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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9598件
In this removal method for removing a silicon oxide film formed on a surface of a processing object W in a processing vessel 4 capable of being vacuumed, a removal process of removing the silicon oxide film by using HF gas and NH_3 gas and setting a set range of processing temperature to 150-200°C is executed.例文帳に追加
真空引き可能になされた処理容器4内にて、被処理体Wの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、HFガスとNH_3 ガスとを用いると共に、処理温度の設定範囲として150〜200℃の範囲内に設定することによりシリコン酸化膜を除去する除去工程を行うようにした。 - 特許庁
To provide a method for producing a ceramic disc capacitor in which production process is simplified furthermore while suppressing the production cost by coating the surface of a ceramic body evenly with silver paste utilizing a roller in order to form an electrode and such characteristics as very large capacitance and high accuracy and reliability are attained.例文帳に追加
ローラを利用して、セラミック体の表面に万遍なく銀ペーストを塗布して電極を形成させることにより、製造工程がより簡単になると共に、製造コストもおさえることができ、更に、容量が非常に大きく、精度や信頼性が高いなどの特性を有する円板型セラミックコンデンサの電極製造方法を提供する。 - 特許庁
In the process for manufacturing a flexographic printing plate from the photosensitive element, the photopolymerizable layer is imagewise exposed to actinic radiation to form polymerized portions and unpolymerized portions in the layer and processing for removing the unpolymerized portions is carried out to form a relief surface suitable for printing.例文帳に追加
一方、その感光性エレメントからフレキソ印刷版を作製する方法としては、光重合性層を化学線にイメージに従って露光してその層中に重合した部分と重合していない部分を形成し、重合していない部分を除去する処理をし、印刷に適したレリーフ表面を形成することを含む方法を提供する。 - 特許庁
To provide an evaluation method of a semiconductor substrate capable of evaluating even a thin semiconductor substrate and a substrate which is not subjected to surface treatment, and capable of evaluating a large number of semiconductor substrates for solar cells in a short time which can be used for in-line inspection during a manufacturing process of the solar cells or the like.例文帳に追加
厚さが薄い半導体基板や表面処理を施していない基板についても評価を行うことができ、大量の太陽電池用半導体基板を短時間で評価することが可能であって、しかも太陽電池等の製造工程におけるインライン検査として利用可能な、半導体基板の評価方法を提供する。 - 特許庁
The toothbrush has bristles 2 bunched in sets 1 each with a melted, swelling base implanted in a head implantation surface via a thermal fusion or in-mold process.例文帳に追加
複数本の刷毛を束ねた毛束の基端部を溶融して肥大を形成し、該肥大部をヘッド部植毛面に熱融着法またはインモールド法によって植毛した歯ブラシにおいて、前記植毛された毛束のうち、少なくとも一部の毛束1について、毛束1を構成する刷毛2の本数が2本以上、かつ、20本以内であって、下記の数式(1)を満足する本数Yに設定する。 - 特許庁
The method of thermally treating a silicon wafer, wherein the method is of thermally treating silicon wafer of low oxygen concentration obtained from silicon of single crystal manufactured by CZ process, high temperature oxidation thermal treatment is performed to form a region of high oxygen concentration inside the surface of the wafer, and oxygen deposit aging treatment is then performed.例文帳に追加
CZ法により製造されたシリコン単結晶から得られた低酸素濃度シリコンウェーハを用いて熱処理する方法であって、前記ウェーハの表面内部に高酸素濃度領域を形成する高温酸化熱処理を行い、その後、酸素析出物形成熱処理を施すことを特徴とするシリコンウェーハの熱処理方法である。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a process of forming a metal electrode film on one-side principal surface of a thin wafer having a thickness of 200 μm or less, and forming a metal film on a semiconductor wafer by using a ring-like susceptor capable of reducing wafer cracks even when warpage occurs in the wafer.例文帳に追加
200μm以下の薄いウエハの一方の主面に金属電極膜を形成する工程を有する半導体装置の製造方法において、ウエハに反りが生じていてもウエハ割れを少なくすることのできるリング状サセプターを用いて半導体ウエハに金属膜を成膜する半導体装置の製造方法を提供すること - 特許庁
The discharge plasma processing method and the apparatus thereof are characterized, by setting a solid dielectric on at least one opposite surface of a pair of opposed electrodes under a pressure near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and exposing a circuit board to the plasma.例文帳に追加
大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマを回路基板に接触させることを特徴とする回路基板の放電プラズマ処理方法及び装置。 - 特許庁
To provide a solar cell of high photoelectric conversion efficiency at low cost without deteriorating a back passivation effect and a back electric field effect in a process of forming a backside structure when the solar cell is manufactured using a sheet-like silicon substrate whose either surface is at least rugged and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
少なくとも一方の面が表面に凹凸を有する凹凸面であるシート状シリコン基板を用いた太陽電池を作製する際に、裏面構造の形成過程において裏面パッシベーション効果と裏面電界効果を損なうことがなく、低コストで光電変換効率の高い太陽電池およびその製造方法を提供する - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加
液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a highly reliable high sensitivity solid state imaging device by planarizing the surface of a charge transfer device employing a charge transfer electrode of single layer structure while holding flexibility in the process without lowering the yield even for a large and shrunk device having multiple pixels, and enhancing the processing accuracy at a photodiode part.例文帳に追加
単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁
A process for coating an article includes: a step 10 of applying a bond coat layer onto at least one surface of an article; a step 12 of applying a thermal barrier coating composition on the bond coat layer; a step 14 of heat-treating the thermal barrier coating composition; and a step 16 of forming a thermal barrier coating layer.例文帳に追加
本発明による物品のコーティング方法が、概ね、物品の少なくとも一つの外表面上にボンディングコート層を適用し(ステップ10)、このボンディングコート層の上にサーマルバリアコーティング組成物の層を適用し(ステップ12)、このサーマルバリアコーティング組成物の層を熱処理し(ステップ14)、サーマルバリアコーティングを形成させる(ステップ16)ステップを備えてなる。 - 特許庁
The toe sheet for the shoes comprises a nonwoven fabric sheet having dip treatment with a mixed emulsion including a plastic resin and a nonionic surface active agent to enhance durability and the hydrophilic nature and coated with an acrylic ester copolymer resin in dots on approximately all of one side face of the sheet to retain an antibacterial agent or an antiodor agent and as an antislip process.例文帳に追加
プラスチック樹脂とノニオン系界面活性剤を含む混合エマルジョンで浸漬処理を施し堅牢性ならびに親水性を高めた不織布製シートに、抗菌・防臭剤を保持させるとともに、滑り止め加工として前記不織布製シートの片面の略全面にわたりアクリル酸エステル共重合樹脂をドット状に塗布した靴のつま先シート。 - 特許庁
To provide a column spacer which has excellent rubbing resistance without being shaved on its surface by rubbing treatment in a liquid crystal display element production process and can produce a liquid crystal display element causing no gravity failure or low-temperature foaming, a curable resin composition for a column spacer forming the column spacer, and a liquid crystal display element.例文帳に追加
液晶表示素子製造過程におけるラビング処理によって表面が削られることがなく耐ラビング性に優れるとともに、重力不良や低温発泡の問題が生じることのない液晶表示素子を製造することができるカラムスペーサ、該カラムスペーサを形成できるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、及び、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
In the melt-extruding and cooling process, a corona discharge 7 under a streamer corona state is performed between an electrode 6 loaded with a direct current high voltage and a polyamide mixed resin laminated sheet 2 under a molten condition to provide an enough electric charge to tightly stick the polyamide mixed resin laminated sheet under the molten condition on the moving cooling body surface.例文帳に追加
そして、溶融押出冷却工程においては、直流高圧を印可した電極6と溶融状態のポリアミド系混合樹脂積層シート2との間に、ストリーマコロナ状態のコロナ放電7が行われ、溶融状態のポリアミド系混合樹脂積層シートに移動冷却体面と密着させるのに十分な電荷が付与される。 - 特許庁
To provide a substrate transfer method of a vacuum processing apparatus performing heating treatment and surface treatment such as deposition process to substrates while manufacturing various kinds of electronic apparatuses, which constantly and securely holds each substrate in a tray even when a substrate transfer mechanism transfers the substrate to the tray with low accuracy.例文帳に追加
各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。 - 特許庁
This method for producing the Napoli style pizza crust contains a process for baking a pizza dough having a thickly formed edge portion B in a state placing a water-containing liquid material 4 on the central portion A of the pizza dough on such a thin and flexible aluminum foil 2 as flexibly deformed in response to the weight of the pizza dough to be tightly adhered to the floor surface of an oven.例文帳に追加
縁部Bを厚く成形したピザ生地を、その中央部A上面に水分を含んだ液状物4を存在せしめた状態で、ピザ生地の重みに従って柔軟に変形しオーブンの床面と密着するほど薄くて可撓性が大であるアルミホイル2上で焼成する工程を含むナポリスタイル・ピザクラストの製造方法。 - 特許庁
To provide an inexpensive method for forming a wiring protective film, where when an organic or inorganic viscous material is applied on the surface of a substrate, the organic or inorganic viscous material can be applied efficiently and continuously, and a thick coating film in a stable shape with reduced bleeding and bubbles can be obtained by a simple process and non- contact application.例文帳に追加
基材の表面に形成された突起状電極端子間に、有機又は無機の粘性材料を塗布する際に、有機又は無機の粘性材料の塗布効率が高く、連続塗布性に優れ、簡略なプロセスかつ非接触の塗布でブリードや気泡の少ない形状の安定した厚膜が得られる低コストな配線保護膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an adhesive film for the surface protection of a semiconductor wafer in which the semiconductor wafer can be protected against damage at the time of carriage while correcting warp even if the semiconductor wafer is made as thin as 100 μm or less and exposed to a high temperature in a die bonding process, and to provide a method for protecting the semiconductor wafer using the adhesive film.例文帳に追加
半導体ウエハが厚み100μm以下程度に薄層化され、且つ、ダイボンディング工程において高温に晒された場合であっても、半導体ウエハの反りを矯正し、ウエハ搬送時の破損を防止し得る半導体ウエハの表面保護用粘着フィルム、及び該粘着フィルムを用いる半導体ウエハの保護方法を提供する。 - 特許庁
To enhance an appearance property of a product by reducing air trapping on its surface in a molding process of a foamed resin molded product in which air is injected after the mold clamping of a movable mold and a fixed mold, further the injection filling of a foaming resin material is carried out by opening the movable mold and starting a foaming reaction to mold the product in a required shape.例文帳に追加
可動側金型と固定側金型とを型締めした後、エアを注入し、更に、発泡樹脂材料を射出充填した後、可動側金型を型開きさせて発泡反応を開始して所要形状に成形してなる発泡樹脂成形品の成形方法であって、製品表面のエア残りを低減し、外観性能を高める。 - 特許庁
To provide an wound coating material for achieving early and efficient treatment by promoting the growth of tissue cells and new growth of blood vessels with the wounded surface being kept in an appropriate moist condition during the whole process of treatment without giving pains to a patient nor damaging the reproduced skin, etc., when the coating material is changed.例文帳に追加
創傷治癒の全体の過程において、創傷面を適度な湿潤環境に保持した状態で組織細胞の増殖及び血管新生を促進することにより、早期かつ効率的な治療促進を実現すると同時に、創傷被覆材の交換時等に痛みや、再生された皮膚等を損傷するおそれのない創傷被覆材を提供すること。 - 特許庁
To provide a lubricant composition for metal working which is excellent in workability upon metal working of a metal or alloy plate or foil, especially a plate or foil of a nonferrous metal such as aluminum and suppresses the generation of abrasion powders during a process such as rolling, to thereby yield a product excellent in surface quality.例文帳に追加
金属又はその合金の板あるいは箔、特に、アルミニウム等の非鉄金属の板あるいは箔を金属加工する際、金属加工性能に優れるとともに、圧延等の加工により発生する摩耗粉の発生を抑制して表面品質に優れた製品を得ることができる金属加工用潤滑油組成物を提供すること。 - 特許庁
The substrate 20 coated with the amorphous carbon film is produced by forming the amorphous carbon film 22 on the surface of the substrate 21 under a reduced pressure through a discharge plasma process, wherein an active layer 23 containing either or both of oxygen and nitrogen is formed in an interface between the substrate 21 and the amorphous carbon film 22.例文帳に追加
本発明にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材20は、基材21の表面に減圧下で放電プラズマによりアモルファスカーボン膜22を成膜してなるアモルファスカーボン膜被覆基材であって、前記基材21とアモルファスカーボン膜22との界面に、酸素、窒素のいずれか一方又は両方を有する活性処理層である活性処理層23を含むものである。 - 特許庁
To provide a developing roller which suppresses environmental variation of its resistance and ensures stable image density over the first half and the latter half of duration in each environment, by hydrophobing the outermost surface layer of a developing roller, and also to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus using such a developing roller.例文帳に追加
本発明の目的とするところは、現像ローラ最表面層の疎水化を図ることにより、現像ローラの抵抗環境変動を抑え、各環境での耐久前後半にわたり、画像濃度が安定した現像ローラを提供すること、及びこのような現像ローラを用いたプロセスカートリッジ及び、電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁
The title ink comprises a coloring material containing at least self-dispersible carbon black having at least one hydrophilic group bonded directly or via another atomic group to the surface of the carbon black and an aqueous medium and has a Ka value measured by the Bristow process of less than 1.5 and the total amount of multivalent cations having a functionality of 2 or higher of 0.05-1 mole/l.例文帳に追加
カーボンブラックの表面に、少なくとも1つの親水性基が直接若しくは他の原子団を介して結合している自己分散型カーボンブラックを少なくとも含む色材、及び水性媒体を含み、且つブリストウ法によって求められるKa値が1.5未満であり、且つ2価以上の多価のカチオンイオンの総量が0.05〜1モル/lであるインク。 - 特許庁
The method for manufacturing the cell layer constituting the display cells of the electronic display surface having a number of the display cells capable of electrically changing the display includes a process (a) of irradiating a film material 10 to constitute the cell layer with laser light L for the irradiation time of 1 to 10 μsec irradiation intensity of 0.1 to 10 mJ/shot to allow the cell spaces 12 to eliminate and form.例文帳に追加
電気的に表示変更できる多数の表示セルを有する電子表示面の、表示セルを構成するセル層を製造する方法であって、セル層となる膜材料10に、レーザ光Lを0.1〜10mJ/ショットの照射強度、1〜10μsecの照射時間で照射してセル空間12を消失形成する工程(a)を含む。 - 特許庁
In the case that the ground electrode 30 has a part (a projecting 35) projecting toward the inside rather than the second imaginary conic surface, if the part has the volume of less than 1.5mm^3, it has a small volume contacting with the ground electrode 30 in the growth process of plasmas discharged from the cavity 30, so that quenching action is suppressed and deterioration of ignitability is prevented.例文帳に追加
接地電極30がこの第2仮想円錐面よりも内側へ張り出す部位(張出部35)を有する場合、その体積を1.5mm^3未満とすれば、キャビティ60から噴出されるプラズマの成長過程において接地電極30と接触する体積が少なく、消炎作用を抑制し、着火性の低下を防ぐことができる。 - 特許庁
To provide a method for producing a photocatalyst-carrying optical fiber, by which the optical fiber can be produced while carrying a photocatalyst on the surface of the optical fiber, and the production cost is reduced, in which the process is simple, and which enables mass production; and to provide the photocatalyst-carrying optical fiber, a method for decomposing contaminants, and an apparatus for producing the photocatalyst-carrying optical fiber.例文帳に追加
光ファイバを製造すると同時に、その表面に光触媒を担持させることができ、しかも、工程が煩雑にならず、製造コストも低減され、さらに、大量生産を可能にする光触媒担持光ファイバの製造方法と光触媒担持光ファイバ及び汚染物質分解方法並びに光触媒担持光ファイバの製造装置を提供する。 - 特許庁
To form a coating film having excellent surface smoothness by controlling the drying rate of the coating film obtained by applying a coating liquid to suppress the mottling ununiformity in a drying process for drying the coating film formed by applying the coating liquid having 0.5 to 100 Pa.s viscosity at 0.1 sec-1 shear rate at 25°C to have ≥50 μm wet film thickness.例文帳に追加
25℃で剪断速度が0.1sec^-1において粘度が0.5mPa・s〜100Pa・sの塗布液をウェット膜厚50μm以上で塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程にて、塗布液を塗布して得た塗膜の乾燥速度を制御することによりモトルムラを抑制し、優れた平滑性を有する塗膜表面を形成すること。 - 特許庁
A gate insulating film 4 is formed so as to extend from the interior of the trench 8 to the surface of the p-base 2 of the semiconductor substrate by a thermal process, and also impurity ions of high concentration implanted to the front layer of the p-base 2 and the bottom part of the trench 8 are activated to form a source region 3 and a well region 10 at the same time.例文帳に追加
そして、熱処理によってトレンチ8内部から半導体基板のpベース2表面にまで延在するようにゲート絶縁膜4を形成するとともに、pベース2の表層およびトレンチ8底部に注入された高濃度の不純物イオンを活性化させてソース領域3およびウェル領域10を同時に形成するものである。 - 特許庁
To provide a filter for a plasma display which is disposed on the front face of a plasma display having the main body made of glass, prevents splashing of the glass even when the plasma display is broken by shocks in the manufacturing process of the display or during transportation or after installing the display, namely, has an excellent effect to prevent splashing, and can be easily attached to the surface of the plasma display.例文帳に追加
プラズマディスプレイの前面に設け、本体がガラスで作られているプラズマディスプレイの製造工程途中、搬送中や設置後に衝撃によりプラズマディスプレイが破壊されても、ガラスが飛散することがない、すなわち飛散防止効果に優れ、またプラズマディスプレイの表面に簡便に取り付け可能なプラズマディスプレイ用フィルターを提供する。 - 特許庁
The surface of the multilayer printed wiring board is made flat when resin for forming an interlayer resin insulation layer 60 is applied on the layer of a plane layer 53 in a manufacturing process because the resin is escaped into the recess 50a of a via hole 50A of the plane layer 53 and the thickness of the interlayer insulation layer 60 can be made uniform.例文帳に追加
また、製造工程においてプレーン層53の上層に層間樹脂絶縁層60を形成する樹脂を塗布する際に、プレーン層53のバイアホール50Aの窪み50a内へ樹脂を逃がすこができるため、層間樹脂絶縁層60の厚みを均一にでき、多層プリント配線板の表面を平坦に形成することが可能となる。 - 特許庁
The manufacturing method of the brake pad 10 equipped with a plate shaped friction member 12 pushed to a disk rotor rotated with a wheel and restraining rotation of the wheel is provided with a process for coating a coating 30 shielding oxygen on a sliding surface 12c of the friction member 12 including thermosetting resin before applying heat treatment in the atmosphere including oxygen.例文帳に追加
車輪と共に回転するディスクロータに押しつけられて車輪の回転を抑制する板状の摩擦部材12を備えるブレーキパッド10の製造方法であって、酸素を含む雰囲気中で熱処理する前に熱硬化性樹脂を含む摩擦部材12の摺動面12cに酸素を遮蔽する塗料30を塗布する工程を有する。 - 特許庁
When the display panel 3 is manufacture, the light-absorptive solar battery panel 20 is stuck and then the display panel 3 has a light-absorptive surface on the back of the light emission layer 12 without adding a process of manufacturing a light-absorptive layer, thereby preventing the yield from decreasing and the reliability from decreasing owing to an increase of manufacturing processes.例文帳に追加
表示パネル3を製造する際に、光吸収性の太陽電池パネル20を貼り合わせることにより、光吸収性の層を製造するプロセスを加えなくても発光層12の背面が光吸収性となった表示パネル3を製造することができ、製造プロセスの増加による歩留まりの低下や、信頼性の低下を未然に防止できる。 - 特許庁
To provide a molding method for a composite molding material molding effectively a molding with smooth exhaustion, and preventing as much as possible a pinhole from being formed in the molding, and a molding method for the composite molding material eliminating a decoration process after molded, by imparting a decorative pattern on a surface of the molding at the same time of molding.例文帳に追加
排気がスムーズで成形品を効果よく成形し、且つ、成形品にピンホールがなるべく形成されない、複合材成形品の成形方法の提供、並びに、成形と同時に成形品の表面に装飾模様をつけることで、成形後の装飾工程を省くことができる、複合材成形品の成形方法を提供する。 - 特許庁
The process for manufacturing the expanded molding includes the expansion molding step to obtain a primary molding by in-molding expanding resin particles filling the molding space in the molding mold, and the ruggedness formation step to form ruggedness by re-expanding at least the surface of the primary molding by heating the primary molding taken out of the molding space.例文帳に追加
成形金型内の成形空間に充填された複数の発泡樹脂粒子を型内成形して一次成形体を形成する発泡成形工程と、成形空間から取りだされた一次成形体を加温することで一次成形体の少なくとも表面を再膨張させて凹凸を形成する凹凸形成工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
The embossed decorative sheet which acts as a skin material in an injection molding process, wherein the embossed decorative sheet does not whiten in bending test, is 70% or more in embossing residual factor after injection molding as measured by 60° reflectance and is 20% or less in the rate of gate damage area of the embossing decorative surface.例文帳に追加
射出成形による成形法において表皮材として使用するエンボス加飾シートであって、折り曲げ試験において白化せず、60°反射率を用いて測定された射出成形後のエンボス残留率が70%以上、及び、エンボス加飾面のゲートダメージ面積率が20%以下であることを特徴とするエンボス加飾シート。 - 特許庁
The image forming element 10 includes pixel stripes 14 linearly arranged with the pixels 12 forming green (G) color filters (G filters) where a fixed size of an area is formed two times before and after a process forming the G filters on the surface of each pixel 12 of the pixel stripes 14 and other color (red (R) and blue (B)) filters FR and FB in pixel stripes 16.例文帳に追加
緑(G)のカラーフィルター(Gフィルター)が形成される画素12が直線状に配置された画素ストライプ14を備える撮像素子10において、画素ストライプ14の各画素12の表面にGフィルターを、他の色(赤(R)、青(B))のカラーフィルターFR,FBを画素ストライプ16に形成する工程の前後2回に分けて、所定の面積ずつ形成する。 - 特許庁
This coloring method includes: performing a heat coloring process for generating a polymerizable colored material with the high light resistance in lumber 2 by heating the lumber 2 by high pressure water vapor; after that, manufacturing a sliced veneer 2s by slicing the lumber 2; and applying a coating material P, obtained by diluting a coloring agent composed mainly of a white pigment with a diluent, to a surface of the sliced veneer 2s.例文帳に追加
木材2に高圧水蒸気による加熱を与えて、木材2の内部に耐光性の高い重合性着色物を生成させる熱着色処理を行い、その後、木材2をスライスしてスライス単板2sを作製し、スライス単板2sの表面に、白色顔料を主成分とした着色剤を希釈剤で希釈した塗料Pを塗布する。 - 特許庁
To provide a self-adhesive tape which is so excellent in physical properties such as weather resistance and transparency as to withstand long-term use, is protected from contamination until use, can be stuck to adherend surfaces of various shapes such as a curved surface because of its elasticity, and can be produced in a short process at low cost, and to provide a method for producing and using the self-adhesive tape.例文帳に追加
長期間の使用にも耐えるような耐侯性や透明性などの物性に優れ、使用時までは汚染から保護され、また、伸縮性があって、被着体表面が曲面などの多種多様な形状に対しても貼着でき、さらに、短い工程で低コストで製造できる粘着テープ、並びにその製造及び使用方法を提供する。 - 特許庁
To provide a neutral detergent composition which shows excellent detergency to the removal of stains in an extremely narrow gap required for a silicon wafer manufacturing process or the like, reduces the amount of a metal residue on the surface of an object to be cleaned after cleaning, has less deterioration of a cleaning liquid by bringing in the object to be cleaned, and also has less effects on human bodies and environment.例文帳に追加
シリコンウェハ製造工程等で要求される、非常に狭い隙間の汚れ除去に対して優れた洗浄性を示し、洗浄後の洗浄対象物表面の金属残留物を低減し、また、被洗浄物の持込による洗浄液の劣化が少なく、人体や環境への影響が少ない中性洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a process of producing steel member which hardly causes film thickness irregularity of an oxidation-preventive film depending on a portion of a steel member and, as a result, allows a nitrogen-containing compound layer obtained after high-frequency heating to evenly remain, as a method of preventing oxidation of a compound layer due to high-frequency hardening, the compound layer being formed on the surface of a steel material by nitriding.例文帳に追加
鉄鋼材料の表面に窒化処理によって形成された化合物層の高周波焼入れによる酸化を防止する方法であって、部位による酸化防止皮膜の膜厚ムラが生じにくく、その結果、高周波加熱後に得られる窒素含有化合物層が均一に残存することを可能とした製造方法の提供。 - 特許庁
A preform body 10 of the iron-base perform 1 for forming the metal matrix composite cast-in by the aluminum-base alloy base material is provided with first-fourth through holes 21A to 21D bored to communicate an inner circumferential face 11 and an outer circumferential face 12 and a surface area enlarging process 22c is applied for inner surfaces of the first-fourth through holes 21A to 21D.例文帳に追加
アルミニウム系合金母材で鋳包みされる金属基複合材形成用鉄系プリフォーム1のプリフォーム本体10に、内周面11と外周面12とを連通する第1〜第4貫通孔21A〜21Dを穿設すると共に、第1〜第4貫通孔21A〜21Dの内面に表面積拡大処理22cが施される。 - 特許庁
In the mask jig mounting process, the mask jig 18 is inserted to the inner side of the base body 1 while elastically deforming the mask jig 18 in the direction of reducing the curvature radius of the mask jig 18, and by elastic restoration force of the mask jig 18, a mask outer surface 18b is tightly attached to the mask part 4 and the mask jig 18 is fixed to the mask part 4.例文帳に追加
マスク治具装着工程では、マスク外面18bの曲率半径が縮小する方向にマスク治具18を弾性変形させつつ、マスク治具18を基体1の内側に挿入し、マスク治具18の弾性復元力により、マスク外面18bをマスク部4に密着させると共にマスク治具18をマスク部4に固定する。 - 特許庁
Detecting means 2 that detects the surface Ls of a molten metal layer L in a process of immersing a probe distal end 1a into a molten metal container is provided.例文帳に追加
プローブ先端部1aに溶融金属容器内に浸漬させてゆく過程で溶融金属層Lの表面Lsを検知する検知手段2を設け、当該プローブ1の浸漬過程で検知手段2から出力された溶融金属層表面Lsの検知信号に基づき、当該浸漬工程におけるその後の溶融金属層L内への該プローブ1の浸漬深さを制御する。 - 特許庁
The manufacturing method of the cathode active material 153 having a lithium-metal compound oxide as a main component is provided with a surface treatment process (step S15) in which an untreated cathode active material 154 which is formed by calcining a material of the cathode active material 153 is made to contact with a treatment aqueous solution which is adjusted to pH 10-13.例文帳に追加
本発明の正極活物質の製造方法は、リチウム−金属複合酸化物を主成分とする正極活物質153の製造方法であって、正極活物質153の原料を焼成してなる未処理正極活物質154を、pH10〜13に調整した処理水溶液に接触させる表面処理工程(ステップS15)を備えている。 - 特許庁
Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加
次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、CMP遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により2次的に除去する。 - 特許庁
The noble metal carrying process P2 comprises an adsorbing step P21 for adsorbing and carrying the noble metal particle on the surface of the raw photocatalyst material by immersing the photocatalyst material in a noble metal compound solution and a drying and heating step P22 for drying the photocatalyst material adsorbing and bearing the noble metal and then heating the photocatalyst material.例文帳に追加
貴金属担持工程P2は、原光触媒材料を貴金属化合物溶液に浸漬して貴金属粒子を光触媒材料表面に吸着、担持する吸着工程P21と、工程P21において貴金属が吸着、担持された光触媒材料を乾燥し次いで熱処理する乾燥熱処理工程P22とから構成される。 - 特許庁
To provide a method of producing a magnetic recording medium having excellent smoothness of the surface, which reduces the risk of contamination, by significantly simplifying the manufacturing process compared with conventional magnetic layer working type or ion injection type production methods, in the method of producing the magnetic recording medium by depositing a magnetic layer on a base substrate and subsequently forming a magnetic pattern.例文帳に追加
本基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、従来の磁性層加工型やイオン注入型と比較して格段に製造工程を簡略化し、汚染リスクがすくなく、表面の平滑性に優れた磁気記録媒体が製造可能な方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加
化合物半導体素子が形成されたSiCウエハ1の表面側と、このSiCウエハを保持する支持基板2とを、軟化温度が200℃を超える接着材3により接着した後、上記SiCウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール6を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁
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