「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(185ページ目) - Weblio英語例文検索

This cemented carbide cutting tool insert comprises Co of 5 to 7 by Wt% and WC in the remaining portion for turning processing the titanium alloy, and is characterized that the surface is covered with the Co layer of 0.5 to 8 μm at least partially by carrying out heat treatment in the atmosphere of Ar and Co after a sintering process and grinding in order to finish to final forming dimensions.例文帳に追加

チタン合金施削加工用の５〜７Ｗｔ％のＣｏと残部ＷＣとからなる超硬合金切削工具インケートで、焼結する工程と、最終の形状寸法にするための研削の後にＡｒとＣｏの雰囲気中で熱処理を施し、表面を少なくとも部分的に０．５〜８μｍのＣｏ層で覆うことを特徴とする。 - 特許庁

In this manufacturing method of an electrode plate including the process for rolling up the semifinished product of the long electrode plate with an active material layer formed at least on one surface of a current collector, the semifinished product of the electrode plate is rolled up with a winding tension of 235-304N by using the rolling core having a core diameter of 10.16-20.32 cm.例文帳に追加

活物質層が集電体の少なくとも一面に設けられている長尺の電極板中間品を、巻芯を用いて巻き取る工程を含む電極板の製造方法において、前記電極板中間品を、１０．１６〜２０．３２ｃｍの芯径を有する前記巻芯を用いて、２３５〜３０４Ｎの巻取り張力で巻き取る。 - 特許庁

The sterilizing method of the thin-walled plastic bottle comprises a step of heat-sterilizing at least the inner surface of the thin-walled plastic bottle and a process of cooling the heat-sterilized thin-walled plastic bottle wherein the thin-walled plastic bottle is heat-sterilized and/or cooled while keeping the inside of the thin-walled plastic bottle at positive pressure or slightly positive pressure.例文帳に追加

薄肉プラスチックボトルの少なくとも内面を加熱殺菌する工程および加熱殺菌された薄肉プラスチックボトルを冷却する工程とを含む薄肉プラスチックボトルの殺菌方法であって、前記薄肉プラスチックボトルの内部を陽圧または微陽圧に維持しながら前記薄肉プラスチックボトルの加熱殺菌および／または冷却を行う。 - 特許庁

The high polymer molecule electrolyte fuel cell has a catalyst layer ion exchange membrane conjunct body as a main component in which after forming the catalyst layer containing a noble-metals catalyst on the surface of the macromolecule film having a functional group which is changed to an ion exchange group after passing through a hydrolysis process, the above macromolecule film is changed to the ion exchange membrane according to the hydrolysis.例文帳に追加

加水分解工程を経たのちイオン交換基に変わる官能基を有する高分子膜の表面に、貴金属触媒を含有する触媒層を形成させた後、加水分解により前記高分子膜をイオン交換膜とする触媒層イオン交換膜接合体を構成要素とする高分子電解質型燃料電池。 - 特許庁

In the process of baking after of a coating solution containing an organometallic compound having metallic bond groups is applied on the surface of a steel sheet, oxidation treatment is performed in an atmosphere in which the temperature of the steel sheet is 200 to 800°C, and the partial pressure of oxygen satisfies P02≥2×10-5 atm.例文帳に追加

金属結合基を有する有機金属化合物を含有する塗液を鋼板上に塗布し焼付けを行う焼付け処理中に、鋼板温度が２００℃以上８００℃以下、酸素分圧Ｐ_O2≧２×１０^-5ａｔｍの雰囲気とする酸化処理を行うことを特徴とする歪取焼鈍後の磁気特性および被膜密着性に優れた電磁鋼板の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method is provided with a heat treatment process for forming an aluminum oxide layer by heating aluminum nitride-based sintered compact at 1,000-1,500°C under a condition adjusted to an atmosphere of 0.0001-0.01 MPa oxygen partial pressure and ≥0.001 MPa water vapor partial pressure to oxidize the surface layer.例文帳に追加

酸素分圧が０．０００１〜０．０１ＭＰａ、水蒸気分圧が０．００１ＭＰａ以上の雰囲気に調整された条件下において、窒化アルミニウム系焼結体を１０００〜１５００℃の温度範囲で熱処理することにより、その表層を酸化させて酸化アルミニウム層を形成させるための熱処理工程を備える製造方法を用いる。 - 特許庁

A diffusion layer 5 and an anode layer 4 are formed in partial regions of the whole surface of a cathode layer 2, and thermal treatment during forming the anode layer 4 is incompletely finished so that defects caused by an ion implantation process during forming the anode layer 4 remain, while the impurity concentration of the diffusion layer 5 is set higher than that of the cathode layer 2.例文帳に追加

カソード層２の全表面部のうちの一部の領域に形成される拡散層５及びアノード層４に、それぞれ、アノード層４形成時のイオン注入処理により発生する欠陥を、アノード層４形成時の熱処理を不完全にして残留させると共に、拡散層２の不純物濃度をカソード層２よりも高くする。 - 特許庁

The repair method of the steel revetment structure constituting a revetment comprises a step of installing anchor members at a contact surface of the steel structure with water and a step of installing a form to carry out underwater driving of a hydrated hardened body containing slag produced in a steel manufacturing process as a main material, in the form.例文帳に追加

護岸を構成する鋼製護岸構造物を補修する方法であって、鋼製構造物の水との接触面に定着部材を設置する工程と、型枠を設置して該型枠に鉄鋼製造プロセスで発生したスラグを主原料とする水和硬化体を水中打設する工程と、を備えたことを特徴する鋼製護岸構造物の修復方法。 - 特許庁

To provide an aqueous pressure-sensitive adhesive composition in the form of an adhesive microsphere, capable of manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet excellent in adhesion to any adherend having smooth or rough surface, especially a re-releasable pressure-sensitive adhesive sheet which can be re-released from the adherend and can be repeatedly attached and released, through a transfer process.例文帳に追加

表面が平滑面又は粗面の何れの被着体に対しても優秀な接着性を有する感圧接着シート、特に被着体からの再剥離が可能で、且つ貼付、剥離の繰り返しが可能な再剥離型感圧接着シートを、転写法によっても作製することができる粘着性微小球型の水性感圧接着剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer including a process of performing vapor-phase growth of a silicon single-crystal thin film on the surface of a silicon single-crystal substrate, wherein variation in resistivity in a depth direction between the silicon single-crystal substrate and silicon single-crystal thin film is steep and the transition width of the resistivity is small.例文帳に追加

シリコン単結晶基板の表面上にシリコン単結晶薄膜を気相成長させる工程を含むシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法において、シリコン単結晶基板とシリコン単結晶薄膜間の深さ方向の抵抗率変化が急峻で、抵抗率の遷移幅が小さいシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device in which diamond is employed, and nonetheless the breakage of a substrate due to the occurrence of static electricity is prevented during the manufacturing process of the device resulting in the increased manufacturing yield of the device and which can maintain high performance for a long time by preventing electro static charging when actually used.例文帳に追加

ダイヤモンドを利用した弾性表面波デバイスであっても、デバイス製造工程では、静電気が発生することによる基板の破損を防ぐことができて、デバイス製造歩留りを向上させることが可能であり、また、実使用時には、帯電を防止して高性能を長時間維持することが可能な弾性表面波デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a chromium-free colored or black rust prevention treatment liquid having both of high rust preventability and satisfactory appearance on a galvanized or galvannealed metal surface in a process according to the conventional chromate method or trivalent chromium treatment liquid method in all the main bath seeds of galvanizing, and to provide a colored or black rust prevention film treatment method.例文帳に追加

亜鉛または亜鉛合金めっきされた金属表面上に、従来のクロメート法、または３価クロム処理液法に準じた工程にて、亜鉛めっきのすべての主たる浴種において、高防錆力が得られる、良好な外観を兼ね備えたクロムフリーの有色又は黒色防錆処理液および有色又は黒色防錆皮膜処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display panel substrate including an electrode provided on a flat surface of a substrate partitioned by a rib at low manufacturing cost and high yield without needing a complicated manufacturing process, a display panel provided with the display panel substrate manufactured by the method, and a display device provided with the display panel.例文帳に追加

複雑な製造工程を要さず、低い製造コスト及び高い歩留まりで、リブで区画された基板の平面上に電極を備えた表示パネル用基板を製造する方法を提供し、更に、この製造方法で製造された表示パネル用基板を備えた表示パネル及びこの表示パネルを備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

A recycling system of the waste water for supplying suitably pH adjusted water for each tank, using the clarified water as a base, which is separated in sedimentation equipment from waste water generated in the surface treatment process, comprises supplying pH adjusted water in about 8.5-10.5 for rinsing after alkaline degreasing, and pH adjusted water in about 4-7 for rinsing after acid treatment.例文帳に追加

表面処理で発生した廃水を、沈降装置で分離処理した清澄水をPH調整し、PH調整水を各槽に対応する数値に変換して供給する廃水の再利用管理システムで、PH調整水を、アルカリ脱脂槽後の水洗用としてPH8.5〜10.5程度で供給し、酸処理槽後の水洗用としてPH4〜7程度で供給する。 - 特許庁

This process cartridge is constituted so that a regulating member 40 provided with a function for regulating gas giving effect to the sensibility of the electrophotographic photoreceptor 2 is arranged in the closed space 51 formed in the cartridge vessel 19 by the inside wall of the cartridge vessel 19, the surface of the electrophotographic photoreceptor 2, the cleaning means 4, and the developer leakage preventive member 14.例文帳に追加

カートリッジ容器１９の内壁と、電子写真感光体２の表面と、クリーニング手段４と、現像剤漏れ防止部材１４と、によってカートリッジ容器１９内に形成される閉塞された空間Ｓ１内部に、電子写真感光体２の感度に対して影響を与えるガスの調整機能を有する調整部材４０を配設する構成とする。 - 特許庁

Quartz glass formed articles formed by heating and melting a quartz glass preform with a thermal formation process are heat-treated in an oxygen-containing environment at a temperature not practically causing the deformation of the quartz glass to react oxygen molecules with Si-Si type oxygen-deficient defects on the surface of the glass so that the Si-O-Si silica glass networks are restored.例文帳に追加

加熱成形加工により石英ガラス母材を加熱溶融させて得た石英ガラス成形品を、酸素含有雰囲気下で、且つ石英ガラスが実質的に変形しない温度下で加熱処理し、ガラス表層部のＳｉ−Ｓｉ型の酸素欠乏欠陥に対し、酸素欠乏欠陥と酸素分子を反応させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉシリカガラスのネットワークに復元させる。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

To solve the problem of a gap being generated between a resin frame and a ceramic substrate, and a part of dust remaining in that gap during a cleaning process adhering to a semiconductor light-receiving element, thus causing an erroneous operation, and to prevent an adhesive from projecting to the mounting surface of the semiconductor light-receiving element at the bonding of the resin frame and the ceramic substrate.例文帳に追加

樹脂枠体とセラミック基板との間に隙間が発生し、洗浄工程でダストがその隙間に残り、ダストの一部が半導体受光素子に付着して誤動作を起こすという問題点を解消し、また樹脂枠体とセラミック基板との接合時に接着剤の半導体受光素子の搭載面へのはみ出しを防止すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting element for which the emission of light in a direction other than a light extraction direction is reduced while sufficiently securing a light emitting region, light output on a light extraction surface side is improved, and light extraction efficiency is excellent, and which can be manufactured inexpensively without a problem in terms of safety since a cost requiring process is not needed.例文帳に追加

発光領域を十分確保しつつ、光取り出し方向以外の方向への光の出射が低減され、光取り出し面側での光出力が向上し、光取り出し効率に優れるとともに、コストが掛かる工程を必要としないため、安全面で問題なく、低コストで作製することができる半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The method of aseptically filling the pouch having a spout comprises steps of sterilizing, in a filling machine, an external surface of the pouch with the spout in a sealed state whose pouch container has been radioactively sterilized in advance, unsealing the pouch and filling contents, and thereafter sealing the pouch container by using a cap which has been sterilized in a separate process.例文帳に追加

密封した状態で、予めパウチ容器を放射線滅菌処理したスパウト付きパウチを充填機内で外面殺菌処理を施し、密封を解除して内容物を充填した後、別工程で殺菌処理を施したキャップを用いて、前記パウチ容器を密封することを特徴とするスパウト付きパウチの無菌充填方法である。 - 特許庁

This method comprises the following process: a masking plate 30 with an opening 31 is placed on the surface of a baking plate 20 for food such as confectionery or bread, and then sprayed with a release oil 61 to effect adsorption of the release oil as releasant to a portion 21 exposed from the opening, and the oil film 612 of the release oil formed on the masking plate 30 is recovered.例文帳に追加

菓子、パン、食品を焼成する焼き板２０の表面に開口部３１を具えるマスク板３０をのせ、このマスク板３０上に離型油６１を吹付けて焼き板の表面上の開口部から露出する部分２１に離型剤を吸着させる一方、マスク板３０上に形成される離型油の油膜６１２を回収する。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁

In the method for producing the plate glass by a floating process where tension is applied to a molten glass ribbon on the molten tin bath using the top roll in the approximately orthogonal direction to its flow, it is characterized by that the top roll is composed of a base material consisting of a metallic material and the thin film of diamond-like carbon exists on the surface of the base material of the top roll.例文帳に追加

トップロールを使用して溶融錫浴上の溶融ガラスのリボンにその流れ方向にほぼ直交する方向に張力を印加する、フロート法による板ガラスの製造方法において、前記トップロールが、金属材料からなる母材で構成され、該トップロールの母材表面にダイアモンドライクカーボンの薄膜を有することを特徴とする。 - 特許庁

The forming method comprises a process of oxidizing the semiconductor surface of a substrate (9) to be processed on which a semiconductor element is formed with an oxygen atom active species produced by a plane parallel type plasma generation apparatus excited by a high frequency power supply (6) of a predetermined frequency, and hereby forming a first insulating film (18) on the substrate (9) to be processed.例文帳に追加

半導体素子が形成される被処理基板（９）の半導体表面を、所定の周波数の高周波電源（６）によって励振される平行平板型のプラズマ生成装置によって発生させた酸素原子活性種によって酸化することにより、被処理基板（９）に第１の絶縁膜（１８）を形成する工程を有する。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第２工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

To provide a heating head of a bending machine for bending a metal plate by high-frequency induction heating, the heating head including a high-frequency heating coil and a matching transformer arranged integrally close to each other, being prevented from rocking during transfer and positioning processes, and being rocked after the positioning process so that the surface of the high-frequency heating coil follows the shape of the bent metal plate.例文帳に追加

高周波誘導加熱により金属板を曲げる曲げ加工装置の加熱ヘッドであって、高周波加熱コイルと整合トランスとが近接させて一体的に配置され、移動及び位置決めの過程では揺動が抑えられ、位置決め後に揺して金属板の曲がりに高周波加熱コイルの表面を倣わせることができる加熱ヘッドを提供する。 - 特許庁

While a molten resin is packed in a cavity and a mold is opened, a process in which a pressurized fluid is injected from injection channels 24d and 24f opened toward the back of a molding to be charged between the back of the molding and a cavity surface 24a and discharged from a discharge channel 24h opened to the back of the molding is implemented.例文帳に追加

キャビティに溶融樹脂を充填してから型を開くまでの間に、成形品裏面に向けて開口する注入流路２４ｄ．２４ｆから加圧流体を注入し、成形品裏面とキャビティ面２４ａの間に浸入した加圧流体を成形品裏面に開口する排出流路２４ｈから排出する工程を実行する。 - 特許庁

At this time, a processing blade 10 having the shape corresponding to the opening line is pressed to an opened mold 3 during an after-melt process for melting the raw material powder 2a bonded to the mold 3 after the mold 3 clamped to a powder box 2 to be closed is rotated in a heated state to form the breaking groove 9a in the back surface of the skin of the instrument panel.例文帳に追加

その際、パウダボックス２にクランプされて閉鎖された金型３の加熱状態での回転後に、金型３に付着した原料パウダ２ａを溶融させるアフタメルト工程中に、開放した金型３に開口ラインに対応し形状の加工刃１０を押し付けてインストルメントパネル表皮の裏面に破断用溝９ａを形成する。 - 特許庁

Also, the production process of another similar lightweight formed body having a laminated structure comprise integrally subjecting a core layer that consists of a powdery phenolic resin and aggregate containing the dried ALC crushed material, and a reinforcing layer that is formed at least one surface side of the core layer and consists of a powdery phenolic resin and an inorganic filler comprised of a fibrous material blend, to thermal hardening under pressure.例文帳に追加

また、上記の乾燥ＡＬＣ破砕物を含む骨材と粉末状のフェノール樹脂とからなるコア層、及び該コア層の少なくとも一面側に設けられ、繊維状材を配合した無機質フィラーと粉末状のフェノール樹脂とからなる補強層を、一体として熱圧硬化させる積層構造の軽量成形体の製造方法。 - 特許庁

A pad oxidation film 2 and a nitriding silicon film 3 are formed on a silicon substrate 1, a trench 4 is formed by dry etching to make the nitriding silicon film 3 an etching mask, further the nitriding silicon film 3 is made an oxidation mask to thermally oxidize the silicon substrate 1, and a reforming layer formed on the surface of the nitriding silicon film 3 is removed by a neutral radical containing fluorine in a thermal oxidation process.例文帳に追加

シリコン基板１上にパット酸化膜２と窒化珪素膜３を形成し、窒化珪素膜３をエッチングマスクにしたドライエッチングでトレンチ４を形成し、更に窒化珪素膜３を酸化マスクにしてシリコン基板１を熱酸化し、上記熱酸化工程において窒化珪素膜３表面に形成される改質層をフッ素含有の中性ラジカルで除去する。 - 特許庁

The method for manufacturing the solar cell comprises the steps of baking the semiconductor substrate with a conductive paste formed on a main surface at a maximum burning temperature of not less than 450°C, and maintaining a cooling speed of not more than 7.5°C/sec for the predetermined time at the temperature range of not less than 250°C from the maximum burning temperature in a cooling process.例文帳に追加

一主面に導電性ペーストが形成された半導体基板を、４５０℃以上の最高焼成温度で焼成する焼成工程と、前記最高焼成温度からの冷却過程の２５０℃以上の温度領域において、７．５℃／秒以下の冷却速度を所定時間維持する維持工程とを備えて成る太陽電池素子の製造方法とする。 - 特許庁

To provide a method for producing charcoal which averagely converts the total raw material, especially the deep portion of a thick part of a raw material or the central part of a large tree diameter, in a short time into charcoal in order to prevent the outer peripheral surface from changing into ash before the total raw material is made into charcoal in a process of producing charcoal in the inside of a charcoal kiln.例文帳に追加

木炭窯内部での木炭製造過程において原材料全体が木炭になる前に外周部分が先に灰にならない為に、原材料全体特に原材料の厚い部分の深部や樹径の大きい中心部が外周部分の木灰化前に短時間に平均的に木炭化される木炭製造方法を提供する。 - 特許庁

A cylindrical blank 32 to undergo a shaping process is configured so that a ring-shaped projection 30 having a thickness corresponding to the height of the tooth part of a synchronizer cone and a taper surface 28 having a smaller thickness than the projection are formed in a single piece on the same axis, and the periphery of the projection 30 is cut at constant intervals in the axial direction so that a plurality of projections are formed.例文帳に追加

シンクロナイザコーン１０の歯部１６の高さに対応する厚みを有する環状突起部３０とそれより厚みの小さいテーパ面２８とが同軸上に一体的に形成された筒状の成形用素材３２を準備し、環状突起部３０の外周を軸方向に沿って等間隔に切除して複数の突起部３４を形成する。 - 特許庁

After laminating a first silicon layer 108a, a silicon-rich oxide film 10 and a second silicon layer within a cylinder hall 107 provided to a film 106 between the cylinder layers, the HSG forming process is conducted to the second silicon layer using the silicon-rich oxide film 10 as a stopper in view of forming a plurality of HSGs 108c on the surface of the silicon-rich oxide film 10.例文帳に追加

シリンダ層間膜１０６に設けたシリンダホール１０７内に、第１のシリコン層１０８ａ、シリコンリッチな酸化膜１０及び第２のシリコン層を積層した後、シリコンリッチな酸化膜１０をストッパとして第２のシリコン層に対しＨＳＧ化処理を行うことにより、シリコンリッチな酸化膜１０の表面に複数のＨＳＧ１０８ｃを形成する。 - 特許庁

To improve a method for manufacturing a solar cell for attaining an improved surface passivation and volume passivation, besides excellent optical properties of a substrate in manufacturing a semiconductor element, with respect to the process for forming a layer containing a hydrogen-containing silicon on a substrate formed of silicon or a substrate containing silicon such as a wafer or a film substrate.例文帳に追加

本発明はシリコンからなる基板はシリコンを含む基板、例えばウエハ又はフィルムの基板上に水素含有シリコンを含む層を形成して半導体素子を製造する方法に関し、良好な光学的性質のほかに基板の良好な表面不動態化も体積不動態化も可能なように太陽電池の製造方法を改良することを課題とする。 - 特許庁

The environmental load substances in the solution containing the environmental load substances are recovered by charging a porous maghemite having a specific surface area measured by a nitrogen gas adsorption process of ≥50 m^2/g into the solution containing the environmental load substances or passing the solution containing the environmental load substances in a column filled with the porous maghemite.例文帳に追加

窒素ガス吸着法によって測定される比表面積が５０ｍ^２／ｇ以上ある多孔質マグヘマイトを、当該環境負荷物質を含む溶液に投入したり、当該多孔質マグヘマイトを充填したカラムに当該環境負荷物質を含む溶液を通過させて、当該環境負荷物質を含む溶液中の環境負荷物質を回収する。 - 特許庁

In this electrode for electrochemical elements configured of a collector and an active material layer on the surface, the active material layer is formed by molding composite particles containing electrode active materials and conductive materials and binding agent by a dry process, and the electrode active materials contain graphite or graphite-shaped particles.例文帳に追加

集電体と、その表面に活物質層を有してなる電気化学素子用電極であって、該活物質層が、電極活物質、導電材および結着剤を含む複合粒子を乾式法により成形したものであり該電極活物質が黒鉛または黒鉛状粒子を含むことを特徴とする電気化学素子用電極。 - 特許庁

Fabrication process of the silicon carbide semiconductor device 1 comprises a step for forming a trench 11 in the major surface 2b of the epitaxial growth layer 2, a step for forming the silicon carbide semiconductor region 3 selectively in the trench 11 by epitaxial growth, and a step performing heat treatment for activating impurities in the silicon carbide semiconductor region 3.例文帳に追加

炭化珪素半導体装置１の製造方法は、エピタキシャル成長層２の主表面２ｂに溝１１を形成する工程と、溝１１内に選択的に炭化珪素半導体領域３をエピタキシャル成長により形成する工程と、炭化珪素半導体領域３中の不純物を活性化させるための熱処理を施す工程とを備えている。 - 特許庁

Previously, the electric field concentrated place in a target 11 for sputtering is removed by etching or the like, and then, the target 11 for sputtering freed from the electric field concentrated place is housed into a transporting case 13 protecting the surface to prevent the generation of an another electric field concentrated place caused by its contact with solids and contaminants in the process of transportion or the like.例文帳に追加

予めスパッタリング用ターゲット１１の電界集中箇所をエッチングなどにより除去し、そして、電界集中箇所が除去されたスパッタリング用ターゲット１１を、その表面を保護する輸送ケース１３に収納して、輸送中などに固体や汚染物質と接触して再度電界集中箇所が生じるのを防ぐようにしている。 - 特許庁

In the upset forming which upsets the flange section 2 formed in the former process in the height direction, a radius of curvature in the outer side curvature surface 5B of the corner section 5 is formed smaller than the regular radius of curvature required for the molding, and the wall thickness dimension T of the corner section 5 increases the thickness of other regions (Fig. (A)-(C)).例文帳に追加

前工程で成形されたフランジ部２をその高さ方向に据え込む据え込み成形に際しては、コーナー部５の外側曲率面５Ｂの曲率半径を成形品に必要とされる正規曲率半径よりも小さく成形して、コーナー部５の板厚寸法Ｔを他の部位の板厚ｔよりも厚肉化する（図８の（Ａ）〜（Ｃ））。 - 特許庁

Consequently, when no solder ball is mounted on the external terminal portion 9, bleeding from a sealing resin 5 along an upper surface of the base 2 in a process halfway during manufacture is stopped by the recessed dam of the connection portion 13 even in such a case to serve as a breakwater, thereby preventing the bleeding from covering the external terminal portion 9.例文帳に追加

これにより、外部端子部９に半田ボールを搭載しない場合において、製造途中の工程で封止樹脂５から基台２の上面に沿ってブリードが流れ出した場合でも、このブリードが接続部１３の凹型ダムによって止められて防波堤の役目をなし、ブリードが外部端子部９上に被さることを防止できる。 - 特許庁

The surface defect removal of the cast slab containing the expensive metals such as nickel, vanadium, molybdenum, tungsten, chromium, manganese is performed with a cutting-off method and made to solid-shape by classifying the generated cut-off scrap into the respective contained expensive metals and compression forming at the high pressure of 20-800 MPa, and melted and reused in a refining process for steel containing the same expensive metal.例文帳に追加

ニッケル、バナジウム、モリブデン、タングステン、クロム、マンガンなどの高価金属を含有する鋳片の表面欠陥除去を切削法により行い、発生する切削屑を含有する高価金属別に分別して２０〜８００ＭＰａの高圧で圧縮成形することにより固形化し、同じ高価金属を含有する鋼の精錬プロセスで溶解して再利用する。 - 特許庁

Before applying process of adhesives 40, a laser L irradiates adhesive regions 11a out of the mounting surface 11 of the internal unit 10, and at least an outline of each adhesive region 11a out of the adhesive regions 11a is used as a recess 11b, thereby preventing the applied adhesives 40 from squeezing-out from the adhesive regions 11a.例文帳に追加

接着剤４０の塗布工程の前に、内部ユニット１０の搭載面１１のうちの接着領域１１ａにレーザＬを照射して、接着領域１１ａのうち当該接着領域１１ａの少なくとも外郭を凹部１１ｂとすることにより、塗布された接着剤４０の接着領域１１ａからのはみ出しを防止する。 - 特許庁

The conductive ink composition which comprises copper particles, a coordinative compound and copper formate particles and is produced through a process for washing the copper particles with a washing composition containing (a) an acid and a surface-protecting agent is characterized in that the volume resistivity of the composition is 3.0×10^-5 to 3.0×10^-6 Ωcm.例文帳に追加

銅粒子、配位性化合物及びギ酸銅粒子を含み、ａ）酸、及び表面保護剤を含んでなる洗浄用組成物で銅粒子を洗浄する工程を経て製造する導電性インク組成物であって、体積抵抗値が３．０Ｘ１０^−５〜３．０〜１０^−６Ω・ｃｍであることを特徴とする導電性インク組成物 - 特許庁

To provide a heat developing device in which foreign matter grown due to the adhesion and solidification of cutting waste, emulsion peeling, etc., from near the end of a heat developing photosensitive film to a heating means etc., is prevented from exerting damage to the surface of a heating drum and cleaning means at the starting etc., of the device when a heat developing process is performed.例文帳に追加

熱現像プロセスを実行する際に、熱現像感光フィルム端付近からの断裁くずや乳剤剥がれ等が加熱手段等に付着固化することに起因して成長した異物が装置の起動のとき等に加熱ドラムの表面やクリーニング手段や損傷を与えてしまうことを防止できる熱現像装置を提供する。 - 特許庁