「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(179ページ目) - Weblio英語例文検索

A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.例文帳に追加

基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極１２を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極１２を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

Regarding the particulate film structure 1 in which the surface of a substrate 2 is provided with a particulate film 3 composed of a ceramics material and deposited by an aerosol deposition process, the substrate 2 is recessed to the back side of the deposited film, so as to form a pan-shaped or dimple-shaped indentation, and the ceramics particulate film 3 is deposited in the indentation.例文帳に追加

基板２の上に、セラミックス材料から成り、エアロゾルデポジション法により成膜された微粒子膜３を備えた微粒子膜構造体１において、上記基板２を成膜裏面側に凹ませて、皿状あるいはディンプル状の窪みを形成し、この窪みの中にセラミックスの微粒子膜３を形成する。 - 特許庁

A processing apparatus for surface cleaning having a jet nozzle 40 for supplying deionized water pressurized by a jet pump 46 for the cleaning process, is provided with, aside from the nozzle 40, a nozzle 41 for supplying aqueous solution of carbonic acid, which supplies aqueous solution of carbonic acid in a form of mist to a wafer.例文帳に追加

ジェットポンプ４７によって高圧に加圧された純水をウェハＷに供給して洗浄処理するジェットノズル４０を備えた表面洗浄処理装置７において，ウェハＷにミスト状の炭酸水溶液を供給する炭酸水溶液供給ノズル４１をジェットノズル４０と別に設けた。 - 特許庁

As the filling material 78 is supported by the support 79, even when a process accompanied with heat treatment is performed after the oscillating board 48 is formed, shrinking deformation by the heat treatment as well as other deformation is hardly generated, and the smoothness and flatness of the surface of a silicon substrate 70 can be furthermore held.例文帳に追加

充填材７８は、支柱７９によって、支持されるので、振動板４８の形成後に熱処理を伴う工程が行われた場合であっても、その熱処理による縮み変形を起こしにくく、また、その他の変形を起こしにくくなり、シリコン基板７０の表面の平滑性や平坦性をより保てる。 - 特許庁

To provide a multilayer printed-circuit board with a flexible portion and a rigid portion in which great flexibility is provided by resolving discontinuity in terms of structure and strength between the flexible portion and rigid portion, and a surface treatment process can be simplified, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

可撓部および硬質部を有する多層プリント配線板において、可撓部から硬質部にわたる構造的・強度的な不連続性を解消して高い屈曲性能を有すると共に表面処理工程を簡略化することが可能な多層プリント配線板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a contact with a structure in which barrier parts are provided in four direction around an elastic contact part to prevent intrusion of foreign materials in a movable area of the elastic contact part and flatness of a solder-jointed surface is not deteriorated when the barrier parts are formed in a bending process.例文帳に追加

弾性接触部の周囲において四方に障壁部を設けることで、弾性接触部の可動域に異物が入り込んでしまうのを抑制でき、その障壁部を折り曲げ加工で形成した際、はんだ接合面の平面度を低下させてしまうこともない構造とされたコンタクトを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of preventing deterioration in processing ability for a substrate to be processed, and generation of particles and watermarks on a surface of the substrate to be processed after it is dried, even when a process liquid is repeatedly used in a substrate processing step, a substrate processing apparatus, a program and a storage medium.例文帳に追加

基板処理工程において処理液を繰り返し使用した場合であっても被処理基板に対する処理が悪化することなく、しかも乾燥後の被処理基板の表面にパーティクルやウォーターマークが形成されることを防止することができる基板処理方法、基板処理装置、プログラムならびに記録媒体を提供する。 - 特許庁

To obtain an in-bath roll for hot-dip metal coating by improving quality and productivity without forming an alloy layer on a roll surface and by improving the wettability of plating, and prolonging the service life of the roll by eliminating the need for a pickling process, thereby making it possible to reduce the costs of products and facilities.例文帳に追加

ロール表面に合金層を形成させず且つメッキの濡れ性も良好にさせることにより品質や生産性の向上を図ると共に、酸洗工程を不要にしてロール寿命を長寿命化することにより製品や設備の低コスト化を図ることができる、熔融金属メッキ用浴中ロールを得る。 - 特許庁

To provide a surface treatment apparatus for partially forming an anodized coating on the outer circumferential face of the member to be treated consisting of an aluminum alloy by which the process and time of anodization treatment can be reduced while satisfying the quality of the anodized coating to be formed without using large-scale equipment and complicated control.例文帳に追加

大規模な設備や複雑な制御を用いることなく、生成される陽極酸化皮膜の品質を満足しながら陽極酸化処理の工程時間も低減可能な、アルミニウム合金からなる被処理部材の外周面に部分的に陽極酸化皮膜を形成する表面処理装置を提供すること。 - 特許庁

By doing so, the end face 102a on the collimator lens 102 side is melted while being expanded; and during this process, the gap between the optical fiber 101 and the collimator lens 102 is filled with a material that forms the collimator lens 102 due to capillarity phenomenon caused by surface tension, and the optical fiber 101 and the collimator lens 102 are bonded.例文帳に追加

こうすることで、コリメータレンズ１０２側の端面１０２ａを膨張させつつ溶融させ、その際に表面張力により生じる毛細管現象により、光ファイバ１０１とコリメータレンズ１０２との間の隙間をコリメータレンズ１０２の構成材料により充填し、両者を接合する。 - 特許庁

This process for producing bonded silicon carbide comprises the step where one or more silicon metal (plates) of ≥98% purity are intervened between the surface of two or more sintered silicon carbides of 2-10 wt.% free carbon content and the step where the sintered silicon carbides nipping the silicon metal sheets are heated at elevated temperature.例文帳に追加

遊離炭素含有率が２〜１０重量％の２以上の炭化ケイ素焼結体の面間に、純度９８％以上のシリコン金属を該面に接するように挟持させる工程と、シリコン金属を挟持する炭化ケイ素焼結体を高温加熱する加熱工程とを含む炭化ケイ素接合体の製造方法である。 - 特許庁

A glass cloth is prepared through a glass cloth processing process including the thickener-removing step and the surface treatment step with a silane-coupling agent.例文帳に追加

脱糊工程とシランカップリング剤による表面処理工程を含むガラスクロス加工工程で作成されたガラスクロスであって、該ガラスクロスの引張強度Ｘと比較して、先ずテトラアルコキシシラン処理工程を加えた、該一連の連続したガラスクロス加工工程で作成されたガラスクロスの引張強度Ｙが８０≦Ｙ／Ｘ×１００の関係を満たすガラスクロス。 - 特許庁

To provide a production method of a conductive belt capable of forming the surface layer of the conductive belt by spraying a paint without a solvent or with a small amount of the solvent in order to eliminate or simplify a drying process, and to provide a conductive belt painting apparatus, and the conductive belt formed by the production method.例文帳に追加

乾燥工程をなくしもしくは簡素化するため、無溶剤もしくは少量の溶剤の塗料をスプレーして導電性ベルトの表面層を形成することのできる、導電性ベルトの製造方法、および導電性ベルト塗装装置、ならびに、この製造方法によって形成された導電性ベルトを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a spectacle lens in which an anti-fog layer is provided on a lens base material having an inorganic antireflection film with an SiO_2 layer formed on the outermost surface of the lens base material includes the following steps of: processing the SiO_2 layer of the inorganic antireflection film by a process liquid containing an inorganic alkali; and then forming a hydrophilic film.例文帳に追加

最外面にＳｉＯ_２の層を有する無機反射防止膜が形成されたレンズ基材上に、防曇層が設けられた眼鏡レンズの製造方法であって、前記無機反射防止膜のＳｉＯ_２の層を、無機アルカリを含む処理液で処理し、ついで、親水性膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cut-off member capable of easily carrying out a cut-off treatment process of a joint part between an exterior wall and the upper part of a projected wall mounted on the exterior wall surface of the exterior wall at approximately right angles to the exterior wall, a cut-off structure making use thereof and a mounting method of a cut-off plate.例文帳に追加

バルコニーの側壁用壁パネル等のように、外壁と、該外壁に対して略直交して前記外壁の外壁面に取り付けられた突出壁の上部との接合部分の止水処理工程を容易に行うことができる止水部材、これを用いた止水構造及び止水プレートの取り付け方法を提供する。 - 特許庁

The dissipating core comprises a core body 4 made of a high polymeric material foam, and a heat resisting coat-and-covering film layer 6 formed at least on the surface of the core body 4 making contact with a molten metal and the core body 4 is made dissipatable caused by the heat of the molten metal in the casting process of the molten metal.例文帳に追加

高分子材料の発泡体からなる中子本体４と、該中子本体４の少なくとも金属溶湯に接触する表面に形成された耐熱性の塗覆膜層６とを有し、金属溶湯の鋳造過程において該金属溶湯の熱にて前記中子本体４が消失せしめられ得るようにした。 - 特許庁

To provide a characteristics adjusting method of an image forming device that is capable of adjusting the characteristics of a multiple electron source by a simple process and making uniform the surface emission characteristics of the image display, by utilizing the unique nature of the electron emitting element, and a manufacturing method of the image forming device, and the image forming device and the characteristics adjusting device.例文帳に追加

電子放出素子に特有の性質を利用して、簡易な工程でマルチ電子源の特性を調整し、画像表示の面内発光特性を均一にすることが可能な画像形成装置の特性調整方法、画像形成装置の製造方法、画像形成装置及び特性調整装置を提供する。 - 特許庁

This coin delivery device for the coin processor is disposed with a buffer member 140 oppositely to a coin reception part in the coin processor holding the coins 110 in division recessed parts 113 disposed on the top surface of the rotating disk 105, dividing the coins one by one, receiving the coin by a fixed coin reception part 127, and sending the coin to the next process.例文帳に追加

回転ディスク(105)の上面に配置した区分け凹部(113)にコイン(110)を保持して一ずつ区分けした後、固定されたコイン受け取り部(127)により受け取って、次工程へ送るようにしたコイン処理装置において、コイン受け取り部に相対して緩衝部材(140)を配置したコイン処理装置のコイン送り出し装置。 - 特許庁

To provide a pattern forming device of a panel and its forming method wherein paste of a slight volume is capable of being formed on a panel face in the same or more production unit time than in a case of a screen printing mode, in a manufacturing process of a display of PDP, liquid crystal, organic EL or the like, or a panel of a semiconductor or surface mounting.例文帳に追加

ＰＤＰ，液晶，有機ＥＬなどのディスプレイ、或いは半導体、表面実装などのパネル製造行程において、パネル面に微少量のペーストを、スクリーン印刷方式と同等、或いはそれ以上の生産タクトで形成することが可能なパネルのパターン形成装置および形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrode paste composition for a plasma display panel, and a manufacturing method of an electrode using the same, capable of preventing generating of bubbles on the surface of the electrode during a printing process of the electrode paste and preventing damages to an electrode pattern due to decrease of an adhesive force.例文帳に追加

本発明は電極ペースト印刷の工程中に電極表面に気泡が発生するのを防ぐと共に接着力の減少による電極パターンの損傷を防ぐことができるプラズマディスプレーパネルの電極用ペースト組成物及びそれを利用した電極製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a development apparatus which can suppress developer sticking etc., on the surface of a developing sleeve due to a rise in developer pressure at both ends in the transverse direction of the developing sleeve in a developing region while assuring the stable developer conveyance property in an image creating region, an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

作像領域での安定した現像剤搬送性を確保しつつ、現像領域における現像スリーブの幅方向両端部での現像剤圧の上昇に起因した現像スリーブ表面の現像剤固着等を抑制することができる現像装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The refining process of the charge transport material, with which the charge transport material for an organic semiconductor element or its intermediate is dissolved in an organic solvent and the solution thereof is brought into contact with adsorbents, is characterized in that at least one of the adsorbents, is a clay ore adsorbent having a specific surface area of 260 m^2/g.例文帳に追加

有機半導体素子用電荷輸送材料又はその中間体を有機溶剤に溶解し該溶液を吸着剤と接触させる精製法において、吸着剤の少なくとも１つが比表面積が２６０ｍ^2／ｇ以下の粘土鉱物吸着剤であることを特徴とする電荷輸送材料の精製法。 - 特許庁

To provide a dresser capable of suppressing the decline of dressing capability by suppressing the deflected abrasion of abrasive grains of the dresser and to provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the generation of scratches and the generation of polishing amount fluctuation in the CMP(chemical mechanical polishing) process of the surface of a semiconductor substrate by the dresser.例文帳に追加

ドレッサの砥粒の偏摩耗を抑制することにより、ドレス能力の低下を抑制可能なドレッサを提供し、また、上記ドレッサにより、半導体基板の表面のＣＭＰ工程において、スクラッチの発生および研磨量ばらつきの発生を抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A fresh developing solution is applied on the plate surface of a planographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer process obtained by disposing a silver halide emulsion layer of a high silver density emulsion containing ≤70 wt.% binder based on the amount (expressed in terms of silver nitrate) of silver halide and a protective layer on an anodically oxidized aluminum substrate.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体上に硝酸銀に換算したハロゲン化銀に対して７０重量％以下のバインダーからなる高銀密度乳剤のハロゲン化銀乳剤層および又は保護層を設けた銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版の版面上に新鮮な現像液を塗布する。 - 特許庁

To provide a pull device which can be applied to both a front board of a drawer or an opening/closing door for a cabinet capable of simplifying the construction of a steel surface plate, making the processing easier, forming small parts of required minimum with a synthetic resin, requiring a simple assembling process, and reducing the cost.例文帳に追加

スチール製の表面板の構造を簡単にしてその加工を容易となし、必要最小限の小型部品を合成樹脂製で成形し、しかも組立工程が簡単であり且つコスト低減化を図ることができ、引出しの前板又はキャビネットの開閉扉の両方に適用することが可能な引手装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive pattern, which has conductivity approximately equal to that of graphite, through a dry process in air in an extremely short period of time on the surface of an insulative carbide; and to provide a method for forming a conductive pattern, which has conductivity approximately equal to that of metal, using the conductive pattern.例文帳に追加

絶縁性炭化物の表面に空気中において、ドライ工程で極めて短時間でグラファイト並の導電性を有する導電性パターンを形成する方法を提供すること及び該導電性パターンを使用して金属並の導電性を有する導電性パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a recyclable electrophotographic roller suppressing physical damage of an electrophotographic roller, removing a developer-derived fixed material fixed to the surface without impairing the characteristics thereof, and being recyclable as various types of electrophotographic rollers of an image forming apparatus using an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真用ローラの物理的なダメージを抑制し、その特性を損なうことなく表面に固着した現像剤由来の固着物を除去し、電子写真プロセスを利用する画像形成装置の各種電子写真用ローラとして再利用可能な再生電子写真用ローラの製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the risk triggered by the handling, especially of a thin wafer, formed of glass at the end of the manufacturing process of a part formed on one side of an electronic component and more specifically, by a thick or stressful treatment which produces defects in the evenness of a wafer surface.例文帳に追加

本発明は、電子部品、及びより具体的には、ウェーハの表面の均一性の欠陥を生じさせる、厚い又はストレス性の処理により片面の上に形成される部品の製造過程の終わりに、とりわけガラスで作られる薄いウェーハの操作により引き起こされるリスクを抑制することを目的とする。 - 特許庁

This supporter film for producing plastic films, usable as the supporter in the process for producing the plastic films by a solution cast method is a polyester film having 5.0-20 nm Ra and 30-500 nm Rt on one surface.例文帳に追加

溶液キャスト法によりプラスチックフィルムを製造する工程において支持体として用いられるフィルムであって、当該フィルムが、一方の表面のＲａが５．０〜２０ｎｍの範囲であり、かつＲｔが３０〜５００ｎｍの範囲であるポリエステルフィルムであることを特徴とするキャスト法によるプラスチックフィルム製造用支持体フィルム。 - 特許庁

To provide extremely high facial precision (surface roughness), shorten time for polish process required conventionally greatly or make it zero, shorten polishing time for end face finish and end face chamfering works of inner and outer peripheries of a glass substrate disc, and reduce manufacturing cost.例文帳に追加

極めて高い面精度（表面粗さ）を有し、従来必要とされたポリッシュ工程のための時間を大幅に短縮するか、或いはゼロとして、ガラス基板ディスク内、外周の端面仕上げ及び端面面取り作業のための研磨時間を短縮し、且つ、製造コストを低減することのできる研磨方法及び研磨装置を提供する。 - 特許庁

To check on and adjust components of a surface-mounting piezoelectric oscillator having a piezoelectric oscillator combined with IC components into a unified structure in its oscillating state after completing the assembly without increasing the occupied area, and to avoid complicating the assembling process to improve the productivity and reduce the manufacturing cost.例文帳に追加

圧電振動子と、チップ化したＩＣ部品とを組み合わせて一体化した構成の表面実装型圧電発振器において、占有面積を大型化することなく、組立完了後に発振状態での部品のチェック、調整を行うことができ、しかも組立工程の煩雑化を回避して生産性向上、製造コスト低減を図る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated vessel body which does not require repair of the resin layer on the inside surface of the vessel corresponding to welding point, lamination of a thermosetting resin, etc., in welding hand rings or washers to the laminated vessel body and is capable of performing welding by using the existing equipment without the need for providing fresh process steps, such as cooling.例文帳に追加

ラミネート缶体へ手環または座金の溶接を行うに際し、溶接箇所に対応する缶内面の樹脂層の補修や熱硬化性樹脂の積層等が不要であり、また、新たな冷却等の工程を設けることなく現状設備を用いて溶接することができるラミネート缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface-modified inorganic compound fine particles are prepared by a process wherein a compound having the general formula (1), or, (2): R^4SiH_3 is reacted with inorganic compound fine particles and the remaining SiH group is further reacted with a compound reactive with the SiH group.例文帳に追加

下記一般式（１）又は下記一般式（２）：Ｒ^4ＳｉＨ_３一般式（２）で表される化合物を、無機化合物微粒子と、反応させ、次いで、そのときに残留するＳｉＨ基に、該ＳｉＨ基と反応することのできる化合物を、さらに反応させることにより得られうる表面改質された無機化合物微粒子。 - 特許庁

There is provided plasma etching equipment in which a sprayed film is set to be a conductor, by attaching the sprayed film to the front surface of a wall with which plasma is in contact, such as the wall of a processing chamber and mixing a conductor with the material of the sprayed film in plasma processing equipment using a plasma process by use of halogen gas for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの作成に、ハロゲン系のガスによるプラズマプロセスを用いたプラズマ処理装置において、処理室内の壁等のプラズマが接触する壁の表面に溶射膜を付け、この溶射膜の材料に導体を混入することにより、溶射膜を導体としたことを特徴とするプラズマエッチング装置。 - 特許庁

In a process A in which a forward half portion of a car is washed by a top brush 8 by oscillating a guide frame 9 forward by a cylinder 13, the elevating speed of the top brush 8 is increased as the backward oscillating angle of the guide frame 9 is increased by the increase in the surface pressure, and the traveling speed of a traveling frame 4 is dropped.例文帳に追加

シリンダ１３で案内枠９を前方へ揺動させてトップブラシ８で車両の前半部を洗浄する（Ａ）の工程では、面圧増加によって案内枠９が後方へ揺動する角度が大きくなる程、トップブラシ８の上昇速度を増加させるとともに走行フレーム４の走行速度を低下させる。 - 特許庁

The screw rotor processing method forms screw tooth groove by controlling workpiece revolution and tool swiveling simultaneously on the basis of a five-axis NC machine tool; wherein a special end mill is used for a finish process of tooth groove side-surface processing, the end mill having a short cutting edge, and equipped with a neck portion between the cutting edge and the shank, the neck portion being slenderized.例文帳に追加

５軸のＮＣ加工機をベースに、ワーク回転と工具旋回とを同時に制御してスクリュー歯溝を形成するスクリューロータの加工方法であり、歯溝側面仕上げ加工工程に切れ刃長さを短くし、切れ刃部とシャンク部の間に首部を設けその部分を細くした特殊なエンドミルを用いて加工する。 - 特許庁

The luminous material comprises a base (11), a thin film of a porous metal oxide (12) formed on the base (11) and a luminescent layer (14) containing an inorganic luminous material (13) which emits light in a return process to a ground state from an excited state excited by receiving an outside energy, bonded to the surface of the porous metal oxide (12).例文帳に追加

基体（１１）と、基体（１１）上に形成された、薄膜状の多孔質金属酸化物（１２）と、多孔質金属酸化物（１２）の表面に、外部エネルギーを受けて励起し励起状態から基底状態へ戻る際に発光するように結合した無機発光物質（１３）とを含む発光層（１４）とを具備した発光材料。 - 特許庁

The CPU 21 loads a top board moving control program and data necessary for executing programs stored in the ROM 23 into the RAM 22 and performs the process for controlling the movement of the top board in order to easily measure the wide-ranging region of interest with the small number of surface coils in accordance with the top board moving control program.例文帳に追加

ＣＰＵ２１は、ＲＯＭ２３内に記憶された天板移動制御プログラムおよびプログラムの実行のために必要なデータを、ＲＡＭ２２へロードし、天板移動制御プログラムに従って少ない表面コイルで容易に広範囲の関心領域を測定するために天板の移動を制御する処理を実行する。 - 特許庁

The conductive synthetic resin sheet is obtained by a process in which a thin conductive film formed from a composition comprising a vinyl chloride resin 60-70% in degree of chlorination, conductive powder, and an organic solvent is formed on the surface of a vinyl chloride resin sheet 60-70% in degree of chlorination, and the sheet is heated while being pressurized.例文帳に追加

本発明の導電性合成樹脂シートは、塩素化度が６０〜７０％である塩化ビニル樹脂、導電性粉末、および有機溶剤の組成物からなる導電性薄膜を塩素化度が６０〜７０％の塩化ビニル樹脂シート表面に形成した後、該シートを加圧下に加熱することにより得られる。 - 特許庁

As for the method for manufacturing the developing roller, etc., including a process of forming the coated film on the substrate surface of the roller 1 by dipping the substrate of the roller 1 into the coatings, the temperatures of the substrates of many rollers 1 suspended by a hanger 2 are maintained so as to be nearly uniform in the entire roller 1 before the rollers are dipped.例文帳に追加

ローラー１の基体を塗料へディップさせることによって、ローラー１の基体表面に塗膜を形成させる工程を含む現像ローラー等の製造方法において、ディップ前におけるハンガー２に吊支された多数のローラー１の基体の温度を、全ローラー１においてほぼ均一となるように維持する。 - 特許庁

The full-color laser printer performs even a peeling device cleaning processing operation wherein the peeling device is brought into contact with a transfer drum in a cleaning process of an intermediate transfer drum to remove the waste toner sticking on the peeling device, and thus eliminates a waste toner fall on an image to prevent the decrease in print quality and abrasion of the transfer drum surface.例文帳に追加

本発明のフルカラーレーザプリンタは、中間転写ドラムのクリーニング工程時に剥離装置を繰返し転写ドラムに接触させる剥離装置クリーニング処理動作も行い、剥離装置に付着している廃トナーを除去して、画像への廃トナー落ちを無くし印字品質の低下と転写ドラム表面の磨耗とを防ぐ。 - 特許庁

A variation ΔL is a leak current flowing between the upstream side fixed brush 34 and the downstream side rotary brush 48, and when the leak current value ΔL becomes larger than a current value by which an image flow is generated, a removing process for removing discharge products stuck to the surface of the photoreceptor 13 is performed.例文帳に追加

変化分であるΔＬが、上流側固定型ブラシ３４と下流側回転型ブラシ４８との間で流れるリーク電流であり、このリーク電流値ΔＬが像流れが発生する電流値より大きくなると、感光体１３上に付着した放電生成物を除去する除去工程を行うようになっている。 - 特許庁

Force is applied to the two substrates 22, 24 in the bonding direction by the surface tension of the resin 33 without applying external force, and since the resin 33 is drained from the places having the drops in a process of spreading the resin 33 around, the distorted EL element board 24 is flattened by reducing recessed parts of the drop places.例文帳に追加

２枚の基板２２，２４は樹脂３３の表面張力により外部より力を加えなくとも密着する方向に力がかかり、また樹脂３３が周囲に広がっていく過程において落滴した箇所から樹脂３３が排出されるため、落滴箇所の凹みを減らして歪んだＥＬ素子基板２４を平坦化する。 - 特許庁

In other words, since the volume change due to the deformation in a process of dents is absorbed in the pores of the die base metal 4, wrinkles are hardly formed around the dents for element 3b, so that the wrinkles can be prevented from being formed on the surface of an array of microoptical element to be molded by the resultant molding die.例文帳に追加

つまり、圧痕加工に際して変形による体積変化が金型母材４の空孔に吸収されるので、素子用圧痕３ｂの周囲に皺が形成されにくく、結果的に得られた成形用金型によって成形されるマイクロ光学素子アレイの表面に皺が形成されることを防止できる。 - 特許庁

To provide a transformer for securing the reliability in electric connection in mounting without causing varnish to adhere to the tip of a terminal in the coating dipping process of the varnish to a surface-mounted compact transformer where a core where a magnetic metal thin plate has been laminated to a bobbin having a terminal having coil winding is assembled.例文帳に追加

巻線を施した端子付きボビンに磁性金属薄板を積層した磁芯を組み付けた、表面実装型の小型トランスへのワニスの塗布含浸工程で、端子の先端にワニスが付着せず、実装の際の電気的な接続の信頼性を確保したトランスと、その製造方法を提供すること。 - 特許庁