「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(188ページ目) - Weblio英語例文検索

The epitaxial growth method includes a cleaning treatment step of etching and removing a silicon deposit that adheres to the inside of an epitaxial growth furnace 2 by a hydrogen chloride containing gas, and a polysilicon depositing step of forming a polysilicon film having a grain size of 0.7 μm -0.3 μm on the surface of a susceptor by supplying a silicon source gas to the inside of the epitaxial growth furnace, following the cleaning process.例文帳に追加

エピタキシャル成長炉２内に付着したシリコン堆積物を塩化水素含有ガスによりエッチング除去するクリーニング処理工程と、クリーニング処理工程に引き続き、エピタキシャル成長炉内にシリコンソースガスを供給してサセプタ表面にグレーンサイズが０．７μｍ〜０．３μｍのポリシリコン膜を形成するポリシリコン成膜工程とを有することを特徴とするエピタキシャル成長方法である。 - 特許庁

A water-repellent film with repellency which has an opening is formed on a surface of a processed layer of the substrate, a watery solution is arranged in the opening to form a mask part, and the processed layer is processed by etching using the mask part as a mask so as to perform the texture process on the substrate efficiently in the easy method without requiring large-scale facilities or placing a load on an environment.例文帳に追加

多大な設備を必要とすることなく、また環境に負荷を与えることなく、簡便な方法で効率良く基板にテクスチャ加工を施すために、基板の被加工層の表面に、開口を有する撥水性の撥水性膜を形成し、前記開口に水溶液を配置してマスク部を形成し、前記マスク部をマスクとして用いたエッチングにより前記被加工層を加工する。 - 特許庁

A first process part 120 includes a multistage structure that right and left electrodes 122 between which one copper sheet 101 is held is defined as one station and tow or more stations are provided and an anodic treatment for forming copper particles in necessary quantity to form fine bump like projecting on right and left both surface of the steel sheet 101 by electrolyzing using a copper plate 101 as an anode and an electrode 122 as a cathode is carried out.例文帳に追加

第一工程部１２０は、１つの銅板１０１を挟む左右の電極１２２を１ステーションとして、これを２ステーション以上備えた多段構成となっており、銅板１０１を陽極、電極１２２を陰極とする電気分解により、銅板１０１の左右両面に微細瘤状突起を形成するのに必要な量の銅微粒子を生成させる陽極処理を行う。 - 特許庁

In a process of discharging toner from a toner collecting/holding means to an image carrier, the polarity of the bias to be applied to the toner collecting/holding means is changed so that the polarity of the bias is opposite to the polarity of the potential on the surface of an intermediate transfer belt applied by a secondary transfer roller located on the upstream side, in the moving direction of the image carrier of the toner collecting/holding means.例文帳に追加

トナー回収保持手段から像担持体へのトナー吐き出し工程において、トナー回収保持手段の像担持体の移動方向において上流側に位置する２次転写ローラによって付与された中間転写ベルト表面上の電位の極性とは逆極性となるようにトナー回収保持手段に対して、印加するバイアスの極性の切り替え動作を行う。 - 特許庁

In the heavy metal elution preventing method for polluted soil containing heavy metals and the baked material obtained by baking a baked raw material such as incineration ash or the like, a reducing agent is made to penetrate the baked material from the surface layer part thereof by hot water absorption before the baked material reaches the normal temperature in a cooling process after baking.例文帳に追加

重金属類を含有する汚染土壌、焼却灰などの焼成原料を焼成して得られる焼成物からの重金属類の溶出防止方法であって、焼成後の冷却過程において該焼成物が常温に達しないうちに、該焼成物の表層部から内部に向かって還元剤を熱間吸水により浸透させることを特徴とする。 - 特許庁

When a gas is introduced into a chamber 1 to react the gas therein, thereby treating a wafer surface (not shown) disposed in the chamber 1, a mass analyzer (QMS) 2 is mounted in the chamber 1 to measure the change of a specified element in the chamber 1 by the analyzer 2, thereby controlling the condition of the process.例文帳に追加

気体をチャンバ１内に導入し、そのチャンバ１内で前記気体を反応させることにより、チャンバ１内に配設される図示しないウェハ表面に処理を施す場合に、チャンバ１に質量分析器（ＱＭＳ）２を取り付け、その質量分析器２によりチャンバ１内の特定元素の変化を測定することにより前記プロセスの状態を管理することを特徴とする。 - 特許庁

In fabricating a semiconductor substrate with a groove-like notch at its edge portion, this two shoulder portions which connect a notch groove wall surface and an end face forming a semiconductor substrate periphery are configured as arcs in a process for mirror polishing the end face, and a difference between curvature R1, R2 of the respective shoulder portions is ≥0 mm and ≤0.l mm.例文帳に追加

端部に溝形状のノッチが形成される半導体基板を製造する際に、前記端部を鏡面研磨する加工工程において、前記ノッチの溝壁面から前記半導体基板の外周を構成する端面につながる部分である２つの肩部の形状をそれぞれ円弧状にすると共に前記両肩部のそれぞれの曲率の差を０ｍｍ以上で且つ０．１ｍｍ以下にする。 - 特許庁

A process of manufacturing a semiconductor device having the gate electrode made of metal silicide which is a metal-containing material or metal alone includes steps of: etching the gate electrode 14G, thereafter oxidizing a surface of a gate part; and trimming the gate electrode 14G by exposing the gate part to a gaseous substance containing organic acid and heating it to volatilize a reaction product of the metal and the organic acid.例文帳に追加

金属を含む材料である金属シリサイド或いは金属単体から成るゲート電極をもつ半導体装置を作製する工程に於いて、ゲート電極１４Ｇのエッチング後にゲート部の表面を酸化させ、ゲート部を有機酸を含むガス状物質に曝露すると共に加熱して金属と有機酸との反応生成物を揮発させてゲート電極１４Ｇのトリミングを行う。 - 特許庁

In an image forming apparatus forming the latent image of a read manuscript on a photosensitive member and developing the same to form an image, a blank exposure unit 80 having a light emitting element array arranged in opposite to the surface of the photosensitive member is used to process the latent image of the graph region corresponding to solid black to perform the printing output of the residual life data of a principal part.例文帳に追加

読み取られた原稿の潜像を感光体上に形成し、これを現像して画像を形成する画像形成装置において、感光体の表面に対向して配置された発光素子アレイを有するブランク露光ユニット８０を用いて、ベタ黒に対応するグラフ領域の潜像を加工することにより、主要部品の余寿命の情報を印刷出力する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer polishing pad corresponding to a slurryless state and being capable of reducing occurrence of scratches and eliminating aggregation of grinding particles in the pad and holding the intra- surface uniformity of polishing rates of a polishing target at an extremely excellent state to use the polishing pad for a polishing process for flattening the fine ruggedness of fine patterns formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加

本発明は、半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、スラリーレス対応で、スクラッチの発生の少なく、パッド中の砥粒の凝集が無く、スクラッチが発生しにくく、且つ研磨対象の研磨レートの面内均一性が極めて良好な半導体ウエハ研磨用パッドを提供するものである。 - 特許庁

The analyzer has: a first treatment part for irradiating the film formed on a substrate with ultraviolet rays to remove the same; a second treatment part for supplying a dissolving solution to the surface of the substrate to dissolve the substance on the substrate; and a third treatment part for analyzing the substance in the dissolving solution used in the second process.例文帳に追加

基板上に形成された被膜を、紫外線を照射することで除去する第１の処理部と、前記基板表面に溶解液を供給して前記基板上の分析対象物質を溶解させる第２の処理部と、前記第２の工程で用いた前記溶解液中の前記分析対象物質を分析する第３の処理部と、を有することを特徴とする分析装置。 - 特許庁

The polymerization process by spraying a first liquid and a second liquid at least one of which contains a polymerizable monomer and a polymerization initiator into a gas phase, and mixing them to effect polymerization in the form of droplets comprises adding a substance having a surface activating action to at least one of the above first liquid and second liquid to control the particle diameter of a polymer to be produced.例文帳に追加

少なくとも一方に重合性モノマーと重合開始剤を含む第１液および第２液を気相中に噴霧、混合し、液滴状で重合させる重合方法であって、前記第１液または第２液の少なくとも一方に界面活性作用を有する物質を添加することにより、製造される重合体の粒子径を制御することを特徴とする重合方法。 - 特許庁

The manufacturing process of an organic EL display device comprises a step of feeding an organic solvent 31 on to an underlying layer 25 provided on one main surface of a substrate and a subsequent step of ejecting a solution 32 containing an organic material on the underlying layer 25 by an ink-jet system to form an organic material layer 28R containing the organic material.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板の一方の主面上に設けられた下地層２５上に有機溶剤３１を供給する工程と、その後に、有機材料を含有した溶液３２をインクジェット方式により前記下地層２５上に吐出して前記有機材料を含有した有機材料層２８Ｒを形成する工程とを含んだことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent the fixation of a core bar and a rubber layer without performing a special treatment such as a chromic acid treatment to an electroless nickel plating surface, in a rubber roller having the rubber layer cross-linked on the core bar having electroless nickel plating by at least sulfur or a sulfur-containing compound, and manufactured through a process for removing a non-adhesion part of the rubber layer.例文帳に追加

無電解ニッケルメッキを施した芯金上に少なくとも硫黄若しくは含硫黄化合物で架橋されているゴム層を有し、且つゴム層の非接着部分を除去する工程を有するゴムローラにおいて、該無電解ニッケルメッキ表面にクロム酸処理等特別な処理を行うことなく芯金とゴム層間の固着を防止し、ゴム層の非接着部分を除去することを可能とする。 - 特許庁

An electrolytic plating equipment 10 takes a color picture of the plated surface of a semiconductor wafer W during cleaning with a CCD camera 27, when the semiconductor wafer W is washed using a washing nozzle 19 after electrolytic plating in an electrolytic plating process, and controls a solid support 18 and a cleaning mechanism 19 independently based on color- picture signals from the CCD camera 27.例文帳に追加

本発明の電解メッキ装置１０は、電解メッキ工程において、電解メッキ後の半導体ウエハＷを洗浄ノズル１９を用いて洗浄する際に、洗浄中の半導体ウエハＷのメッキ面の状態をＣＣＤカメラ２７を用いてカラー画像で撮像し、ＣＣＤカメラ２７からのカラー画像信号に基づいて保持体１８及び洗浄機構１９をそれぞれ制御する。 - 特許庁

In a process for manufacturing the metal powder-sintered part 1 having a three-dimensional shape, removal steps wherein surface layers and unnecessary parts are removed from the surfaces of the sintered layers M within predetermined removal target areas A after sintering the sintered layers M, are performed several times during a powder-sintering step wherein multiple sintered layers M are laminated and integrated.例文帳に追加

複数の焼結層Ｍを積層一体化する粉末焼結工程の中に、焼結層Ｍの焼結加工後に所定の除去加工領域Ａで焼結層Ｍの表面部の表層及び不要部分を除去するための除去仕上加工をおこなう除去加工工程を複数回挿入することにより三次元形状の金属粉末焼結部品１を製造する方法である。 - 特許庁

To provide a method for producing bean curd having beautiful surface texture, excellent flavor and high additional value through efficiently stirring soymilk in which a coagulating agent is put and spreading the coagulating agent on entire soymilk in a short time in a process of coagulating soymilk in a bean curd production, and coagulating without unevenness even by the combination of quick coagulation like the case of putting bittern in hot soymilk.例文帳に追加

豆腐製造における豆乳を凝固させる工程で、凝固剤を入れた豆乳を効率よく攪拌して短時間で豆乳全体に凝固剤を行き渡らせ、温豆乳に苦汁を入れる場合のように凝固が速い組み合わせでもむらなく凝固させることができるようにして、表面の肌がきれいで風味がよく付加価値の高い豆腐を製造することができるようにする。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device having a heat resistant resin film used generally for flip-chip connection using a solder bump or a gold bump and an epoxy based resin compound in which reliability of the semiconductor device is enhanced by improving adhesive property especially after it is held under high temperature and high humidity for a long term, and to especially provide a surface modification treatment method.例文帳に追加

半田バンプや金バンプを用いるフリップチップ接続に多用される耐熱性樹脂膜とその上に積層するエポキシ系樹脂化合物を有する半導体装置において、特に高温高湿下に長期間保持された後の接着性を改善し、半導体装置の信頼性を向上させるための半導体装置の製造方法、特に表面改質処理方法を提供する。 - 特許庁

After the substrate is carried in the deposition container 60 before the temperature of the substrate rises to a predetermined temperature when a polyimide film is deposited on the substrate, the control unit 100 controls the adhesion promoter supply mechanism 80 so as to supply the adhesion promoter gas into the deposition container 60 and to process the surface of the substrate by the adhesion promoter gas.例文帳に追加

制御部１００は、基板を成膜容器６０内に搬入した後、加熱機構６２により、基板の温度を、基板にポリイミド膜を成膜するときの所定温度まで上昇させる間に、密着促進剤供給機構８０により密着促進剤ガスを成膜容器６０内に供給し、基板の表面を密着促進剤ガスにより処理するように、制御する。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor which can improve light efficiency of blue light by reducing the depth of a p-type impurity region to be introduced to isolate a photodiode and the surface of a silicon substrate, reduce a determination defect which may occur during an ion implantation process, and improve light characteristics by forming a high-density p-type impurity region.例文帳に追加

フォトダイオードとシリコン基板の表面との間の隔離のために導入されるＰ型不純物領域の深さを浅くしてブルー系の光の光効率を改善し、イオン注入時に生じる決定欠陥を抑制し、高濃度のＰ型不純物領域を形成することにより光特性を改善させるＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a steel sheet excellent in surface quality without specifying casting conditions and conditions for a manufacturing step after casting, in a process for manufacturing a cold rolled steel sheet product by using a thin cast slab of austenitic stainless steel which is cast by the use of a single drum type or a double drum type continuous caster where a thin cast slab is directly cast from molten metal.例文帳に追加

金属の溶湯から直接に薄肉鋳片を鋳造する単ドラム式連続鋳造機や双ドラム式連続鋳造機を用いて鋳造されるオーステナイト系ステンレス鋼の薄肉鋳片を用いて冷延鋼板製品を製造するプロセスにおいて、鋳造条件や鋳造後の製造工程の条件を規定することなく表面品質が優れた鋼板を得る。 - 特許庁

The RTM molding process arranges a reinforced fiber base material in the cavity part of molds for molding made of a plurality of molds, clamps the molds, then injects and molds the resin, and disposes a film having a resin channel bored in a thickness direction on at least one surface between the mold for molding and the reinforced fiber base material.例文帳に追加

複数の型からなる成形型のキャビティ部に強化繊維基材を配設し、型締めした後、樹脂を注入して成形するＲＴＭ成形法において、厚み方向に貫通する樹脂流路を有するフィルムおよび、樹脂流路用メディアを前記成形型と前記強化繊維基材の間の少なくとも１面に配置することを特徴とするＲＴＭ成形方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite molded object by which a discontinuous fiber reinforced resin molding and a long fiber or continuous fiber reinforced resin molding and even a molding having a large surface area and thin thickness can be integrally molded in a desired shape precisely and easily at a low pressure without using a specific process while suppressing the deformation such as warpage.例文帳に追加

不連続繊維強化樹脂成形体と長繊維あるいは連続繊維強化樹脂成形体とを、大きな面積を有する成形品、さらにはその肉厚が薄い成形品に対しても、特別な手法によることなく低圧で容易にかつ反り等の変形を抑えて精度よく所望の形態に一体成形できるようにした複合成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for working a cover body which prevent slippage of the cover body to the utmost, enable simultaneous and precise working of all the end portions of the cover body including corner portions and also formation of dent portions for holding the heads of rivets in the surface of the cover body and enable efficient execution of a working process.例文帳に追加

本発明は、表紙体のずれを極力防止し、表紙体の角部を含む全ての端部の加工を同時に且つ精密に行うことができると共に、表紙体の表面にリベットの頭を収める窪み部を形成することもでき、加工処理を効率的に行うことができる表紙体加工装置、表紙体加工方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the method for dressing or profiling the basically cylindrical grinding worm by a machine suiting continuous gear grinding by a diagonal method, a basically cylindrical gear used as a dressing tool and applied with a polish coating on an effective surface by a dressing process is contacted on the grinding worm, a tooth form and at least a tooth flank of the grinding worm by a tangential or diagonal method.例文帳に追加

ダイアゴナル方法での連続ギア研削に適した機械で基本的に円筒形の研削ウォームを調整または成形する方法であって、調整工具として使用され、調整プロセスで有効な表面に研磨コーティングを施した基本的に円筒形の歯車を、タンジェンシャルまたはダイアゴナル方法で研削ウォーム、および歯形、少なくとも研削ウォームの歯面に接触させる。 - 特許庁

The method for regenerating a carrier for a two-component electrostatic charge image dry developer aims to regenerate the carrier having resin coated on the surface of a core material, and is characterized in that a used two-component developer or a resin coated carrier obtained by separating a toner component by a toner removing process on the used developer is subjected to carbonization and then to decarbonization followed by characteristic processing.例文帳に追加

芯材の表面を樹脂被覆したキャリアの再生処理方法であって、使用済み二成分系現像剤又は該現像剤を脱トナー処理によりトナー成分を分離して得られた樹脂被覆キャリアを炭化処理した後、脱炭処理を行い、次いで特性処理を施すことを特徴とする二成分系静電荷像乾式現像剤用キャリアの再生方法を採用する。 - 特許庁

To provide: a new conductive paste for intaglio offset printing, which can form an electrode pattern having a sufficient thickness and which excels in three-dimensional shape accuracy and conductivity on a surface of a substrate by increasing a transfer rate in a first transfer process out of an electrode pattern forming processes using an intaglio offset printing method; and a method of manufacturing an electrode substrate using it.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程のうち、１回目の転写工程での転写率を高めて、基板の表面に、十分な厚みを有し、三次元の形状精度と導電性に優れた電極パターンを形成することができる、新規な凹版オフセット印刷用導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the metal oxide thin-film pattern in a predetermined region on a substrate includes a process of applying an ink composition containing ions of metal to become metal oxide in an ink jet manner, wherein the ink composition has a viscosity of 3 to 40 mPa s and a surface tension of 10 to 70 mN/m.例文帳に追加

基板上の所定の領域に金属酸化物薄膜パターンを製造する方法であって、該金属酸化物となる金属のイオンを含むインク組成物をインクジェット方式により塗布する工程を含み、該インク組成物の、粘度が３〜４０ｍＰａ・ｓ、かつ表面張力が１０〜７０ｍＮ／ｍであることを特徴とする金属酸化物薄膜パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a conductive member for electrophotography, using elastomer having a halogen group, which is free of contamination of a charged body and can obtain excellent images by eliminating low-molecular-weight components oozing out of a conductive elastic body to a surface and also uses a composition with superior moldability, a process cartridge and an electrophotographing device both equipped with the conductive member for electrophotography.例文帳に追加

ハロゲン基を有するエラストマーを用いた電子写真用部材において、導電性弾性体から表面に滲み出る低分子量成分を無くし、被帯電体汚染がなく、良好な画像が得られ、かつ成型加工性の優れる組成物を用いた電子写真用導電性部材、該電子写真用導電性部材を備えたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for forming a resist 6 containing a thermally crosslinking material on the surface of a semiconductor substrate 5, a step for pressing a mold 1 provided with a pattern 4 against the resist 6, a step for heating the resist 6 while pressing the mold 1 against the resist 6, and a step for patterning the resist 6 by removing it.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板５の表面上に、加熱により架橋する材料を含むレジスト６を形成する工程と、パターン４の形成されたモールド１をレジスト６に押し付ける工程と、モールド１をレジスト６に押し付けた状態で、レジスト６を加熱する工程と、レジスト６を除去することにより、レジスト６をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

A process for fabricating a sensor 10 is disclosed that bonds a first device wafer to an etched second device wafer to create a suspended structure, the flexure of which is determined by an embedded sensing element 310 that is in electrical communication with an outer surface of the sensor 10 through an interconnect 400 embedded in a device layer 110 of the first device wafer.例文帳に追加

第１のデバイスウエハーをエッチングされた第２のデバイスウエハーに接合して架設された構造を作る、センサー１０を製作するための方法が、開示され、その構造のたわみは、第１のデバイスウエハーのデバイス層１１０に埋め込まれた相互接続部４００を通じてセンサー１０の外面と電気的に連通する埋め込まれた感知素子３１０によって決定される。 - 特許庁

A process liquid supply nozzle 104 comprises a mixing chamber 21 comprising a cylindrical inside wall surface 29 whose lateral cross section is circular, a sulphuric acid introducing path 122 for introducing sulphuric acid to the mixing chamber 21, a hydrogen peroxide solution introducing path 123 for introducing hydrogen peroxide solution to the mixing chamber 21, and a discharge opening 24 for discharging SPM generated in the mixing chamber 21.例文帳に追加

処理液供給ノズル１０４は、横断面が円状の円筒状内壁面２９を有する混合室２１と、混合室２１に硫酸を導入する硫酸導入経路１２２と、混合室２１に過酸化水素水を導入する過酸化水素水導入経路１２３と、混合室２１で生成されたＳＰＭを吐出する吐出口２４とを備えている。 - 特許庁

This method of polishing an optical connector ferrule formed by a resin molding method comprises a dry polishing process of pressing an optical connection face of the optical connector ferrule 1 to a polishing tape 10, and allowing the optical connector ferrule 1 to meander on the surface of the polishing tape 10 to dry-polish the optical connection face of the optical connector ferrule 1.例文帳に追加

本発明の光コネクタフェルールの研磨方法は、樹脂成形法によって形成された光コネクタフェルールを研磨する方法であって、光コネクタフェルール１の光接続面を研磨テープ１０に押圧させると共に、光コネクタフェルール１を研磨テープ１０の表面に対して蛇行させて、光コネクタフェルール１の光接続面を乾式研磨する乾式研磨工程を有することを特徴としている。 - 特許庁

In one aspect, a method of cleaning an electronic device manufacturing process chamber part is provided, including (a) spraying an unintentional coating 106 on the uppermost surface of the chamber part with an acid; (b) pressure spraying the residual coating 106 with deionized water; and (c) treating an intentional coating 104 being an under layer of the coating 106 with potassium hydroxide.例文帳に追加

一態様において、電子装置製造処理チャンバの構成部分をクリーニングするための方法であって、ａ）上記部分の最表面の意図していない被覆層１０６を酸でスプレーしてエッチングし、ｂ）残っている被覆層１０６を脱イオン化水で加圧洗浄し、ｃ）被覆層１０６の下層の意図的被覆層１０４を水酸化カリウムで処理する、ことを含む方法が提供される。 - 特許庁

The process for producing an aqueous dispersion of polyimide fine particles comprises converting polyamic acid fine particles dispersed in a hydrophilic solvent into a polyimide fine particle dispersion by chemical imidation with acetic anhydride/pyridine or the like, removing the hydrophilic solvent by the operation of centrifugal separation, and adding a surface active agent aqueous solution to the residue to replace the above solvent with water.例文帳に追加

ポリイミド微粒子の水分散液を製造する方法において、親水性溶媒に分散させたポリアミド酸微粒子を無水酢酸/ピリジン等で化学イミドしてポリイミド微粒子分散液へ誘導し、親水性溶媒を遠心分離操作によって取り除き、残渣に界面活性剤水溶液を加えて水と置換することによるポリイミド微粒子水分散液の製造方法。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for preparing a semiconductor substrate 10 on which an integrated circuit 12 is formed while internally having an electrode 14 connected electrically, a member 16 formed integrally on the surface where the electrode 14 is formed in a region on the outside of the electrode 14 to surround all electrodes 14, and a passivation film 18 covering the surrounding member 16.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、内部に電気的に接続された電極１４と、電極１４が形成された面の電極１４よりも外側の領域にすべての電極１４を囲むように一体的に形成された囲繞部材１６と、囲繞部材１６を覆うパッシベーション膜１８とを有する、集積回路１２が形成された半導体基板１０を用意することを含む。 - 特許庁

To provide a flexible display in which a plastic substrate is protected, a thermal treatment process for forming a polysilicon layer can be sufficiently performed, and a polysilicon layer having a good surface and excellent properties can be formed due to reflection or absorption of a laser light by the protective layer and consequently, the performance and durability of the flexible display are greatly improved, and its manufacturing method.例文帳に追加

プラスチック基板を保護し、ポリシリコン層の形成のための熱処理工程を十分に行うことができ、保護層によるレーザ光の反射または吸収を通じて、より優秀な表面および性質を持ったポリシリコン層を形成させることによって、結果的に性能および寿命が大きく向上したフレキシブルディスプレイおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the oxidation method for oxidating the surface of a treating body W set to a specific temperature in a process envelop 8, an oxidizing gas composed of oxygen and/or ozone and a reduction gas composed of hydrogen and/or heavy hydrogen are supplied under the vacuum atmosphere (excluding a combination of oxygen and hydrogen), and the oxidation is made by a hydroxyl group active species and an oxygen active species generated.例文帳に追加

処理容器８内にて所定の温度になされた被処理体Ｗの表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて酸素及び／又はオゾンよりなる酸化性ガスと水素及び／又は重水素よりなる還元性ガスとを供給し（酸素と水素のみの組み合わせを除く）、発生した水酸基活性種と酸素活性種とにより前記酸化を行なう。 - 特許庁

A composition for forming the gap filling material containing a polymer solution is used in manufacturing a semiconductor device by a method which consists of coating the substrate having holes with ≥1 aspect ratio defined by height/diameter with a resist and transferring an image to the substrate utilizing a lithography process and is used to flatten the substrate surface by coating the substrate therewith before coating it with the resist.例文帳に追加

高さ／直径で示されるアスペクト比が１以上のホールを有する基板にレジストを被覆しリソグラフィープロセスを利用して基板上に画像を転写する方法による半導体装置の製造において使用され、レジストを被覆する前の該基板に被覆して基板表面を平坦にするために用いる、ポリマー溶液を含有するギャップフィル材形成組成物である。 - 特許庁

This inkjet image forming method has a post-treatment process wherein the thermoplastic resin is melted, softened or turned into the film after the image is formed, by means of ink, on an inkjet recording medium with a surface layer containing at least the thermoplastic resin and inorganic particulates; and at least one kind of the ink contains a self-dispersible pigment.例文帳に追加

少なくとも熱可塑性樹脂と無機微粒子とを含有する表層を有するインクジェット記録媒体に、インクを用いて画像を形成した後、該熱可塑性樹脂を溶融、軟化、または皮膜化する後処理工程を有するインクジェット画像形成方法であって、該インクの少なくとも１種が、自己分散顔料を含有することを特徴とするインクジェット画像形成方法。 - 特許庁

To provide a method of producing a cold rolled steel sheet through a continuous annealing process of cooling a steel strip after heating/soaking by gas jet cooling and/or roll cooling, where initial rust generated on the surface of the steel sheet under severe conditions is suppressed as possible to improve its corrosion resistance, and to provide a cold rolled steel sheet produced by the method.例文帳に追加

加熱・均熱後の鋼帯をガスジェット冷却および／またはロール冷却により冷却する連続焼鈍工程を経て冷延鋼板を製造する方法において、過酷な条件のもとでも鋼板表面に発生する初期錆を極力抑制して耐食性を向上する冷延鋼板の製造方法および本方法により製造された冷延鋼板を提供する。 - 特許庁

In the method for suppressing the generation of the scale by supplying an oxidation suppressing chemical on the surface of the rolled steel material in a hot rolling process, an aqueous solution containing one or more of ascorbic acid, a derivative of ascorbic acid, and a metallic salt of ascorbic acid is used as a oxidation suppressing chemical.例文帳に追加

熱間圧延工程で、圧延鋼材表面に酸化抑制剤を供給することによりスケール生成を抑制する方法において、上記酸化抑制剤としてアスコルビン酸、アスコルビン酸の誘導体およびアスコルビン酸の金属塩のうちの１種または２種以上を含む水溶液を用いることを特徴とする熱間圧延鋼材表面のスケール生成抑制方法。 - 特許庁

To provide a heat exchanger manufacturing method and a heat exchange plate used in the method, capable of significantly increasing an integrated part of plates adjacent to each other and significantly improving compressive strength of the heat exchanger by surely and quickly diffusion-joining a contact part of the stacked plates in a manufacturing process of the heat exchanger with the heat exchange plates having the prescribed surface shape.例文帳に追加

所定の表面形状を採用した熱交換用プレートによる熱交換器の製造過程で、重ね合せたプレート同士の接触箇所を確実且つ速やかに拡散接合して、隣合うプレートの一体化部分を大幅に増加させ、熱交換器の耐圧強度を大幅に高められる熱交換器製造方法、及び、当該方法で用いられる熱交換用プレートを提供する。 - 特許庁

To obtain a composite skin and a molding which hold adhesion to a urethane foam to be a foamed layer by preventing the surface migration of a thermoplastic elastomer composition for slush molding which keeps powder fluidity irrespective of molding times, oligomer components contained in an inner layer even when the composite skin and the molding are allowed to stand, process oil, a stabilizer, a catalyst, and others.例文帳に追加

成形回数にかかわらず、粉体流動性を維持するスラッシュ成形用熱可塑性エラストマー組成物や、また複合表皮や成形体を放置しても内層に含まれるオリゴマー成分をはじめ、プロセスオイルや安定剤や触媒等の表面移行を阻止して発泡層になるウレタンフォームとの接着性を保持する複合表皮や成形体の提供を目的とする。 - 特許庁