「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(182ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method is provided with a heat treatment process for forming an aluminum oxide layer by heating aluminum nitride-based sintered compact at 1,000-1,500°C under a condition adjusted to an atmosphere of 0.0001-0.01 MPa oxygen partial pressure and ≥0.001 MPa water vapor partial pressure to oxidize the surface layer.例文帳に追加

酸素分圧が０．０００１〜０．０１ＭＰａ、水蒸気分圧が０．００１ＭＰａ以上の雰囲気に調整された条件下において、窒化アルミニウム系焼結体を１０００〜１５００℃の温度範囲で熱処理することにより、その表層を酸化させて酸化アルミニウム層を形成させるための熱処理工程を備える製造方法を用いる。 - 特許庁

A diffusion layer 5 and an anode layer 4 are formed in partial regions of the whole surface of a cathode layer 2, and thermal treatment during forming the anode layer 4 is incompletely finished so that defects caused by an ion implantation process during forming the anode layer 4 remain, while the impurity concentration of the diffusion layer 5 is set higher than that of the cathode layer 2.例文帳に追加

カソード層２の全表面部のうちの一部の領域に形成される拡散層５及びアノード層４に、それぞれ、アノード層４形成時のイオン注入処理により発生する欠陥を、アノード層４形成時の熱処理を不完全にして残留させると共に、拡散層２の不純物濃度をカソード層２よりも高くする。 - 特許庁

The repair method of the steel revetment structure constituting a revetment comprises a step of installing anchor members at a contact surface of the steel structure with water and a step of installing a form to carry out underwater driving of a hydrated hardened body containing slag produced in a steel manufacturing process as a main material, in the form.例文帳に追加

護岸を構成する鋼製護岸構造物を補修する方法であって、鋼製構造物の水との接触面に定着部材を設置する工程と、型枠を設置して該型枠に鉄鋼製造プロセスで発生したスラグを主原料とする水和硬化体を水中打設する工程と、を備えたことを特徴する鋼製護岸構造物の修復方法。 - 特許庁

To provide an aqueous pressure-sensitive adhesive composition in the form of an adhesive microsphere, capable of manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet excellent in adhesion to any adherend having smooth or rough surface, especially a re-releasable pressure-sensitive adhesive sheet which can be re-released from the adherend and can be repeatedly attached and released, through a transfer process.例文帳に追加

表面が平滑面又は粗面の何れの被着体に対しても優秀な接着性を有する感圧接着シート、特に被着体からの再剥離が可能で、且つ貼付、剥離の繰り返しが可能な再剥離型感圧接着シートを、転写法によっても作製することができる粘着性微小球型の水性感圧接着剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer including a process of performing vapor-phase growth of a silicon single-crystal thin film on the surface of a silicon single-crystal substrate, wherein variation in resistivity in a depth direction between the silicon single-crystal substrate and silicon single-crystal thin film is steep and the transition width of the resistivity is small.例文帳に追加

シリコン単結晶基板の表面上にシリコン単結晶薄膜を気相成長させる工程を含むシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法において、シリコン単結晶基板とシリコン単結晶薄膜間の深さ方向の抵抗率変化が急峻で、抵抗率の遷移幅が小さいシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device in which diamond is employed, and nonetheless the breakage of a substrate due to the occurrence of static electricity is prevented during the manufacturing process of the device resulting in the increased manufacturing yield of the device and which can maintain high performance for a long time by preventing electro static charging when actually used.例文帳に追加

ダイヤモンドを利用した弾性表面波デバイスであっても、デバイス製造工程では、静電気が発生することによる基板の破損を防ぐことができて、デバイス製造歩留りを向上させることが可能であり、また、実使用時には、帯電を防止して高性能を長時間維持することが可能な弾性表面波デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display panel substrate including an electrode provided on a flat surface of a substrate partitioned by a rib at low manufacturing cost and high yield without needing a complicated manufacturing process, a display panel provided with the display panel substrate manufactured by the method, and a display device provided with the display panel.例文帳に追加

複雑な製造工程を要さず、低い製造コスト及び高い歩留まりで、リブで区画された基板の平面上に電極を備えた表示パネル用基板を製造する方法を提供し、更に、この製造方法で製造された表示パネル用基板を備えた表示パネル及びこの表示パネルを備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chromium-free colored or black rust prevention treatment liquid having both of high rust preventability and satisfactory appearance on a galvanized or galvannealed metal surface in a process according to the conventional chromate method or trivalent chromium treatment liquid method in all the main bath seeds of galvanizing, and to provide a colored or black rust prevention film treatment method.例文帳に追加

亜鉛または亜鉛合金めっきされた金属表面上に、従来のクロメート法、または３価クロム処理液法に準じた工程にて、亜鉛めっきのすべての主たる浴種において、高防錆力が得られる、良好な外観を兼ね備えたクロムフリーの有色又は黒色防錆処理液および有色又は黒色防錆皮膜処理方法を提供する。 - 特許庁

Quartz glass formed articles formed by heating and melting a quartz glass preform with a thermal formation process are heat-treated in an oxygen-containing environment at a temperature not practically causing the deformation of the quartz glass to react oxygen molecules with Si-Si type oxygen-deficient defects on the surface of the glass so that the Si-O-Si silica glass networks are restored.例文帳に追加

加熱成形加工により石英ガラス母材を加熱溶融させて得た石英ガラス成形品を、酸素含有雰囲気下で、且つ石英ガラスが実質的に変形しない温度下で加熱処理し、ガラス表層部のＳｉ−Ｓｉ型の酸素欠乏欠陥に対し、酸素欠乏欠陥と酸素分子を反応させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉシリカガラスのネットワークに復元させる。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

A recycling system of the waste water for supplying suitably pH adjusted water for each tank, using the clarified water as a base, which is separated in sedimentation equipment from waste water generated in the surface treatment process, comprises supplying pH adjusted water in about 8.5-10.5 for rinsing after alkaline degreasing, and pH adjusted water in about 4-7 for rinsing after acid treatment.例文帳に追加

表面処理で発生した廃水を、沈降装置で分離処理した清澄水をPH調整し、PH調整水を各槽に対応する数値に変換して供給する廃水の再利用管理システムで、PH調整水を、アルカリ脱脂槽後の水洗用としてPH8.5〜10.5程度で供給し、酸処理槽後の水洗用としてPH4〜7程度で供給する。 - 特許庁

This process cartridge is constituted so that a regulating member 40 provided with a function for regulating gas giving effect to the sensibility of the electrophotographic photoreceptor 2 is arranged in the closed space 51 formed in the cartridge vessel 19 by the inside wall of the cartridge vessel 19, the surface of the electrophotographic photoreceptor 2, the cleaning means 4, and the developer leakage preventive member 14.例文帳に追加

カートリッジ容器１９の内壁と、電子写真感光体２の表面と、クリーニング手段４と、現像剤漏れ防止部材１４と、によってカートリッジ容器１９内に形成される閉塞された空間Ｓ１内部に、電子写真感光体２の感度に対して影響を与えるガスの調整機能を有する調整部材４０を配設する構成とする。 - 特許庁

The forming method comprises a process of oxidizing the semiconductor surface of a substrate (9) to be processed on which a semiconductor element is formed with an oxygen atom active species produced by a plane parallel type plasma generation apparatus excited by a high frequency power supply (6) of a predetermined frequency, and hereby forming a first insulating film (18) on the substrate (9) to be processed.例文帳に追加

半導体素子が形成される被処理基板（９）の半導体表面を、所定の周波数の高周波電源（６）によって励振される平行平板型のプラズマ生成装置によって発生させた酸素原子活性種によって酸化することにより、被処理基板（９）に第１の絶縁膜（１８）を形成する工程を有する。 - 特許庁

In a process of pulling up silicon single-crystal to which nitrogen and carbon are added by a CZ method and working the silicon single-crystal before forming an epitaxial layer to a wafer, a silicon single-crystal layer is deposited by an epitaxial method on the surface of a silicon single-crystal wafer to which heat treatment is carried out for one hour to three hours at 750°C to 850°C.例文帳に追加

ＣＺ法により窒素と炭素を添加したシリコン単結晶を引き上げ、エピタキシャル層を形成する前のシリコン単結晶をウェーハに加工する工程の中で７５０℃以上８５０℃以下の温度で、１時間以上３時間以下の熱処理を行ったシリコン単結晶ウェーハの表面にエピタキシャル法によりシリコン単結晶層を堆積させる。 - 特許庁

To provide a surface-mounted type light-emitting diode, in which generation of crack of thermosetting resin and generation of open failure to a lead frame of an LED chip are prevented, by improving a thermal curing process of the thermosetting resin when at least the LED chip is sealed with the thermosetting resin, having light transmission property, and to provide a method for manufacturing the light-emitting diode.例文帳に追加

透光性のある熱硬化性樹脂による少なくともＬＥＤチップの封止にあたり、当該熱硬化性樹脂の熱硬化過程に工夫を凝らし、当該熱硬化性樹脂のクラックやＬＥＤチップのリードフレームとの間のオープン不良の発生を未然に防止するようにした表面実装型発光ダイオード及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the device, a polycrystalline silicon layer 3 is laminated after the bottom side electrode 8 that is a sectional trapezoid is formed on one surface of an insulating substrate 11, a porous polycrystalline silicon layer is formed by making a part on the bottom side electrode 8 porous by an anodizing process and a drift part 6a of a high field drift layer 6 is formed by oxidizing the porous polycrystalline silicon layer.例文帳に追加

絶縁性基板１１の一表面上に断面台形状の下部電極８を形成した後、多結晶シリコン層３を堆積し、陽極酸化処理にて下部電極８上の部位を多孔質化して多孔質多結晶シリコン層を形成し、多孔質多結晶シリコン層を酸化することで強電界ドリフト層６のドリフト部６ａを形成する。 - 特許庁

A bipolar photo-electrochemical process is disclosed for electroless deposition (referred to as photo Bi-OCD) of a metallic compound onto the top surface of a semiconducting substrate whereby differential illumination of the front side of the substrate versus the back side of the substrate provides a driving force to separate the cathodic and anodic partial reactions leading to high yield deposition of the metallic compound.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属化合物を無電解析出（光Ｂｉ−ＯＣＤとよばれる）させるバイポーラ光電気化学プロセスであって、基板の表側と基板の裏側の異なった照度が、カソード反応とアノード反応とを分離する駆動力を形成し、高歩留まりの金属化合物の析出が得られるプロセスが開示されている。 - 特許庁

To provide a portion-cut soft cheese which is added with a flavor substance, having a surface matured with a mold, is free from problems in a portion-cut process even by portion-cutting after adding the flavor substance, maturing and thermally sterilizing the cheese, free from leakage of the cheese and the flavor substance from a packaging material in thermal sterilization and resistant to collapse of the shape.例文帳に追加

本発明の目的は、風味物質を添加後ポーションカットし、その後熟成してから加熱殺菌処理を行っても、ポーションカット時に問題が生じず、また加熱殺菌時に包材からのチーズや風味物質の漏洩がなく、型くずれもしない風味物質を添加したカビによる表面熟成軟質チーズのポーションカット品を提供することにある。 - 特許庁

A protruded stripe 38 is protruded on a position corresponding between respective partitions 34 on the back 36 of a plate 20, and when a squeegee 42 is slid on the surface while pressing the back 36 of the process toward the tops of the partitions 34 for the purpose of applying a phosphor paste 40, the protruded strip 38 is fitted into between respective partitions 34.例文帳に追加

製版２０の裏面３６には、隔壁３４相互間に対応する位置に突条３８が突設されていることから、蛍光体ペースト４０を塗布するためにその裏面３６を隔壁３４の頂部に向かって押圧しつつスキージ４２を表面で摺動させる際には、その突条３８が隔壁３４相互間に嵌まり込むこととなる。 - 特許庁

To provide a liquid photosensitive resin composition in which a laser-engraved printing original plate can be photo-cured in the air in its forming process and a printing original plate having high plate thickness accuracy and small tack on a printing surface can be produced by suppressing the generation of a residue when a relief image is created by directly engraving with laser, and a printing original plate.例文帳に追加

直接レーザー彫刻してレリーフ画像を形成する際に発生する液状カス量が少なく、レーザー彫刻印刷原版の形成工程において、大気中で光硬化させることができ、版厚精度が高く、表面のタックが小さい印刷原版を製作しうる液状感光性樹脂組成物および印刷原版の提供。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a high-durability surface layer excellent in smoothness, having high wear resistance and good electrical characteristics, and capable of achieving higher image quality over a long period of time, a method of manufacturing the electrophotographic photoreceptor, and an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

平滑性に優れかつ高耐久な表面層を有し、耐摩耗性が高く、良好な電気的特性を有し、長期間にわたり高画質化を実現できる電子写真感光体及び該電子写真感光体の製造方法、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

In the card having an embossing processed surface, the invention aims to materialize a card so as its protection layer dose not split using a film type protection layer, on a substrate, which comprises crystalline resin films such as biaxial stretching polyethylene terephthalate film as a protection layer and using a buffer coat between a card substrate and a film type protection layer at an area where embossing process is performed.例文帳に追加

エンボス加工を施してなるカードにおいて、基材上に保護層として二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの結晶性樹脂フィルムからなるフィルム状保護層を用い、エンボス加工を施してなる部分においてカード基材とフィルム状保護層の間に緩衝層を用いることにより保護層の割れなどのないカードとするものである。 - 特許庁

By using a developing and transfer process analyzing model by the distinct element method, a developed toner image on the surface of a photoreceptor obtained when changing electrified amount of toner, a gap between the photoreceptor and a developing roller and the rotational speeds of the developing roller and the photoreceptor is calculated to calculate the developing amount of toner obtained when changing the potential of a latent image on the photoreceptor.例文帳に追加

個別要素法による現像及び転写プロセス解析モデルを用いて、トナー帯電量、感光体と現像ローラ間の空隙、現像ローラと感光体の回転速度を変化させたときの感光体表面上の現像トナー像を算出し、感光体の潜像電位を変化させたときの現像トナー量を算出する。 - 特許庁

To provide a high-performance image carrier which prevents the occurrence of an image fault relating to color reproduction by reducing the surface characteristics of an electrically conductive substrate between a plurality of the image carriers, more particularly the variation in lightness and adjusting the lightness on the surfaces of the respective substrates to prescribed values and a process cartridge, and an image forming apparatus carrying these.例文帳に追加

複数の像担持体間における導電性基体の表面性、特に明度のバラツキを低減し、各基体の表面の明度を所定の値に調整することにより、色再現に係る画像障害を生ずることがない、高性能の像担持体およびプロセスカートリッジ、並びにこれらを搭載した画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The method of aseptically filling the pouch having a spout comprises steps of sterilizing, in a filling machine, an external surface of the pouch with the spout in a sealed state whose pouch container has been radioactively sterilized in advance, unsealing the pouch and filling contents, and thereafter sealing the pouch container by using a cap which has been sterilized in a separate process.例文帳に追加

密封した状態で、予めパウチ容器を放射線滅菌処理したスパウト付きパウチを充填機内で外面殺菌処理を施し、密封を解除して内容物を充填した後、別工程で殺菌処理を施したキャップを用いて、前記パウチ容器を密封することを特徴とするスパウト付きパウチの無菌充填方法である。 - 特許庁

This method comprises the following process: a masking plate 30 with an opening 31 is placed on the surface of a baking plate 20 for food such as confectionery or bread, and then sprayed with a release oil 61 to effect adsorption of the release oil as releasant to a portion 21 exposed from the opening, and the oil film 612 of the release oil formed on the masking plate 30 is recovered.例文帳に追加

菓子、パン、食品を焼成する焼き板２０の表面に開口部３１を具えるマスク板３０をのせ、このマスク板３０上に離型油６１を吹付けて焼き板の表面上の開口部から露出する部分２１に離型剤を吸着させる一方、マスク板３０上に形成される離型油の油膜６１２を回収する。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁

In the method for producing the plate glass by a floating process where tension is applied to a molten glass ribbon on the molten tin bath using the top roll in the approximately orthogonal direction to its flow, it is characterized by that the top roll is composed of a base material consisting of a metallic material and the thin film of diamond-like carbon exists on the surface of the base material of the top roll.例文帳に追加

トップロールを使用して溶融錫浴上の溶融ガラスのリボンにその流れ方向にほぼ直交する方向に張力を印加する、フロート法による板ガラスの製造方法において、前記トップロールが、金属材料からなる母材で構成され、該トップロールの母材表面にダイアモンドライクカーボンの薄膜を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第２工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

To provide a heating head of a bending machine for bending a metal plate by high-frequency induction heating, the heating head including a high-frequency heating coil and a matching transformer arranged integrally close to each other, being prevented from rocking during transfer and positioning processes, and being rocked after the positioning process so that the surface of the high-frequency heating coil follows the shape of the bent metal plate.例文帳に追加

高周波誘導加熱により金属板を曲げる曲げ加工装置の加熱ヘッドであって、高周波加熱コイルと整合トランスとが近接させて一体的に配置され、移動及び位置決めの過程では揺動が抑えられ、位置決め後に揺して金属板の曲がりに高周波加熱コイルの表面を倣わせることができる加熱ヘッドを提供する。 - 特許庁

While a molten resin is packed in a cavity and a mold is opened, a process in which a pressurized fluid is injected from injection channels 24d and 24f opened toward the back of a molding to be charged between the back of the molding and a cavity surface 24a and discharged from a discharge channel 24h opened to the back of the molding is implemented.例文帳に追加

キャビティに溶融樹脂を充填してから型を開くまでの間に、成形品裏面に向けて開口する注入流路２４ｄ．２４ｆから加圧流体を注入し、成形品裏面とキャビティ面２４ａの間に浸入した加圧流体を成形品裏面に開口する排出流路２４ｈから排出する工程を実行する。 - 特許庁

At this time, a processing blade 10 having the shape corresponding to the opening line is pressed to an opened mold 3 during an after-melt process for melting the raw material powder 2a bonded to the mold 3 after the mold 3 clamped to a powder box 2 to be closed is rotated in a heated state to form the breaking groove 9a in the back surface of the skin of the instrument panel.例文帳に追加

その際、パウダボックス２にクランプされて閉鎖された金型３の加熱状態での回転後に、金型３に付着した原料パウダ２ａを溶融させるアフタメルト工程中に、開放した金型３に開口ラインに対応し形状の加工刃１０を押し付けてインストルメントパネル表皮の裏面に破断用溝９ａを形成する。 - 特許庁

Also, the production process of another similar lightweight formed body having a laminated structure comprise integrally subjecting a core layer that consists of a powdery phenolic resin and aggregate containing the dried ALC crushed material, and a reinforcing layer that is formed at least one surface side of the core layer and consists of a powdery phenolic resin and an inorganic filler comprised of a fibrous material blend, to thermal hardening under pressure.例文帳に追加

また、上記の乾燥ＡＬＣ破砕物を含む骨材と粉末状のフェノール樹脂とからなるコア層、及び該コア層の少なくとも一面側に設けられ、繊維状材を配合した無機質フィラーと粉末状のフェノール樹脂とからなる補強層を、一体として熱圧硬化させる積層構造の軽量成形体の製造方法。 - 特許庁

A pad oxidation film 2 and a nitriding silicon film 3 are formed on a silicon substrate 1, a trench 4 is formed by dry etching to make the nitriding silicon film 3 an etching mask, further the nitriding silicon film 3 is made an oxidation mask to thermally oxidize the silicon substrate 1, and a reforming layer formed on the surface of the nitriding silicon film 3 is removed by a neutral radical containing fluorine in a thermal oxidation process.例文帳に追加

シリコン基板１上にパット酸化膜２と窒化珪素膜３を形成し、窒化珪素膜３をエッチングマスクにしたドライエッチングでトレンチ４を形成し、更に窒化珪素膜３を酸化マスクにしてシリコン基板１を熱酸化し、上記熱酸化工程において窒化珪素膜３表面に形成される改質層をフッ素含有の中性ラジカルで除去する。 - 特許庁

The method for manufacturing the solar cell comprises the steps of baking the semiconductor substrate with a conductive paste formed on a main surface at a maximum burning temperature of not less than 450°C, and maintaining a cooling speed of not more than 7.5°C/sec for the predetermined time at the temperature range of not less than 250°C from the maximum burning temperature in a cooling process.例文帳に追加

一主面に導電性ペーストが形成された半導体基板を、４５０℃以上の最高焼成温度で焼成する焼成工程と、前記最高焼成温度からの冷却過程の２５０℃以上の温度領域において、７．５℃／秒以下の冷却速度を所定時間維持する維持工程とを備えて成る太陽電池素子の製造方法とする。 - 特許庁

To provide a method for producing charcoal which averagely converts the total raw material, especially the deep portion of a thick part of a raw material or the central part of a large tree diameter, in a short time into charcoal in order to prevent the outer peripheral surface from changing into ash before the total raw material is made into charcoal in a process of producing charcoal in the inside of a charcoal kiln.例文帳に追加

木炭窯内部での木炭製造過程において原材料全体が木炭になる前に外周部分が先に灰にならない為に、原材料全体特に原材料の厚い部分の深部や樹径の大きい中心部が外周部分の木灰化前に短時間に平均的に木炭化される木炭製造方法を提供する。 - 特許庁

A cylindrical blank 32 to undergo a shaping process is configured so that a ring-shaped projection 30 having a thickness corresponding to the height of the tooth part of a synchronizer cone and a taper surface 28 having a smaller thickness than the projection are formed in a single piece on the same axis, and the periphery of the projection 30 is cut at constant intervals in the axial direction so that a plurality of projections are formed.例文帳に追加

シンクロナイザコーン１０の歯部１６の高さに対応する厚みを有する環状突起部３０とそれより厚みの小さいテーパ面２８とが同軸上に一体的に形成された筒状の成形用素材３２を準備し、環状突起部３０の外周を軸方向に沿って等間隔に切除して複数の突起部３４を形成する。 - 特許庁

After laminating a first silicon layer 108a, a silicon-rich oxide film 10 and a second silicon layer within a cylinder hall 107 provided to a film 106 between the cylinder layers, the HSG forming process is conducted to the second silicon layer using the silicon-rich oxide film 10 as a stopper in view of forming a plurality of HSGs 108c on the surface of the silicon-rich oxide film 10.例文帳に追加

シリンダ層間膜１０６に設けたシリンダホール１０７内に、第１のシリコン層１０８ａ、シリコンリッチな酸化膜１０及び第２のシリコン層を積層した後、シリコンリッチな酸化膜１０をストッパとして第２のシリコン層に対しＨＳＧ化処理を行うことにより、シリコンリッチな酸化膜１０の表面に複数のＨＳＧ１０８ｃを形成する。 - 特許庁

When the barium titanate powder is produced by mixing titanium oxide powder and a barium compound such as barium carbonate and calcining the resulting mixture, titanium oxide power comprising particles each having a barium compound on its surface is used to suppress sintering of the titanium oxide power, that is, grain growth of the titanium oxide powder in the calcining process.例文帳に追加

酸化チタン粉末と炭酸バリウムのようなバリウム化合物粉末とを混合し、仮焼することによって、チタン酸バリウム粉末を製造しようとするとき、酸化チタン粉末として、その各粒子の表面にバリウム化合物を存在させているものを用いることによって、仮焼工程での酸化チタン粉末の焼結すなわち粒成長を抑制する。 - 特許庁

Detecting means 2 that detects the surface Ls of a molten metal layer L in a process of immersing a probe distal end 1a into a molten metal container is provided.例文帳に追加

プローブ先端部１ａに溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層Ｌの表面Ｌｓを検知する検知手段２を設け、当該プローブ１の浸漬過程で検知手段２から出力された溶融金属層表面Ｌｓの検知信号に基づき、当該浸漬工程におけるその後の溶融金属層Ｌ内への該プローブ１の浸漬深さを制御する。 - 特許庁

To provide a substrate transfer method of a vacuum processing apparatus performing heating treatment and surface treatment such as deposition process to substrates while manufacturing various kinds of electronic apparatuses, which constantly and securely holds each substrate in a tray even when a substrate transfer mechanism transfers the substrate to the tray with low accuracy.例文帳に追加

各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a process of forming a metal electrode film on one-side principal surface of a thin wafer having a thickness of 200 μm or less, and forming a metal film on a semiconductor wafer by using a ring-like susceptor capable of reducing wafer cracks even when warpage occurs in the wafer.例文帳に追加

２００μｍ以下の薄いウエハの一方の主面に金属電極膜を形成する工程を有する半導体装置の製造方法において、ウエハに反りが生じていてもウエハ割れを少なくすることのできるリング状サセプターを用いて半導体ウエハに金属膜を成膜する半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁

The discharge plasma processing method and the apparatus thereof are characterized, by setting a solid dielectric on at least one opposite surface of a pair of opposed electrodes under a pressure near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and exposing a circuit board to the plasma.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマを回路基板に接触させることを特徴とする回路基板の放電プラズマ処理方法及び装置。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable high sensitivity solid state imaging device by planarizing the surface of a charge transfer device employing a charge transfer electrode of single layer structure while holding flexibility in the process without lowering the yield even for a large and shrunk device having multiple pixels, and enhancing the processing accuracy at a photodiode part.例文帳に追加

単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁