「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(179ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a novel prepreg having strength and surface hardness enabling heavy walking and also having bonding strength with a substrate and substrate cracking followability being required conditions as a waterproof material, dispensing with a laminating process, unnecessary for handling many kinds of curing materials and enabling simple and short-term waterproof execution.例文帳に追加

重歩行が可能な強度や表面硬度、及び防水材としての要件である耐水性、下地との接着強度および下地ひび割れ追従性を有し、積層工程が不要でかつ多種の硬化材料を扱う必要のない、簡略かつ短期的な防水施行を可能とする新規プリプレグを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lithographic printing plate by which an insoluble substance derived from the component in an image forming layer or the like in the manufacturing process can be favorably dispersed to suppress production of development scum while keeping preferable developing property, and moreover, a plate having an improved surface state of gum coating with no gum repelling can be obtained.例文帳に追加

良好な現像性を維持しながら、製造工程において画像形成層の成分などに起因する不溶物を良好に分散させて現像カスの発生を抑えることができ、さらに、ガムはじきを起こさないガム塗布面状が良化した版を提供できる、平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that stably exhibits a high reverse recovery withstand independently of the existence and nonexistence of the defects caused during the wafer process for manufacturing the semiconductor device, even if the semiconductor device is a pn-junction diode having a structure, in which an anode electrode is formed on an outer circumferential portion surface of a p-type anode diffusion region with an insulating film interposed.例文帳に追加

ｐ型アノード拡散領域の外周部表面に絶縁膜を介してアノード電極が設けられる構造を有するｐｎ接合ダイオードであっても、該ダイオードを製造する際のウエハプロセスに起因する欠陥の有無に依らず、安定的に高い逆回復耐量を有する半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electronic device cleaning method and electronic device cleaning system wherein, in a process for stripping and removing residues by etching, the residues floating on performing a foreign matter removing liquid discharge step is prevented from being stuck on the inner wall surface of a treating tank to have no effect on a material to be cleaned and treated in the next batch.例文帳に追加

本発明は、エッチングにより残渣物を剥離除去する工程で異物除去液排出ステップの実行時に浮遊している残渣物の処理槽の内壁面への付着を回避し、次バッチで処理する被洗浄物に影響を及ぼさないようにできる電子装置洗浄方法および電子装置洗浄システムを得る。 - 特許庁

The manufacturing method of a silica vessel is a manufacturing method of a silica vessel containing silica as a main constituent and having rotational symmetry, and the method includes, at least, forming a silica substrate containing silica as a main constituent and having rotational symmetry, and forming a transparent silica glass layer on the inner surface of the silica substrate by a sol-gel process from a silica sol.例文帳に追加

シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を形成し、該シリカ基体の内表面上に、シリカゾルからゾル−ゲル法によって透明シリカガラス層を形成するシリカ容器の製造方法。 - 特許庁

Accordingly, unlike the conventional bag holder like a box with an upper surface opened, in manufacturing the bag holder 26, a drawing process is not needed, progressive forming is applicable, it is not always necessary to use a material having good extensibility for the bag holder 26, and the manufacturing of the bag holder 26 can be facilitated.例文帳に追加

このため、上面が開口した箱状とされた従来のバッグホルダと異なり、バッグホルダ２６を製造する際に絞り工程が不要となると共に順送が可能となり、かつ、必ずしもバッグホルダ２６に伸び性が良好な材料を使用する必要もなく、バッグホルダ２６の製造を容易にできる。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL display device 100 is provided with an organic layer deposition process in which a mask 200 is fitted on the substrate 110 through a plurality of mask spacers 123 arranged on the substrate 110, and an organic layer 124 is formed at a predetermined part of the surface of the substrate 100 by deposition from a lower part of the substrate 110.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１００の製造方法は、基板１１０上に、該基板１１０上に配設された複数のマスクスペーサ１２３を介してマスク２００を設け、該基板１１０下方からの蒸着により該基板１１０表面の所定部分に有機層１２４を形成する有機層蒸着工程を備えている。 - 特許庁

In the process of cutting a coiled original wound web into a strip shape by using a slitting device and winding the strip material around the winding core installed in a winding shaft, a coefficient of static friction between the strip material and the winding core surface regulated by JIS K 7125 is set at 0.6-1.0.例文帳に追加

コイル状の元巻きウェブをスリット装置を用いて帯状に裁断し、この帯状材料を巻取軸に装填された巻芯へロール状に巻き取る工程において、前記帯状材料と前記巻芯表面の、ＪＩＳ Ｋ ７１２５に規定された静摩擦係数が０．６〜１．０であることを特徴とするロール状物の巻き取り方法。 - 特許庁

Since increase of the viscosity of a leaching solution caused by the increasing number of leached water-developable flexographic plates and the slipping phenomenon of a conveyed plate due to lowering of surface tension by a surfactant contained in the leaching solution are avoided, occurrence of unevenness in process due to the variation of the conveyance speed is almost prevented.例文帳に追加

特に水現像フレキソ版の溶出枚数が増えるにつれて起こる溶出液粘度の上昇、および溶出液中に配合されている界面活性剤による表面張力低下に伴う搬送板のスリップ現象などが回避するできれば搬送速度の変動に起因する製版ムラはほとんど防止できる。 - 特許庁

The method for manufacturing a silica-based hollow particle dispersed body contains a process wherein a part or the whole of a core particle is removed by adding an organic acid having at least 2 or more Broensted acid groups into an aqueous medium in which core-shell particles having a silica-based coating layer formed on the surface of a core particle are dispersed.例文帳に追加

本発明に係るシリカ系中空粒子分散体の製造方法は、コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水系媒体中に、少なくとも２以上のブレンステッド酸性基を有する有機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device that manufactures a mesa-type semiconductor device in which a channel stopper is prepared at the bottom surface of its groove, which does not require a mask forming process for forming a channel stopper, and which has no need of precise etching techniques when forming the groove.例文帳に追加

溝の底面にチャネルストッパを設けたメサ型の半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、チャネルストッパを形成するためのマスク形成工程を必要とせず、かつ、溝を形成する際に精密なエッチング技術を必要としない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent that a shield layer bonded to the front surface of a laminated internal layer flexible substrate is peeled from the internal layer flexible substrate during the manufacturing process, in the method for manufacturing a rigid flex multilayer printed circuit board where the flexible part having flexibility and the rigid part mounting electronic components are constinuted continuously.例文帳に追加

可撓性を有するフレキシブル部と電子部品の実装がされるリジッド部とが連続されて構成されたリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法において、積層された内層フレキシブル基板の表面に接着されているシールド層が、製造工程中において、内層フレキシブル基板より剥離されないようにする。 - 特許庁

The production process comprises arranging a handicraft made of pottery or porcelain in a chamber filled with hydrocarbon plasma and baking diamond-like carbon of 0.05-5 μm thickness on a part or the whole of the surface of the handicraft 2 by applying a high pulse voltage of 10 Hz to 10 kHz frequency.例文帳に追加

その製造は、陶磁器製工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その陶磁器工芸品の表面に１．０〜５ｋＶ、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの高圧のパルス電圧を印加することにより、陶磁器工芸品の表面の一部又は全部に厚みが０．０５〜５μmのダイアモンドライクカーボン層を焼き付ける。 - 特許庁

The support shaft 100Y is provided with a guide member 111Y which guides the bearing 102Y when a surface plate 105 on the side of the image forming apparatus main body is closed after the process cartridge 40Y is set in the image forming apparatus main body.例文帳に追加

プロセスカートリッジ４０Ｙを画像形成装置本体にセットした後、画像形成装置本体側の面板１０５を閉じるとき、その面板１０５に設けられた筒状体１１０Ｙにプロセスカートリッジ４０Ｙの軸受１０２Ｙが入り込むように、その軸受１０２Ｙを案内するガイド部材１１１Ｙを支軸１００Ｙに設ける。 - 特許庁

To provide a method for providing a drilled portion without chipping off concrete when providing a drilled portion in a diaphragm wall, to eliminate washing and slime treatment for the joint portion when jointing diaphragm walls, to eliminate roughening a concrete surface or bending back of steel bars or welding process for welding stud bolts.例文帳に追加

地下連続壁の接合する時、継手部の洗浄及びスライム処理の工程を省き、また連続壁と構造体との接合する時のコンクリート面の目荒らしや鉄筋の曲げ戻しやスタッドボルトの溶接などの工程を省き、また地下連続壁に穿孔部を設ける場合、コンクリートを斫らずに穿孔部を設ける工法を提供する。 - 特許庁

According to this arrangement, continuity disappears at respective front and rear surfaces 11a and 12b, hence, surface tension occurring at resist liquid applied on the front and rear surfaces 11a and 12b of the crystal wafer 1A is reduced in the electrode forming process for the crystal wafer 1A, and the applied amount of resist liquid is secured sufficiently at each edge section.例文帳に追加

これにより、表裏の各面１１ａ，１２ａにおいて連続性がなくなり、水晶ウェハ１Ａに対する電極の形成工程において、水晶ウェハ１Ａの表裏面１１ａ，１２ａに塗布されたレジスト液に発生する表面張力が低減され、各エッジ部Ａにおけるレジスト液の塗布量が十分に確保される。 - 特許庁

Regarding the chromium plated member in which the surface of a member made of metal is provided with a chromium electroplating layer, the average diameter of crystallites in the chromium electroplating layer is ≥16.0 nm, and further, the peak intensity ratio between {211} and {222} according to an X-ray diffraction process, ({211}/{222}) is ≥0.10.例文帳に追加

金属製部材の表面に電気クロムめっき層が設けられたクロムめっき部材であって、前記電気クロムめっき層における結晶子の平均直径が１６．０ｎｍ以上であると共に、Ｘ線回折法による｛２１１｝と｛２２２｝のピーク強度比（｛２１１｝／｛２２２｝）が０．１０以上としたクロムめっき部材である。 - 特許庁

To provide metal polishing composition, having quick polishing speed and being capable of improving wiring metal/barrier metal selectivity in polishing, while capable of suppressing the generation of erosion in a surface to be polished, upon employing for chemical mechanical polishing, in the manufacturing process of a semiconductor device, and to provide a chemical mechanical polishing method that uses the composition.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨に用いた際に、研磨速度が迅速であり、研磨における配線メタル／バリアメタル選択性を向上でき、且つ、被研磨面におけるエロージョンの発生を抑制しうる金属研磨用組成物、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法の提供。 - 特許庁

To provide a production method of a metal oxide film capable of obtaining a uniform metal oxide film by a simple process even when a base material has an intricate structure part in a production method of a metal oxide film for forming the metal oxide film on a base material surface.例文帳に追加

基材表面上に金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が複雑な構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

A process for producing a functional film having a functional layer on the surface of a cellulose acylate film is provided wherein the cellulose acylate has a substitution degree satisfying specific conditions and an organic solvent used in a coating solution for the functional layer has a solubility parameter of not more than 18 MPa^1/2 or not less than 21 MPa^1/2.例文帳に追加

セルロースアシレートフィルムの表面に、機能性層を有する機能性フィルムの製造方法において、セルロースアシレートの置換度が特定の条件を満足し、且つ機能性層塗工溶液の有機溶媒の溶解性パラメータが１８ＭＰａ^1/2以下であるか、又は２１ＭＰａ^1/2以上である機能性フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can easily realize an improvement in image quality, the increase of an image forming speed, and downsizing, even when a surface emitting laser array is mounted as the light source of an exposure device and can obtain images of good quality even when an image forming process is repeated for a long period of time.例文帳に追加

露光装置の光源として面発光レーザアレイを搭載した場合でも、画像の画質の向上、画像形成速度の高速化及び小型化が容易に実現可能であり、然も長期にわたり画像形成プロセスを繰り返しても良好な画質の画像を得れる画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a lubricant supply device which does not cause failure such as the deterioration of image quality and toner filming by stably supplying lubricant onto an image carrier even when surface staining is caused on the image carrier because the characteristic of developer is varied with the lapse of time, and to provide a process cartridge, a device unit and an image forming apparatus.例文帳に追加

経時において現像剤の特性が変動して像担持体上に地肌汚れが発生した場合であっても、像担持体上に潤滑剤が安定的に供給して、画質劣化やトナーフィルミング等の不具合のない潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、装置ユニット、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Toner used in the developing process includes a binder resin, a colorant and a release agent, and an external additive which is a composite oxide having a core-shell structure formed of a core including titanium oxide in an amount of 80-95 wt.% and a shell including silicon oxide, wherein the composite oxide has a BET specific surface area of 50-100 m^2/g.例文帳に追加

現像工程で使用するトナーは、バインダー樹脂、色材及び離型剤を含むトナー母体と外添剤からなり,外添剤はコア部分に酸化チタン(含有量が80〜95重量％)を、シェル部分に酸化珪素を含むコアシェル構造を有する複合酸化物で、複合酸化物のBET比表面積が50〜100ｍ^2/ｇであるものとする。 - 特許庁

To provide a cleaning device which substantially prevents the adhesion of a lubricant and toner to a brush for applying the lubricant and can apply the lubricant on the surface of an image carrier for forming a latent image stably for a long period of time and recover the toner of a cleaning blade, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus and the toner used for the same.例文帳に追加

潤滑剤を塗布するブラシに、潤滑剤、トナーが付着しにくく、長期にわたって安定して潜像を形成する像担持体表面に潤滑剤の塗布、クリーニングブレードのトナーの回収ができるクリーニング装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置及びこれに用いるトナーを提供する。 - 特許庁

Since the ridges 54 and the groove parts 57 are obliquely arranged with respect to the center axial line of the rod-shaped main body 55, the intercepted parts 28 are moved in the width direction of the base material 21 when moved through the groove parts 57 to fill the recessed parts of the unevenness 25 during this moving process to flatten the surface of the coating layer 22.例文帳に追加

凸条５４と溝部５７は棒状の本体５５の中心軸線に対して斜めに配置されているので、堰き止められた部分２８は溝部５７を移動する際に基材２１の幅方向に移動し、その移動の過程で凹凸２５の凹部に充填され、塗布層２２の表面が平坦化される。 - 特許庁

Then, the scattered cement paste 13 flows down in the continuous gaps 12 along the surface of the coarse aggregate 11 and held by the sections where coarse aggregates 11 contact each other in that process, and each of the coarse aggregates 11 is connected to each other through hardening with the passage of time, resulting in the remaining of complex continuous gaps 12.例文帳に追加

散布されたセメントペースト１３は、粗骨材１１の表面を伝わりながら前記連続空隙１２を流下し、その過程で順次粗骨材１１同士の接触部分に保持され、経時的に硬化することによって、前記粗骨材１１同士が結合され、複雑な連続空隙１２の残存するポーラスコンクリート１０となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass substrate for magnetic disc capable of enhancing the yield of glass substrates, by discriminating an included substance generated at the manufacturing process of the glass substrate from a recessed defect and a projected defect included in the surface, a glass substrate for magnetic disk, and to provide a magnetic disc.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a composition for polishing for CMP machining that has superior selectivity where the polishing rate of a tantalum compound is small, even though that of copper is large in the CMP machining process of a semiconductor device having a copper film and the tantalum compound, and also has smoothness in the surface of the copper film.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for polishing and a polishing method for improving the polishing rate of a tantalum composition by increasing the polishing rate of copper at polishing the surface of copper, and reducing the polishing rate of copper at polishing the tantalum composition in a CMP working process of a semiconductor device having a copper film and a tantalum composition.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅表面を研磨する際は銅の研磨レートが大きいがタンタル化合物の研磨の際には銅の研磨レートが減少し、タンタル化合物の研磨レートが向上する研磨用組成物ならびに研磨方法を提供することにある。 - 特許庁

When polyethylene terephthalate is produced through the molten phase polymerization process, the molten polyester is pelletized after completion of the polymerization reaction by extruding polymer ribbons on one pair of the pelletizing drums that have unevenly roughened surfaces and rotating in different directions from each other so that the surface of resin ribbons are pressed unevenly, then cut into pellets.例文帳に追加

溶融重合によりポリエステルを製造する方法において、重合反応終了後の溶融ポリエステルをペレットに成形する際に、凹凸を付けた異方向に回転する１対のドラム上に索を押しだし索表面に凹凸を形成させた後ペレット化する事を特徴とするポリエステルの製造方法。 - 特許庁

To provide an electronic instrument and its production process that can stably and equally fill up reinforcement resin material and can get an increase and reliability of reinforcement strength after having done surface mounting of a BGA-type semiconductor device in which solder ball bumps are densely and sparsely arranged.例文帳に追加

本発明は、はんだボールバンプ配列に疎密のあるＢＧＡタイプの半導体装置をプリント配線基板に表面実装したあと、補強用の樹脂材を安定して均一に充填でき、補強強度の増大と信頼性の向上を得られる電子機器および電子機器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To make a foam structure of a foamed sheet lined to an interior cloth rear surface not destroyed by the synthetic resin which is heated and melted in a process of integrally molding the interior base material to the interior cloth by injecting the synthetic resin that is heated and melted to the cavity between a male mold body and a female mold body where the interior cloth is set.例文帳に追加

内装布帛の設定された雄型体と雌型体の間のキャビティに加熱溶融した合成樹脂を射出して内装基材を内装布帛と一体成形する過程において、内装布帛裏面に裏打ちされた発泡シートの発泡構造が加熱溶融した合成樹脂に破壊されないようにする。 - 特許庁

The image forming device equipped with a function to make image formation on the obverse and rear surfaces of each sheet feeds the sheet from a sheet feed cassette in conformity to the print signal and performs image formation on the obverse surface in its image formation part 114 followed by a fixing process in a fixation part 106.例文帳に追加

シートの表裏面に画像形成を行う機能を備えた画像形成装置は、所定シートの表裏両面への画像形成処理に際し、先ずプリント信号を通じ給紙カセット１０９からシートを給送し、画像形成部１１４においてシート表面への画像形成の後、定着部１０６で定着する。 - 特許庁

The speaker vibration cone is formed by a matched mold forming process using a sheet having a base material layer composed of resin composite for making polycarbonate resin and polybutylene terephthalate resin as main components, and a colored layer formed by using screen ink including metallic pigment at a surface of the base material layer.例文帳に追加

スピーカー振動板は、ポリカーボネート系樹脂とポリブチレンテレフタレート系樹脂を主成分とする樹脂組成物からなる基材層と、基材層の一方の面側に金属顔料を含有するスクリーンインキを用いて形成された着色層とを有するシートを用いて、マッチフォーミング法によって成形されて成る。 - 特許庁

To dispense with a surface roughening treatment process after extrusion molding but before metal molding and to enhance the bonding strength of an extrusion molded part and a metal molding part at the same time, in a weather strip having the extrusion molded part comprising a rubber substrate and a molded part comprising a thermoplastic elastomer.例文帳に追加

ゴム基材からなる押出成形部と熱可塑性エラストマーからなる金型成形部とを備えたウェザーストリップにおいて、押出成形後であってかつ金型成形前の、粗面化処理工程を不要とし、同時に押出成形部と金型成形部との接合部での接着接合強度を向上させる。 - 特許庁

The method is advantageous because a stable surface oxide film is formed on the surfaces of the silicon wafer using a substance having strong oxidizing ability while a cleaning process is performed.例文帳に追加

本発明によれば、洗浄工程とともにシリコンウエハーの表面に強い酸化力を持つ物質を用いて安定した表面酸化膜を形成することで、時間が経過しても外部の不純物がシリコンウエハーの表面に吸着されるなどの問題を解決することができ、かつ工程が簡単で安全に行える長所がある。 - 特許庁

To obtain a plane type lens with which linear light escape of transmitted incident light is lessened in spite of inclusion of transparent microspheres of defective shapes together with materials of a normal spherical shape and good performance may be obtained, a process for producing the same as well as a screen for a rear surface projection type projector.例文帳に追加

正常な球形の材料と共に不良な形状の透明微小球体が混入していても、透過する入射光の直線的な光抜けが低減され、良好な性能が得られる平面型レンズ及びその製造方法、並びに背面投射型プロジェクタ用スクリーンを提供すること。 - 特許庁

In this production process, a stage for slowly cooling a fired material obtained by firing and foaming a lightweight aggregate raw material, involves, when the surface temperature of the fired material reaches 100-300°C, immersing the fired material in a resin emulsion diluted so that its solid content is 10-40 wt.%.例文帳に追加

軽量骨材原料を焼成発泡して得られる焼成物を徐冷する工程において、該焼成物の表面温度が１００〜３００℃となった時点で、該焼成物を固形分が１０〜４０ｗｔ％になるように希釈した樹脂エマルションに浸漬する低吸水性軽量骨材の製造方法とした。 - 特許庁

To provide a release polyester film suitable for an optical-use separator, which can suppress the generation of oligomer to the minimum while a temperature of pressure-sensitive adhesive processing or the like or a pressure of a nip roll or the like is applied during process travel time, and which can change surface hardness in response to the counterpart pressure-sensitive adhesive agent.例文帳に追加

工程走行時、粘着加工などの温度、または、ニップロールなどの圧力がかかる状態において、オリゴマーの発生を極限まで抑えることができ、かつ、相手の粘着剤に応じて表面硬度を変更することができる光学用途のセパレーターとして好適な離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

In the biological treatment process 101, mixed liquid containing 10^7 to 10^10 pieces of microorganisms per milliliter and a nutrient source for accelerating the propagation of microorganisms are supplied to a first aeration tank together with waste water, and the microorganisms decompose an organic matter in the waste water while forming biological slime on the surface of activated carbon.例文帳に追加

生物処理工程１０１では、１ミリリットル当たり１０^７〜１０^１０個の微生物を含む混合液と微生物の増殖を促進させる栄養源とが廃水とともに第１曝気槽に投入され、微生物が活性炭の表面に生物膜を形成しつつ廃水中の有機物を分解する。 - 特許庁

Finally, the inspection map is collated with each piece of data by performing a collation process 40, data coincident with the inspection map is searched among pieces of the data, the working area of the surface of the substrate is defined by the working area layout coincident with the inspection map, and the use classification of the substrates are confirmed and the substrates are sorted 46.例文帳に追加

最後に、照合プロセス４０を行って検査マップとそれぞれデータとを照合し、データの中から検査マップに一致したデータを探し出し、また検査マップに一致した作用面積レイアウトにより基板表面の作用面積を定義し、進んで基板の使用類別を確認して分類４６する。 - 特許庁

To restrain the complication of a sand core shape when a steering head is cast and to improve the productivity of the steering head and reduce production cost by making unnecessary the removing process of core sand etc., on the wall surface of a second hollow part into which a steering shaft rotatively supported on the steering head is inserted.例文帳に追加

ステアリングヘッドを鋳造するにあたり、砂中子の形状が複雑化することを抑制すると共に、ステアリングヘッドに回動可能に支持されるステアリング軸が挿通される第２中空部の壁面での中子砂等の除去工程を不要として、ステアリングヘッドの生産性を向上させ、製造コストの削減をする。 - 特許庁

In another case, at the time of manufacturing the electrode for the non-aqueous electrolyte battery, an active material slurry containing an active material and a solid state filler is prepared and the active material slurry is applied to a surface of a current collector to form a film coating, and a process for making the solid state filler in the film coating liquid or gaseous is carried out.例文帳に追加

あるいは、非水電解質電池用電極を作製する際に、活物質と、固体状フィラーと、を含む活物質スラリーを調製し、この活物質スラリーを集電体の表面に塗布することにより、塗膜を形成し、さらに、塗膜中の前記固体状フィラーを液体状または気体状とする工程を行う。 - 特許庁

In a test process for a semiconductor chip 9, a wafer 3 is placed on the surface of a stage 2 of a prober 1, and a probe card 4 is fixed above the wafer 3 with facing the wafer 3, and further a probe 5 is brought into contact with an electrode pad 11 on the wafer 3 to measure electric characteristics of a predetermined semiconductor chip 9 with a tester 8.例文帳に追加

半導体チップ９のテスト工程で、プローバー１のステージ２表面にウェーハ３が載置され、ウェーハ３の上部にプローブカード４が対向して取り付けられ、プローブ５がウェーハ３上の電極パッド１１に接触させられ、所定の半導体チップ９の電気特性がテスタ８で計測される。 - 特許庁

To provide a transfer sheet which shows excellent surface hardness after transfer or reliable transferability to a porous base material and has an adhesive layer which can be simply formed by a routine coating process and exhibits an outstanding retaining force, a flocculating force and hot tack properties and hardly generates its flocculation/breakdown, even when released under a heating state.例文帳に追加

接着層を通常の塗工法により簡便に形成可能であり、接着層の保持力、凝集力、ホットタック性共に優れ、しかも加熱状態で剥離しても接着層の凝集破壊を発生しにくく、転写後の表面硬度や、多孔質基材への転写性にも優れた転写シートを提供する。 - 特許庁