「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(175ページ目) - Weblio英語例文検索

To check on and adjust components of a surface-mounting piezoelectric oscillator having a piezoelectric oscillator combined with IC components into a unified structure in its oscillating state after completing the assembly without increasing the occupied area, and to avoid complicating the assembling process to improve the productivity and reduce the manufacturing cost.例文帳に追加

圧電振動子と、チップ化したＩＣ部品とを組み合わせて一体化した構成の表面実装型圧電発振器において、占有面積を大型化することなく、組立完了後に発振状態での部品のチェック、調整を行うことができ、しかも組立工程の煩雑化を回避して生産性向上、製造コスト低減を図る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated vessel body which does not require repair of the resin layer on the inside surface of the vessel corresponding to welding point, lamination of a thermosetting resin, etc., in welding hand rings or washers to the laminated vessel body and is capable of performing welding by using the existing equipment without the need for providing fresh process steps, such as cooling.例文帳に追加

ラミネート缶体へ手環または座金の溶接を行うに際し、溶接箇所に対応する缶内面の樹脂層の補修や熱硬化性樹脂の積層等が不要であり、また、新たな冷却等の工程を設けることなく現状設備を用いて溶接することができるラミネート缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided plasma etching equipment in which a sprayed film is set to be a conductor, by attaching the sprayed film to the front surface of a wall with which plasma is in contact, such as the wall of a processing chamber and mixing a conductor with the material of the sprayed film in plasma processing equipment using a plasma process by use of halogen gas for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの作成に、ハロゲン系のガスによるプラズマプロセスを用いたプラズマ処理装置において、処理室内の壁等のプラズマが接触する壁の表面に溶射膜を付け、この溶射膜の材料に導体を混入することにより、溶射膜を導体としたことを特徴とするプラズマエッチング装置。 - 特許庁

In a process A in which a forward half portion of a car is washed by a top brush 8 by oscillating a guide frame 9 forward by a cylinder 13, the elevating speed of the top brush 8 is increased as the backward oscillating angle of the guide frame 9 is increased by the increase in the surface pressure, and the traveling speed of a traveling frame 4 is dropped.例文帳に追加

シリンダ１３で案内枠９を前方へ揺動させてトップブラシ８で車両の前半部を洗浄する（Ａ）の工程では、面圧増加によって案内枠９が後方へ揺動する角度が大きくなる程、トップブラシ８の上昇速度を増加させるとともに走行フレーム４の走行速度を低下させる。 - 特許庁

The screw rotor processing method forms screw tooth groove by controlling workpiece revolution and tool swiveling simultaneously on the basis of a five-axis NC machine tool; wherein a special end mill is used for a finish process of tooth groove side-surface processing, the end mill having a short cutting edge, and equipped with a neck portion between the cutting edge and the shank, the neck portion being slenderized.例文帳に追加

５軸のＮＣ加工機をベースに、ワーク回転と工具旋回とを同時に制御してスクリュー歯溝を形成するスクリューロータの加工方法であり、歯溝側面仕上げ加工工程に切れ刃長さを短くし、切れ刃部とシャンク部の間に首部を設けその部分を細くした特殊なエンドミルを用いて加工する。 - 特許庁

The luminous material comprises a base (11), a thin film of a porous metal oxide (12) formed on the base (11) and a luminescent layer (14) containing an inorganic luminous material (13) which emits light in a return process to a ground state from an excited state excited by receiving an outside energy, bonded to the surface of the porous metal oxide (12).例文帳に追加

基体（１１）と、基体（１１）上に形成された、薄膜状の多孔質金属酸化物（１２）と、多孔質金属酸化物（１２）の表面に、外部エネルギーを受けて励起し励起状態から基底状態へ戻る際に発光するように結合した無機発光物質（１３）とを含む発光層（１４）とを具備した発光材料。 - 特許庁

The CPU 21 loads a top board moving control program and data necessary for executing programs stored in the ROM 23 into the RAM 22 and performs the process for controlling the movement of the top board in order to easily measure the wide-ranging region of interest with the small number of surface coils in accordance with the top board moving control program.例文帳に追加

ＣＰＵ２１は、ＲＯＭ２３内に記憶された天板移動制御プログラムおよびプログラムの実行のために必要なデータを、ＲＡＭ２２へロードし、天板移動制御プログラムに従って少ない表面コイルで容易に広範囲の関心領域を測定するために天板の移動を制御する処理を実行する。 - 特許庁

The conductive synthetic resin sheet is obtained by a process in which a thin conductive film formed from a composition comprising a vinyl chloride resin 60-70% in degree of chlorination, conductive powder, and an organic solvent is formed on the surface of a vinyl chloride resin sheet 60-70% in degree of chlorination, and the sheet is heated while being pressurized.例文帳に追加

本発明の導電性合成樹脂シートは、塩素化度が６０〜７０％である塩化ビニル樹脂、導電性粉末、および有機溶剤の組成物からなる導電性薄膜を塩素化度が６０〜７０％の塩化ビニル樹脂シート表面に形成した後、該シートを加圧下に加熱することにより得られる。 - 特許庁

In the insert molding process, a material of forming a recess-projection part 17 for increasing flowing resistance of a melting resin P, is used in an area opposed to an opening part 7c of the electrocasting part 7 among an upper end surface 14a of a metal mold 14 on the side for mainly storing the electrocasting part 7 among using molding metal molds 13 and 14.例文帳に追加

このインサート成形工程において、使用される成形金型１３，１４のうち、主に電鋳部７を収容する側の金型１４の上部端面１４ａのうち電鋳部７の開口部７ｃと対向する領域には、溶融樹脂Ｐの流動抵抗を増加させる凹凸部１７が形成されたものが使用される。 - 特許庁

In a method for constructing underfloor structures to install island foundations 5 and board bases 4 for supporting boards 1 installed on a floor surface, and cable storage bodies 3 under a floor, a block 13a previously integrated before an installation process thereof is used as a plurality of the island foundations 5, the board bases 4, and the cable storage bodies 3.例文帳に追加

床面上に設置される盤１を支持するための島基礎５および盤ベース４と、ケーブル収納体３とを床下に据え付ける床下構造物の据付方法において、複数の島基礎５と盤ベース４とケーブル収納体３については、据付工程前に予めブロック１３ａとして一体化したものを用いる。 - 特許庁

As for the method for manufacturing the developing roller, etc., including a process of forming the coated film on the substrate surface of the roller 1 by dipping the substrate of the roller 1 into the coatings, the temperatures of the substrates of many rollers 1 suspended by a hanger 2 are maintained so as to be nearly uniform in the entire roller 1 before the rollers are dipped.例文帳に追加

ローラー１の基体を塗料へディップさせることによって、ローラー１の基体表面に塗膜を形成させる工程を含む現像ローラー等の製造方法において、ディップ前におけるハンガー２に吊支された多数のローラー１の基体の温度を、全ローラー１においてほぼ均一となるように維持する。 - 特許庁

The full-color laser printer performs even a peeling device cleaning processing operation wherein the peeling device is brought into contact with a transfer drum in a cleaning process of an intermediate transfer drum to remove the waste toner sticking on the peeling device, and thus eliminates a waste toner fall on an image to prevent the decrease in print quality and abrasion of the transfer drum surface.例文帳に追加

本発明のフルカラーレーザプリンタは、中間転写ドラムのクリーニング工程時に剥離装置を繰返し転写ドラムに接触させる剥離装置クリーニング処理動作も行い、剥離装置に付着している廃トナーを除去して、画像への廃トナー落ちを無くし印字品質の低下と転写ドラム表面の磨耗とを防ぐ。 - 特許庁

A variation ΔL is a leak current flowing between the upstream side fixed brush 34 and the downstream side rotary brush 48, and when the leak current value ΔL becomes larger than a current value by which an image flow is generated, a removing process for removing discharge products stuck to the surface of the photoreceptor 13 is performed.例文帳に追加

変化分であるΔＬが、上流側固定型ブラシ３４と下流側回転型ブラシ４８との間で流れるリーク電流であり、このリーク電流値ΔＬが像流れが発生する電流値より大きくなると、感光体１３上に付着した放電生成物を除去する除去工程を行うようになっている。 - 特許庁

Force is applied to the two substrates 22, 24 in the bonding direction by the surface tension of the resin 33 without applying external force, and since the resin 33 is drained from the places having the drops in a process of spreading the resin 33 around, the distorted EL element board 24 is flattened by reducing recessed parts of the drop places.例文帳に追加

２枚の基板２２，２４は樹脂３３の表面張力により外部より力を加えなくとも密着する方向に力がかかり、また樹脂３３が周囲に広がっていく過程において落滴した箇所から樹脂３３が排出されるため、落滴箇所の凹みを減らして歪んだＥＬ素子基板２４を平坦化する。 - 特許庁

In other words, since the volume change due to the deformation in a process of dents is absorbed in the pores of the die base metal 4, wrinkles are hardly formed around the dents for element 3b, so that the wrinkles can be prevented from being formed on the surface of an array of microoptical element to be molded by the resultant molding die.例文帳に追加

つまり、圧痕加工に際して変形による体積変化が金型母材４の空孔に吸収されるので、素子用圧痕３ｂの周囲に皺が形成されにくく、結果的に得られた成形用金型によって成形されるマイクロ光学素子アレイの表面に皺が形成されることを防止できる。 - 特許庁

To provide a transformer for securing the reliability in electric connection in mounting without causing varnish to adhere to the tip of a terminal in the coating dipping process of the varnish to a surface-mounted compact transformer where a core where a magnetic metal thin plate has been laminated to a bobbin having a terminal having coil winding is assembled.例文帳に追加

巻線を施した端子付きボビンに磁性金属薄板を積層した磁芯を組み付けた、表面実装型の小型トランスへのワニスの塗布含浸工程で、端子の先端にワニスが付着せず、実装の際の電気的な接続の信頼性を確保したトランスと、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a drying process to dry a phosphor liquid 3 applied to the inner surface of a glass tube 1, when the glass tube 1 is rotated with the longitudinal center axis of the glass tube 1 used as the axis of rotation, the glass tube 1 is supported by a bending support mechanism 16, and is bent and deflected against gravity direction.例文帳に追加

ガラス管１の内面に塗布した蛍光体液３を乾燥させる乾燥工程において、ガラス管１の長手方向の中心軸を回転軸としてガラス管１を回転させる際、ガラス管１を曲げ支持機構１６によって支持するとともに、重力方向に対して曲げてたわませる。 - 特許庁

A blocking brightness extension processing module 20 performs a blocking brightness extension process on each pixel of an image which is either a 360-degree all-round input image (Pa) of an elliptical surface stored in an image buffer memory 13 or a clipped image (object image) stored in an object image buffer memory 19 and is output for display.例文帳に追加

ブロッキング輝度伸張処理部２０は、画像バッファメモリ１３に記憶された楕円面の３６０°全周入力画像（Ｐａ）とオブジェクト画像バッファメモリ１９に記憶された切り出し画像（オブジェクト画像）を処理対象に、表示出力する画像に対して画素単位のブロッキング輝度伸張処理を実施する。 - 特許庁

The method for producing the oxide superconductive wire rod includes a process S3 of protective layer formation for forming the protective layer formed of a conductor by a vapor phase synthesis method on a side surface of a coil body made by winding the tape-like superconductive laminate provided by laminating a metal base, an intermediate layer, an oxide superconductive layer, and a stabilization layer.例文帳に追加

酸化物超電導線材の製造方法は、金属基材と中間層と酸化物超電導層と安定化層とを積層させて備えたテープ状の超電導積層体を巻回してなるコイル体の側面に、気相合成法により導電体からなる保護層を形成する保護層形成工程Ｓ３を備える。 - 特許庁

To provide a boring tool capable of supplying sufficient quantity of coolant to the entire range of a process part of the boring tool, avoiding the shortening of the service life by preventing early wear of the boring tool, and preventing seizure between an inner wall surface of the bored hole and the boring tool due to abrasion heat.例文帳に追加

穴加工工具の加工部の全域に十分な量のクーラントを供給することができ、穴加工工具が早期に磨耗することを防いで寿命が短くなることを回避するとともに、摩擦熱による加工穴の内壁面及び穴加工工具の焼き付きを防止することができる穴加工工具の提供にある。 - 特許庁

To provide an internal heat exchange type distillation column, wherein the outer peripheral surface of a tube and a shelf plate can be surely sealed without the need of a manufacture process taking time and labor for a complicated structure, desired characteristics can be realized and the outside of the tube (shell side) serves as a shelf stage column, and to provide its assembly method.例文帳に追加

複雑な構造を、手間のかかる製造工程を必要とすることなく、管の外周面と棚板との間のシールを確実に行うことが可能で、所望の特性を実現することが可能な、管外（シェル側）を棚段塔とする内部熱交換型蒸留塔およびその組み立て方法を提供する。 - 特許庁

When an end-surface process head 38 is scanned in a single direction, the discharge of rinse liquid from rinse liquid supply nozzles 41 and 44 at a head in the scanning direction is stopped, and development liquid is discharged from development liquid discharge nozzles 39 and 42, while rinse liquid is discharged from rinse liquid supply nozzles 40 and 43 behind the scan direction.例文帳に追加

端面処理ヘッド３８が一方向に走査される場合には、走査方向先頭のリンス液供給ノズル４１、４４からのリンス液の吐出が止められ、現像液吐出ノズル３９、４２からは現像液が吐出され、かつ、走査方向後方のリンス液供給ノズル４０、４３からはリンス液が吐出される。 - 特許庁

To provide a polishing composition which, when used in a CMP (chemical mechanical polishing) process of a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, exhibits a higher rate of polishing copper during polishing the copper surface and exhibits a lowered rate of polishing copper and a higher rate of polishing the tantalum compound during polishing the tantalum compound and to provide a polishing method using the composition.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅表面を研磨する際は銅の研磨レートが大きいがタンタル化合物の研磨の際には銅の研磨レートが減少し、タンタル化合物の研磨レートが向上する研磨用組成物ならびに研磨方法を提供する - 特許庁

To provide an apparatus for and a method of treating a cut surface of a glass plate which is capable of shortening the time required for such treatment process without the need for large-scale circumferential equipment while effectively preventing the occurrence of damage such as cracks or defects to maintain the quality of the glass plate including safety, strength or the like.例文帳に追加

ひび割れや欠損等の破損の発生を効果的に防いでガラス板の安全性や強度等の品質を保持しつつ、大規模な周辺設備を必要とせずにガラス板の切断面の処理工程にかかる時間を短縮することのできるガラス板の切断面の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To carry out simultaneously a short circuit revision of TFT (Thin Film Transistor) semi conductor layer by simultaneously etching a short circuit position with the semiconductor in etching a protective film, which is set an outer surface of a pixel electrode in preparing an array substrate for a liq. crystal display device, and to dispense a special process for restoring a short circuit.例文帳に追加

液晶表示装置用のアレイ基板の製造に当たり、保護膜を画素電極の外側に設け、この保護膜のエッチング時に、半導体との短絡箇所も同時にエッチングすることにより、ＴＦＴ半導体層の短絡修正を同時に実施し、短絡修復のための特別な工程を不要にする。 - 特許庁

To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加

特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

Minute foreign matters on the surface of the base or protective coat can be removed without scratching by combining tape burnishing and ultrasonic cleaning while changing the process for the glass base and the protective coat and, also reducing the pressure of the contact roller as much as possible in tape burnishing.例文帳に追加

テープバニッシュと超音波洗浄処理を組み合わせて、ガラス基板と保護膜表面上で処理プロセスを変え、またテープバニッシュ処理時のコンタクトローラの押付け荷重を極力軽荷重で処理することにより、基板及び保護膜表面の微小異物除去がスクラッチ等を形成すること無く達成できる。 - 特許庁

Using a multistep process, after cleaning, in the meanwhile till the succeeding deposition, a chemical vapor deposition chamber is subjected to conditioning, and this conditioning is performed by removing residual fluorine from the chamber by hydrogen plasma, successively depositing a solid compound on an interior surface of the chamber and covering any particulates remaining in the chamber.例文帳に追加

マルチステッププロセスを使用して、洗浄後に、後続堆積の合間に、化学的気相堆積チャンバをコンディショニングし、このコンディショニングは、残留フッ素をチャンバから水素プラズマにより除去し、続いて、固体化合物をチャンバ内に引続いて堆積してチャンバ内に残留するいずれかの粒子を被包することによって行われる。 - 特許庁

The cutting process of a wafer comprises a step 52 for making the wafer as thin as 0.1 mm or less, a step 53 for forming a protective sheet having Vickers hardness of 2 or above tightly on one surface of the wafer, and a step 54 for cutting the wafer on which the protective sheet is formed by means of a grinding stone.例文帳に追加

ウエハの切断方法は、ウエハを少なくとも０．１ｍｍ以下の厚さまで薄化するステップ５２と、ウエハの一方の面にビッカース硬さ２以上の保護シートを密着形成する、保護シート形成ステップ５３と、保護シートが形成されたウエハを砥石で切断する切断ステップ５４とを有している。 - 特許庁

This method for preparing a roasted fish by roasting a fish involves a process in which powder selected from the group consisting of collagen powder, wheat flour, starch, modified starch and a mixture of these materials and/or a heat-coagulating protein solution is brought into contact with and stuck to the surface of the fish, and then the fish is roasted.例文帳に追加

魚を焙焼して焼き魚を製造する方法であって、コラーゲンパウダー、小麦粉、澱粉、化工澱粉及びこれらの混合物からなる群より選択される粉類及び／又は加熱凝固性蛋白質溶液を、魚の表面に接触・付着させて焙焼する工程を含む焼き魚の製造方法。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

When forming the shaft 1 with a bellows by using an electric resistance welded pipe, for example, while carrying annealing process, the deterioration of strength due to decarburization is suppressed by making the thickness ratio of the decarburized layer of the surface of the bellows part 1a to the wall thickness of the bellows part 1a 0.14 or less, preferably, 0.05 or less.例文帳に追加

例えば、焼鈍工程を伴いながら電気溶接鋼管を用いてベローズ付きシャフト１を形成した場合、そのベローズ部１ａの肉厚に対する当該ベローズ部１ａ表面の脱炭層の厚さの比を０．１４以下、好ましくは０．０５以下とすることにより、脱炭による強度の低下を抑制する。 - 特許庁

In a cleaning process of a dicing step, for instance, a semiconductor wafer 200 with a tape electrostatically charged by the cleaning is lifted from a cleaning stage 230 to the specific height h1 by a transferring arm 210, and in this state, the electricity on the surface side of the semiconductor wafer W is removed by an electricity removing means 70.例文帳に追加

例えば、ダイシング工程の洗浄処理において、洗浄に伴い帯電したテープ付半導体ウエハ２００を、搬送アーム２１０によって洗浄ステージ２３０から一定の高さｈ１まで持ち上げ、この状態で除電手段７０により半導体ウエハＷを表面側から除電する。 - 特許庁

Then, the element-forming surface of the silicon substrate 101 in which the opening 115 is formed is subjected to plasma processing and deposits 113, attached to the sidewall of the opening 115 in the process of forming the opening 115, are removed, the silicon substrate 101 is selectively removed to form a concave portion by using the SiN film 129 as a mask.例文帳に追加

そして、開口部１１５が形成されたシリコン基板１０１の素子形成面をプラズマに曝し、開口部１１５を形成する工程で開口部１１５の側壁に付着した堆積物１１３を除去した後、ＳｉＮ膜１２９をマスクとしてシリコン基板１０１を選択的に除去して凹部を形成する。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor substrate production method for producing the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer formed on the surface of it, the substrate is produced by using an extruded tube which is formed by the process of extruding a substrate metal material and which has a thickness deviation of ≤0.2 mm.例文帳に追加

表面に感光層が形成されて電子写真感光体が製造される電子写真感光体用基体の製造方法において、基体用金属材料を押出加工処理し偏肉が０．２ｍｍ以下である押出管を用いて基体を製造することを特徴とする電子写真感光体用基体の製造方法。 - 特許庁

When an aluminum-killed steel or an aluminum-silicon killed steel is continuously cast, the continuous casting is performed while restraining the thickness of stuck material on the inner surface of the immersion nozzle without blowing inert gas into the immersion nozzle 3, by adding REM (rare earth metal elements) into a molten steel ladle 1, a tundish 2 or at the previous process from the above.例文帳に追加

アルミキルド鋼あるいはアルミシリコンキルド鋼を連続鋳造するに際して、ＲＥＭ（希土類元素）を溶鋼鍋１やタンディッシュ２、あるいはそれよりも前工程で添加することにより浸漬ノズル３に不活性ガスを吹き込むことなく浸漬ノズル内面の付着物厚みを抑制しつつ連続鋳造するようにした。 - 特許庁

An Si substrate is subjected to isotropic etching by the use of a dry etcher of down flow-type using an oxide film 2 as a mask, and an etching groove 3 is formed so as to round a point where the flat surface of the Si substrate intersects a trench opening that is formed in a following process or a part which becomes the edge of a trench opening.例文帳に追加

酸化膜２をマスクにして、ダウンフロー型のドライエッチャーによる等方性のＳｉエッチングを行い、シリコンの平坦な面とつぎの工程で形成されるトレンチの開口部とが交わる箇所、つまり、トレンチ開口部の縁となる箇所を予めエッチングして丸めるために、エッチング溝３を形成する。 - 特許庁

To provide an IC card which excels in environment consciousness, can be incinerated, hardly causes cracking or curling, excels in surface smoothness, separation resistance of a chip, printability, heat resistance, and designability, simplifies a manufacturing process, has a small number of manufacturing steps, has high manufacturing efficiency and manufacturing workability, and is inexpensive.例文帳に追加

環境配慮適性に優れ、焼却可能で割れやカールを発生しにくく、表面平滑性、チップの耐剥離強度、印刷適性、耐熱性及び意匠性にも優れ製造工程が簡素化され、製造工程数も少なく、製造効率及び製造作業性が良好であり、かつ、安価なＩＣカードの提供。 - 特許庁

In the die bonding apparatus 1, it is requested that a stem 2 is surely placed on a stem mounting head 6 without any displacement, after the stem 2 is mounted on the stem mounting head 6, when an electronic component S is placed on the component mounting surface 27 of the stem 2 and during the heating process of a stem base 24 by a heater 9.例文帳に追加

ダイボンディング装置１において、ステム搭載ヘッド６にステム２を搭載させた後や、ステム２の部品実装面２７に電子部品Ｓを載置させる時や、ヒータ部９によるステムベース２４の加熱時などにおいて、ステム２は、位置ズレを起こすことなく、ステム搭載ヘッド６に確実に搭載させておく必要である。 - 特許庁

A process for protecting an article using an anti-icing coating includes the steps of applying upon at least one surface of an article an anti-icing composition comprising at least one polysiloxane free of additives; and curing the anti-icing composition to form an anti-icing coating exhibiting an ice shear strength of about 19 kPa to about 50 kPa.例文帳に追加

本発明によれば、防氷コーティングを用いて物品を保護する方法は、物品の少なくとも１つの表面に塗布され、防氷組成は、少なくとも１つの添加剤を含まないポリシロキサンを含み、約１９〜５０ｋＰａの氷剪断応力を示す防氷コーティングを形成するように防氷コーティング組成を硬化させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a zinc oxide crystal having a large surface area and a flower-like crystal shape, by which the zinc oxide crystal can be directly deposited on a base material in a solution by a simple process without being fired at a high temperature and especially without using an expensive or complicated device and which is thereby advantageous to cost reduction.例文帳に追加

簡便な工程で、高温焼成することなく、特に高価な装置や複雑な装置を用いず、溶液内で基材に直接析出させることによりコスト的に非常に有利であって、表面積が大きく、結晶形状が花状の酸化亜鉛結晶を製造する方法を提供する。 - 特許庁

An adhesion face of a first optical substrate (optical substrate L1) to a second optical substrate (optical substrate L2) is exposed to a gas in a plasma state to carry out a surface improving treatment on the adhesion face while the heat given to the first optical substrate is controlled to a heating temperature or lower in a heating process.例文帳に追加

前記第１の光学基材（光学基材Ｌ１）に加わる熱を加熱工程時における加熱温度以下に制御するとともに、前記第１の光学基材における前記第２の光学基材（光学基材Ｌ２）との接着面をプラズマ状態のガスに晒し、当該接着面に表面改善処理を施す。 - 特許庁

In addition, a horizontal path 22, for supplying the process gas supplied through a plurality of second gas supply holes 18 to a plurality of first gas supply holes 16, is formed by providing a groove to the shower region of the rear surface of one of the first electrode plate 12 or second electrode plate 14 or of both electrodes.例文帳に追加

そして、第１の電極板１２と第２の電極板１４との一方もしくは両方の、裏面のシャワー領域に溝を設けることにより、第２の複数のガス供給孔１８を通じて供給されたプロセスガスを第１の複数のガス供給孔１６に供給する水平経路２２が形成されている。 - 特許庁

While an anti-reflection film 9 and a resist pattern 10 are formed on the second interlayer dielectric 8, a capacitor hole 11 is formed between the surface of the second interlayer dielectric 8 and a position-controlled bottom face 11a in the first interlayer dielectric 5 through the stopper film 7 by dry etching process using the resist pattern 10 as a mask.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜８上に反射防止膜９とレジストパターン１０を形成し、このレジストパターン１０をマスクとしたドライエッチングにより第２の層間絶縁膜８の表面からストップ膜７を貫通して第１の層間絶縁膜５内に、底面１１ａの位置が制御されたキャパシタホール１１を形成する。 - 特許庁

This jig fixed to a machining device in a machining process, for holding an article to be machined, and directly pressing the article to be machined to a machining surface, is provided with a plurality of microactuators, and by driving the plurality of microactuators, bending deformation or the like is given to the article to be machined, held by the jig.例文帳に追加

加工工程において加工装置に固定されると共に被加工物を保持し且つ被加工物を加工面対して直接押圧する治具を、複数のマイクロアクチュエータを有するものとし、この複数のマイクロアクチュエータを駆動させることにより、治具に保持された被加工物に対して曲げ変形等を与える。 - 特許庁