露される条件下でも感光体表面にクラックが生じず、かつ耐キズ性、耐摩耗性、接着性、電気特性の要求を満足する電子写真感光体、並びにそれを用いたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A throttle section 17 adjusts an area or a position of the opening so as to allow the edge of the junction between the element 12 and the sheet 11 to agree with the edge of a contact region between a lower surface of the sheet 11 and the sheet 16a in the exfoliation process of the element 12.例文帳に追加

絞り部１７は、半導体素子１２の剥離過程において、半導体素子１２と粘着シート１１との接合部の縁部が、粘着シート１１の下面と突き上げシート１６ａとの接触領域の縁部とが一致するようにその開口部の面積又は位置を調整する。 - 特許庁

To provide an apparatus for stretching a thermoplastic resin film which prevents nip nonuniformity in the rotary shaft direction of a nip roll caused by the thermal degradation of the surface of the nip roll and can stably produce the film in a stretching process in the production of the film and a method of producing a sheet.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムの製造における延伸工程において、ニップロール表面の熱劣化起因で生じるニップロール回転軸方向のニップ不均一を防止し、安定してフィルムを製造することができるフィルム延伸装置、およびシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water treatment method which recovers the treatment capacity of a separation membrane by a scale layer produced by the adhesion of silicon compounds such as silicon dioxide (silica) to the surface of the separation membrane, in a membrane separation process for the purification and reuse of wastewater and almost does not cause environmental pollution.例文帳に追加

排水の浄化・再利用に用いる膜分離プロセスにおける二酸化ケイ素（シリカ）等のケイ素化合物が分離膜表面に付着して生成したスケ−ル層による分離膜の処理能力の回復を図り、且つ、環境に悪影響を与えることが少ない水の処理法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive relief pattern forming material for which an alkali developer can be used in a development process as a material for a surface protective film or an interlayer insulation film of a semiconductor device, and which ensures a low residual stress because of a low curing temperature and exhibits excellent heat resistance and mechanical characteristics.例文帳に追加

半導体装置の表面保護膜または層間絶縁膜材料用途として、現像工程でアルカリ現像液が使用でき、低いキュア温度により、残留応力が低く、優れた耐熱性、機械特性等を発現するポジ型感光性レリーフパターン形成材料を提供する。 - 特許庁

When the bimorph element 1 is jointed in piles the piezoelectric elements 1a, 1b, where the poling process is performed to the tangential adjusting which is orthogonal to the radial direction of the rotor 2 and voltage is impressed between the bonded surface and the other side, the bimorph element 1 is bent, since one piezoelectric element is elongated and the other piezoelectric element is shortened.例文帳に追加

バイモルフ素子１は、回転体２の径方向と直交する接線方向に分極処理された圧電素子１ａ，１ｂを重ねて接合し、その接合面と他方の面との間で電圧を印可すると、一方の圧電素子は伸び一方の圧電素子は縮む為、バイモルフ素子1は屈曲する。 - 特許庁

The film deposition method by a sputtering process using a target composed of a material having a specific resistance of ≥1×10^3 Ω cm and applying negative voltage to the target is characterized in that the method is implemented while feeding electrons to the surface of the target with the use of an electron gun.例文帳に追加

比抵抗１×１０^３Ω・ｃｍ以上の材料からなるターゲットを用い、該ターゲットに負電圧を印加して行なうスパッタリング法による成膜方法であって、電子銃を用いて該ターゲット表面に電子を供給しつつ行なうことを特徴とする成膜方法。 - 特許庁