「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(171ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus in which the toner or the external additives used for the toner are less likely to stick to the surface of an electrifying member, even in long-term repeated use, so that stable charging and image output are attained for a long period of time, even if the cartridge is used for a DC contact charging system.例文帳に追加

長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、よってＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電および画像出力が可能なプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

When the hinge ball 13 and the driving shaft 7 are made of iron alloy, the inner circumference surface of the hole 13a of the hinge ball 13 is subjected to chemical conversion coating electroless plating method process, or low-temperature sulfide permeation treatment, so that an oxidation film, plating 37, or an iron sulfide diffusion layer is formed on the inner circumference of the hole 13.例文帳に追加

ヒンジボール１３及び駆動軸７を鉄系合金で形成した場合に、ヒンジボール１３の孔１３ａの内周面表面に、化成処理、無電解メッキ法又は低温浸硫処理を施すことにより、酸化皮膜、メッキ３７又は硫化鉄の拡散層を形成する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor free of lowering of image density and occurrence of an abnormal image such as surface stain even in long-term repetitive use, and stably providing a good image even in an environment, e.g., at high temperature and high humidity or low temperature and low humidity, and also to provide an electrophotographic apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

長期にわたる繰り返し使用においても画像濃度の低下、地汚れ等の異常画像が発生せず、さらに高温高湿、低温低湿といった環境下でも安定して良好な画像を提供する電子写真感光体、並びに、電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Accordingly, the layer similar to the SiC film formed on the surface of the SiN film 8 can be removed in the etching process of the second BPSG film 9 as the upper layer and the SiN film 8 and the first BPSG film 7 as the lower layer thereof can be etched without any residue.例文帳に追加

これにより、上層の第２のＢＰＳＧ膜９のエッチング工程でＳｉＮ膜８の表面部に形成されたＳｉＣ膜類似層を除去することが可能になり、ＳｉＮ膜８およびその下層の第１のＢＰＳＧ膜７を残渣なくエッチングすることが可能になった。 - 特許庁

To provide a method for testing to discover an improving means by reproducing surface stress corrosion cracking of a stainless steel used in a certain residual stress state used in a facility installed outdoor in a high temperature atmosphere of about 100°C in a process and to provide a testing apparatus therefor.例文帳に追加

屋外に設置され、かつ、プロセス上、１００℃前後の高温雰囲気になる設備で用いられ、残留応力のある状態で使用されているステンレス鋼の外面応力腐食割れを再現し、その改善手段を見出すための試験方法とそのための試験装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a microstructure in which a new microstructure having a frame shape and a semiconductor element for controlling the microstructure are integrally formed on a same insulative surface by a same process, and a manufacturing method thereof, by which cost reduction can be achieved.例文帳に追加

枠形状を有する新たな微小構造体と、当該微小構造体を制御する半導体素子とを同一絶縁表面上に同一工程で一体形成することで、より低コスト化を図ることが可能な微小構造体ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rolling method capable of suppressing the vibration of a rolled stock between roll stands in a finish hot-rolling process in a sizing mill for bar steel such as a wire rod and a steel bar, thereby reducing surface defects and enhancing the dimensional accuracy over the entire length of a rolled stock.例文帳に追加

線材、棒鋼などの条鋼のサイジングミルでの仕上げ熱間圧延過程で、ロールスタンド間での圧延材の振動を抑制して、表面疵を低減させ、かつ圧延材全長にわたる寸法精度を向上させることが可能な圧延方法を提供することである。 - 特許庁

In the conductive rubber roller in which at least one or more non-foam rubber layers are formed on a conductive core material and the shape of the rubber layer is adjusted by a surface grinding process after vulcanization, the tear strength of the rubber composition of the rubber layer is 5 to 22kN/m.例文帳に追加

導電性芯材上に少なくとも１層以上の未発泡ゴム層が設けられており、そのゴム層が加硫後の表面研削工程により形状が調整されている導電性ゴムローラにおいて、該ゴム層のゴム組成物の引き裂き強度が5〜22kN/mであることを特徴とする導電性ゴムローラ。 - 特許庁

After this, even if impurities are easily discharged from the channel region CH to the element separation region 10 side heated by an anneal process and the like, a threshold voltage of a cell transistor Tr can be kept stable by suppressing the impurities discharged from the side near especially the surface of the silicon substrate 2.例文帳に追加

この後、アニール工程等により加熱されチャネル領域ＣＨから不純物が素子分離領域１０側に放出されやすくなっても特にシリコン基板２の表面に近い側からの不純物放出を抑制でき、セルトランジスタＴｒの閾値電圧を安定的に保つことができる。 - 特許庁

Image area on the original is detected by an image process part 63, forced toner attachment is controlled based on result of comparison with a standard area by a control part 62 and a specified quantity of the toner is attached to a non image range on a photoreceptor drum surface, especially during an image forming period.例文帳に追加

画像処理部６３で原稿上の画像面積が検知され、制御部６２は基準面積との比較結果に基づいてトナー強制付着を制御し、所定量のトナーを感光体表面の非画像領域に付着し、特に画像形成期間中に付着する。 - 特許庁

A line protrusion 39 having a triangular cross-section whose posture is held so that its tip may be directed to the upside in the process of cooling and hardening the molten resin layer is integrally provided in the middle of the protrusion 35c on the side of the mold surface 37 over the whole circumference along the outer peripheral edge of a product shape part.例文帳に追加

溶融樹脂層の冷却硬化過程で先端を上に向けた姿勢に保持される断面三角形状の突条部３９を張出部３５ｃの型成形面３７側中程に製品形状部外周縁に沿って全周に亘って一体に突設する。 - 特許庁

According to the invention, the surface defect is decreased to improve the non-defective yield in the subsequent working process.例文帳に追加

マグネシウム合金の［温間粗圧延］−［焼鈍し］−［温間圧延］の工程を含むマグネシウム合金薄板のコイルを製造する方法において、粗圧延を経た中間シートのコイルに対し、水性の研削媒体の存在下に研磨ベルトを用いた湿式の表面研削を行なったのち、温間圧延に移る。 - 特許庁

A hot pressing sheet 12 for manufacturing a printed circuit board having unevenness on at least one surface includes at least an elastic deformation layer 14 which has reversible deformation during and before and after a hot pressing process, and thermal resistance.例文帳に追加

少なくとも片面に凹凸形状を有するプリント配線板を製造するための熱プレス用プレスシート１２であって、熱プレス工程及びその前後において可逆変形可能であり、かつ耐熱性を有する弾性変形層１４を少なくとも備えたことを特徴とするプレスシート１２である。 - 特許庁

The process for producing an optical article includes acid treatment step of dipping a workpiece including an antireflection layer formed on an optical substrate directly or via another layer interposed therebetween and an antifouling layer formed on a surface of the antireflection layer in an acidic liquid; a step of rinsing the work; and annealing the rinsed work.例文帳に追加

光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表面に防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬する酸処理工程と、ワークを洗浄する工程と、洗浄されたワークをアニールする工程とを有する。 - 特許庁

This process cartridge has a thin-plate elastic sheet 71, brought into a sliding contact with the periphery surface of the charging roller 2 and the sheet exists between the electroconductive member 59a and the charging roller 2, with the length of the elastic sheet 71 being made longer than that of the contact region of the charging roller 2 that contacts with an electrophotographic photoreceptor drum.例文帳に追加

帯電ローラ２の周面を摺擦する薄板状の弾性シート71を有し、前記弾性シート71の長さを帯電ローラ２が電子写真感光体ドラムに接触している接触領域の長さよりも長くして、導電性部品59ａと帯電ローラ２との間に介在している。 - 特許庁

In the steel balls used for the rolling bearing pressing and removing a band portion of a projected streak formed on a circumference orthogonal to the circumference connecting both end portions, the surface of ball stock is smoothed so that the band portion of the ball stock is removed by means of tumbling or so that the ball stock is clinched and compressed in a compressed process.例文帳に追加

両極部を結ぶ円周に直交する円周上に形成された突条のバンド部を押圧して除去した転がり軸受用鋼球であり、タンブラ加工にて素球のバンド部を取り除くか、または押圧工程にて素球を挟み込んで圧縮することにより表面を滑らかにする。 - 特許庁

In a process for forming a cylindrical formed body by pressing magnetic powder P in a die cavity C by means of an upper punch 14 while applying the magnetic field to the magnetic powder P by means of a lower coil 15 and an upper coil 16, the upper coil 16 is brought into contact with the upper surface 11b of a mortar-shaped mold 11.例文帳に追加

下部コイル１５および上部コイル１６によって磁場を印加しつつ、上パンチ１４で金型キャビティＣ内の磁石粉Ｐを加圧することで円筒状の成形体を成形する過程において、上部コイル１６を臼型１１の上面１１ｂに当接させる。 - 特許庁

To provide a steel sheet in which surface cracking is hard to be generated in a process where, regarding hot direct rolling or hot charge rolling for a slab, the slab is reheated as it is, so as to be hot-rolled without reducing its temperature to an Ar1 or below in a cooling stage succeeding to melting/solidifying, and to provide its production method.例文帳に追加

鋼片の直送圧延もしくはホットチャージ圧延において、溶融・凝固に引き続く冷却過程で鋼片をAr1以下に下げることなく、そのまま、又は再加熱し熱延を施す工程において、表面割れの発生しにくい薄鋼板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method which reduces uneven coating on a material to be coated and forms a coating film of even thickness in a method for coating process which forms a coating film on the peripheral surface of the material to be coated by immersing in a coating liquid the above material to be coated, and to provide a method for manufacturing a photoreceptor for electrophotography and a method for producing images.例文帳に追加

被塗工物を塗工液に浸漬する事により該被塗工物の外周面に塗膜を形成する塗工方法において、被塗工物の塗工ムラが少なく膜厚ムラのない塗工方法、並びに電子写真感光体、画像形成方法を提供する。 - 特許庁

As described above, the cleansing of Solvent Red 135 in the post-manufact ge does not significantly reduce HCB concentration. It is inferred that post-reaction cleansing only removes HCB on the surface of Solvent Red 135 and that it is difficult by this process to reduce the HCB taken into the crystallization. 例文帳に追加

以上のように、製造後のソルベントレッド１３５を洗浄してもさほど効果的に低減できていないことから、反応後の洗浄では表面のＨＣＢしか除去できず、結晶中に取り込まれたＨＣＢを低減させることは困難であると推察される。 - 経済産業省

To provide cellulose acylate solution dissolving the cellulose acylate with an organic solvent in a stable state, and produce a cellulose acylate film easily peeling from its supporting body in the production process, having a high optical uniformity even under a compulsive condition, a uniform density and an excellent surface state, by using the solution.例文帳に追加

セルロースアシレートが有機溶剤に安定な状態で溶解したセルロースアシレート溶液を提供し、その溶液を用いて製造過程で支持体からの剥離が容易で、強制条件下でも光学的均一性が高く、密度が均一で優れた面状を有するセルロースアシレートフィルムを製造する。 - 特許庁

To obtain a special false-twist textured yarn with excellent harshness feel by subjecting specific twistless thermoplastic synthetic multifilament yarn to false-twist texturing process under specified conditions so as to enable the knit fabrics made therefrom to be provided with surface unevennesses of natural irregularity feeling and stretch characteristics.例文帳に追加

自然な斑感の表面凹凸と伸縮特性と適度な張り、腰、シャリ感とを付与できる特殊仮撚加工糸、その製造方法及びその織編物と、更にドライ感を付与できる前記加工糸を用いた特殊複合合撚糸及びその織編物とを提供する。 - 特許庁

A method is characterized by a process that the pellicle consisting of the polymer which can be cured by electronic radiation with a wavelength of less than 800 nm and/or the electronic radiation to make a polymerization initiator coat the surface of a support film and is subsequently cured by the electromagnetic radiation and/or the electronic radiation.例文帳に追加

本発明に従った方法は、波長８００ｎｍ未満の電磁放射および／または電子放射により硬化可能な重合体および重合開始剤から成る皮膜を支持膜表面に塗布し、続いて電磁放射および／または電子放射により硬化する工程を特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing processes include porous support 10 forming process which forms the porous support 10 containing at least either of porous resin sheet 2 and porous yarn sheet on top of at least one surface of the thermoplastic resin film 1 and the conductive material coating process to coat conductive material liquid including conductive polymer having at least π conjugated double bond.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム１の少なくとも一方の面上に多孔性樹脂膜２及び多孔性繊維膜の少なくともいずれかを含む多孔性支持体１０を形成する多孔性支持体形成工程と、該多孔性支持体１０の表面に、少なくともπ共役二重結合を持つ導電性ポリマーを含む導電性材料塗布液を塗布する導電性材料塗布工程とを含む感熱孔版印刷用マスターの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminate having the substrate containing silicon or silicon dioxide, and the cycloolefin-based polymer film laminated in close contact with the substrate, includes a process A for carrying out plasma treatment to one side of the cycloolefin-based polymer film in the presence of oxygen gas, and a process B for pressure-bonding the plasma treated surface of the cycloolefin-based polymer film to the substrate containing silicon or silicon dioxide without interposing the adhesive.例文帳に追加

ケイ素又は二酸化ケイ素を含む基板と、前記基板に密着積層したシクロオレィン系ポリマーフィルムとを有する積層体の製造方法であって、シクロオレフィン系ポリマーフィルムの一方の面に、酸素ガスの存在下でプラズマ処理を施す工程Ａと、前記シクロオレフィン系ポリマーフィルムのプラズマ処理面を、接着剤を介することなく、ケイ素又は二酸化ケイ素を含む基板に圧着する工程Ｂとを含むことを特徴とする、積層体の製造方法。 - 特許庁

This CMOS image sensor is provided with a silicon substrate 21; a silicon germanium epitaxial layer grown on the silicon substrate via an epitaxial process and doped with a predetermined concentration of impurities; an undoped silicon epitaxial layer grown on the silicon germanium epitaxial layer via the epitaxial process; and a photodiode region formed in a predetermined depth from the surface of the undoped silicon epitaxial layer 25 to one part of the silicon germanium epitaxial layer 100.例文帳に追加

本発明のＣＭＯＳイメージセンサは、シリコン基板と、該シリコン基板上にエピタキシャル工程を介して成長し、所定濃度の不純物がドーピングされたシリコンゲルマニウムエピタキシャル層と、該シリコンゲルマニウムエピタキシャル層上に、エピタキシャル工程を介して成長させたアンドープのシリコンエピタキシャル層と、該アンドープのシリコンエピタキシャル層の表面から前記シリコンゲルマニウムエピタキシャル層の一部に至るまでの所定の深さに形成されたフォトダイオード領域とを備える。 - 特許庁

To provide a preparation process of polyamide porous particles having a relatively uniform particle diameter and a large specific surface area from a crystalline aliphatic polyamide such as nylon 11 or nylon 12 with a melting point of 200°C or less or a crystalline aliphatic polyamide with a low hygroscopicity of a water absorption of 4% or less by a precipitation process of a polymer without heating a polymer solution.例文帳に追加

本発明は、ナイロン１１やナイロン１２などの融点２００℃より低い結晶性脂肪族ポリアミド又は、ナイロン１１やナイロン１２などの吸水率が４％以下の低吸湿性の結晶性脂肪族ポリアミドから、比較的均一な粒子径を有し、比表面積が大きいポリアミド多孔質粒子を、ポリマー溶液を加熱することなく、ポリマーの析出法により、容易に安定して製造できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a ceramic electronic component comprises: a first process for forming a corrugated section including convex and/or concave section on the surface; a second process for forming a first electrode film to be the terminal electrode, by mutually contacting a tapered section consisting of top of the convex section, or convex and/or concave section; to the end face of the ceramic raw material.例文帳に追加

本発明のセラミック電子部品の製造方法は、導電性ペーストを用いて、表面に凸部または／および凹部を備える波状形成部を形成する第１工程と、凸部の頂点部あるいは凸部または／および凹部により構成される傾斜部と、セラミック素体の端面と、を互いに接触させ、セラミック素体の端面に端子電極となるべき第１電極膜を形成する第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the metal foil for the circuit boards which manufactures the metal foil for the circuit boards by using the metal foil and a polymerizable polymer includes a process step of immersing the metal foil into an aqueous solution containing the polymerizable polymer, supporting electrolyte and alkyl amine to electrolytically polymerize the polymerizable polymer, thereby forming a polymer film on the surface of the metal foil and a process step of cleaning and drying the metal foil.例文帳に追加

金属箔および重合モノマを使用して回路基板用金属箔を製造する方法であって、前記金属箔を前記重合性モノマ、支持電解質、およびアルキルアミンを含む水溶液に浸漬して前記重合性モノマを電解重合させ、前記金属箔表面にポリマ皮膜を形成する工程、ならびに前記金属箔を洗浄して乾燥する工程を包含する、回路基板用金属箔の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of a membrane electrode assembly for a solid polymer fuel cell, is provided with a process, after covering a first gas diffusion layer on a first carbon layer coating liquid layer, forming a first carbon layer by drying the first carbon layer coating liquid layer, and a process heating and jointing by making the first carbon layer in contact with a first catalyst layer formed on one surface of a solid polymer electrolyte membrane.例文帳に追加

第１のカーボン層塗工液層の上に、第１のガス拡散層を被せた後、前記第１のカーボン層塗工液層を乾燥して第１のカーボン層を形成する工程と、前記第１のカーボン層と、固体高分子電解質膜の一方の面に形成された前記第１の触媒層とを接するようにして加熱接合する工程と、を有する固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a capacitor includes an application process for applying a solution containing a plurality of carbon nanotubes to which functional groups are coupled to the surface of a base body, and a bridging process for forming the carbon nanotube structure constituting the network structure in which the plurality of carbon nanotubes are mutually bridged by chemically coupling these functional groups so that the carbon nanotube structure is constituted as at least one electrode out of the pair of opposed electrodes.例文帳に追加

官能基が結合された複数のカーボンナノチューブを含む溶液を基体表面に塗布する塗布工程と、複数の前記官能基間を化学結合させて、前記複数のカーボンナノチューブが相互に架橋した網目構造を構成するカーボンナノチューブ構造体を形成する架橋工程とを含み、前記カーボンナノチューブ構造体を前記対向する一対の電極の少なくとも一方の電極として構成したコンデンサの製造方法。 - 特許庁

By evacuating the resin feed tank to a pressure below atmospheric pressure, employing cyclic compaction, and controlling the net compaction pressure, a resin infusion process, particularly a vacuum assisted resin transfer molding process is better controlled, and aerospace-grade fiber-reinforced resin composite having fiber volume fractions and tool-side surface finishes comparable to or exceeding those made using an autoclave is produced.例文帳に追加

樹脂供給タンクを大気圧よりも低い圧力まで排気し、循環圧縮を用い、かつ正味の成形圧力を制御することにとよって、樹脂注入プロセス、特に真空補助樹脂トランスファ成形プロセスをより適切に制御し、かつオートクレーブを用いて製造されたものに匹敵する、またはそれを超える繊維体積分率およびツール側表面の仕上げを有する航空宇宙級の繊維強化樹脂複合材料を生成することができる。 - 特許庁

By enabling the irradiation of different type ion beams generated by first and second ion sources 11, 12, a process irradiating a silicon wafer 10 with a polyatomic molecule ion beam for removing a surface oxide film and a process irradiating the silicon wafer 10 with an ion beam of the implanted ions for implanting ions are continuously carried out to the silicon wafer 10 attached to a platen in a chamber 18 without breaking a vacuum atmosphere during them.例文帳に追加

第１および第２のイオン源１１・１２で生成される、異なる種類のイオンビームの照射を可能とすることで、多原子分子のイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射して表面の酸化膜を除去する工程と、注入イオンのイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射してイオンを注入する工程とを、チャンバ１８内のプラテンに装着されたシリコンウェーハ１０に対し、その間の真空雰囲気を破ること無く連続して行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for rapidly and reliably drying a substrate by drying process that is performed after wet washing process, and to quickly remove an unneeded thin film formed at and adhered to the bevel and edge sections of the substrate while obtaining a steel slope edge profile even if the film is hard, and to restrain surface roughness at the bevel and edge sections after removing the unneeded thin film.例文帳に追加

ウェット洗浄処理後に行われる乾燥処理で、基板を迅速かつ確実に乾燥できるようにした基板処理装置、並びに、基板のベベル部乃至エッジ部に成膜乃至付着した不要な薄膜を、例え硬質な膜であっても、急勾配なエッジプロファイルを得た状態で、短時間で除去でき、しかも、不要な薄膜を除去した後のベベル部乃至エッジ部における表面粗さを小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

This process release paper for forming the ceramic green sheet, comprising coating a solvent-based ceramic slurry and then hardening the slurry, is composed by forming a cast coating layer not containing both calcium carbonate and sodium salt on a support for the process release paper and then coating a solvent-free silicone on the surface of the cast coating layer to form the solvent-free silicone layer.例文帳に追加

本発明に係るセラミックグリーンシート製造用工程剥離紙は、溶剤系セラミックスラリーを塗工後、硬化させて、セラミックグリーンシートを形成するための工程剥離紙であって、該工程剥離紙は該工程剥離紙の支持体上にキャスト塗工層を形成し、該キャスト塗工層は炭酸カルシウムとナトリウム塩のいずれも含有せず、かつ該キャスト塗工層は該キャスト塗工層の表面に無溶剤型シリコーンを塗布形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a microchannel reactor catalyst element, supporting a catalyst on the surface of a metal substrate, comprises the catalyst powder supporting process for supporting the catalyst powder 3 on the surfaces of raw material fluid passages 4 formed in the metal substrate 1, and the compression process for compressing the supported catalyst powder 3 by applying an isotropic pressure to the catalyst powder.例文帳に追加

金属基材表面に触媒が担持されてなるマイクロチャネルリアクタ用触媒エレメントの製造方法であって、原料流体の流路が形成された金属基材１の該流路４表面に触媒粉末３を担持させる触媒粉末担持工程と、担持された触媒粉末３に等方的な圧力を付与することにより該触媒粉末を圧縮する圧縮工程とを備えることを特徴とするマイクロチャネルリアクタ用触媒エレメントの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a film-forming material layer by coating a paste composition containing an acrylic ester system resin and a solvent on a support film, transferring the film-forming material layer formed on the support film onto the surface of a glass substrate with electrodes fixed, and forming a dielectric layer on the surface of the glass substrate by baking the film-forming material layer transferred.例文帳に追加

ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The heating and the pressing in the heating and pressing process is done to prevent substantial deformation for the layer 21 providing an opposite surface at least to one surface of the layer 21.例文帳に追加

複数の樹脂材料層２１、２２を積層してなる初期樹脂基板２を形成する工程と、初期樹脂基板２をその片面から成形型（転写ローラ）にて加圧加熱して該片面を凹凸形状に成形する加熱加圧工程とを含み、加熱加圧工程における加熱加圧は、少なくとも初期樹脂基板２の片面とは反対側の面を提供している樹脂材料層２１については実質上変形させないように行う。 - 特許庁

A manufacturing process of an apparatus for fabricating a semiconductor device which processes a substrate to be processed mounted on a sample stand in a container comprises a step for forming a dielectric film on the upper surface of the sample stand by spraying and cleaning the dielectric film with fluid, and a step for mounting a wafer on the upper surface of the dielectric film and attracting the wafer electrostatically a plurality of times.例文帳に追加

容器の内部の試料台上に載置された被処理基板を処理する半導体デバイス製造装置の製造方法であって、前記試料台の上面に誘電体製の膜を溶射により形成した後にこの誘電体製の膜を流体を用いて洗浄する工程と、前記誘電体製の膜の上面にウエハを載せて静電吸着させる処理を複数回行う工程とを備えた。 - 特許庁

To provide a developing roller which can uniformly disperse spherical particles on a surface layer, enhance mechanical strength of the spherical particles, and prevent damage to a member contacted with a surface of the developing roller compared with the configuration described in the patent document 1; a developing device, an image forming apparatus and a process cartridge which are provided with the developing roller; and an image formation method using the developing roller.例文帳に追加

球状粒子を均一に表層に分散させることができ、球状粒子の機械的強度を高めることができ、かつ、特許文献１に記載の構成に比べて現像ローラ表面と接触する部材が傷つくのを抑制することのできる現像ローラ、並びに、現像ローラを備えた現像装置、画像形成装置およびプロセスカートリッジ、並びに、現像ローラを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The process cartridge 5 to be mounted on an image forming device body detachably therefrom includes a toner storage part 58 for storing a polymerization toner T_P in the new article state, a developing roller 55 carrying the toner on the surface, a photoreceptor drum 51 to which the toner is supplied from the developing roller 55, and a cleaning brush 54 for cleaning the surface of the photoreceptor drum 51, in contact with the photoreceptor drum 51.例文帳に追加

新品状態において重合トナーＴ_Pが収容されるトナー収容部５８と、表面にトナーを担持する現像ローラ５５と、現像ローラ５５からトナーが供給される感光体ドラム５１と、感光体ドラム５１に接触した状態で感光体ドラム５１の表面を清掃する清掃ブラシ５４とを備え、画像形成装置本体に対して着脱可能に装着されるプロセスカートリッジ５の再生方法である。 - 特許庁

In a second coating process of forming a finger wiring pattern crossing a bus wiring pattern on a substrate by linearly supplying paste onto a principal surface of a substrate and the bus wiring pattern from a nozzle, curing processing for curing the coating liquid is carried out on the paste supplied onto the principal surface of the substrate (step S54), and light irradiation of the paste supplied onto the bus wiring pattern is stopped (step S52).例文帳に追加

ノズルから基板の主面およびバス配線パターン上にペーストを線状に供給して、基板上にバス配線パターンと交差するフィンガー配線パターンを形成する第２塗布工程おいて、基板の主面に供給されたペーストに対して当該塗布液を硬化させる硬化処理を実行し（ステップＳ５４）、バス配線パターン上に供給されたペーストに対しては光照射を停止する（ステップＳ５２）。 - 特許庁

The surface processing method has a third step to introduce an ion source 31 of a gaseous carbon cluster into a vacuum chamber 12 in which the workpiece 32 is contained without using a carrier gas, subsequently to apply a high frequency voltage to the ion source and making it into plasma to generate a carbon cluster ion 33, and to apply a negative voltage to the workpiece 32 and to ion process it by making its surface irradiated with the carbon cluster ion 33.例文帳に追加

被加工物３２が収容された真空槽１２中に、キャリアガスを用いずに気体状の炭素クラスターイオン源３１を導入後、高周波電圧を印加してプラズマ化して炭素クラスターイオン３３を生成させ、被加工物３２に負電圧を印加して表面に炭素クラスターイオン３３を照射することによりイオン加工する第３工程とを有することを特徴とする表面加工方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

A compound semiconductor substrate is etched and acid-cleaned as a pre-process for forming an epitaxial growth layer on the surface of the compound semiconductor substrate, and the compound semiconductor substrate which is pre-processed is placed in a gas comprising carbon atom such as atmosphere, carbon dioxide, methane gas, so that the accumulated layer of carbon atom is formed on the surface of the compound semiconductor substrate before epitaxial growth.例文帳に追加

化合物半導体基板の表面にエピタキシャル成長層を形成する前処理工程として、化合物半導体基板にエッチングと酸洗浄を行い、かかる前処理を行った化合物半導体基板を、大気、炭酸ガス、メタンガス等の炭素原子を含む気体中に置いて、エピタキシャル成長前に、化合物半導体基板の表面に炭素原子の蓄積層を形成するようにした。 - 特許庁