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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9598件
To provide an electrophotographic photoreceptor which permits easy formation of a uniform particle dispersion surface layer even after manufacture of a photoreceptor and can thereby improve durability performance, does not cause an adverse effect in electrophotographic characteristics, and reduces the change in the electrophotographic characteristics particularly under high-temperature and high-humidity environment, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device.例文帳に追加
容易に感光体作製後も均一な粒子分散表面層を形成することができ、これによって耐久性能に優れ、更に電子写真特性に弊害が生じず、特に高温高湿の環境下での電子写真特性の変化が少ない電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供すること。 - 特許庁
Further, in the process for producing the objective surface-treated pigment, a pigment is dispersed in the reaction solvent, heated together with ferrocene in the presence of aluminum chloride and aluminum to form the pigment bearing cyclopentadienyliron complex sites on the pigment surfaces, finally an acidic or basic functional group is introduced into the cyclopentadienyliron complex site of the pigment bearing the cyclopentadienyl ring.例文帳に追加
反応溶剤中で顔料を分散させ、塩化アルミニウムとアルミニウム存在下、フェロセンとともに加熱して顔料表面にシクロペンタジエニル鉄錯体部位を有する顔料とし、次にこのシクロペンタジエニル鉄錯体部位を有する顔料のシクロペンタジエニル環に酸性または塩基性官能基を導入する表面処理顔料の製造方法。 - 特許庁
Ammonium hydrogencarbonate is added in a process for forming a precipitate by adding an alkali to an aq. soln. of a salt of a rare earth element and the resultant cake is separated by solid-liquid separation and fired at 300-900°C to produce the objective rare earth oxide having ≤0.5 μm Fischer diameter, ≥30 m2/g specific surface area and ≤250 Å crystallite size.例文帳に追加
フィッシャー径が0.5μm以下、比表面積が30m^2 /g以上、且つ結晶子サイズが250Å以下の希土類酸化物、および希土類元素の塩の水溶液に、アルカリを添加して沈殿を生成する過程で重炭酸アンモニウムを添加して得られるケーキを固液分離し、300℃以上900℃以下で焼成する希土類酸化物の製造方法。 - 特許庁
The insulating resin with the copper foil is manufactured through a process such that an insulating resin layer is formed on the single surface of the copper foil to form the insulating resin with the copper foil which is, in turn, cut into a necessary size and at least the cut of the insulating resin with the copper foil is treated with a liquid not dissolving the insulating resin with the copper foil.例文帳に追加
銅箔付き絶縁樹脂の製造方法において,銅箔の片面に絶縁樹脂層を形成し,必要なサイズに切断した後に,少なくとも銅箔付き絶縁樹脂の切断部を,前記銅箔付き絶縁樹脂を溶解しない液体にて処理する工程を経ることを特徴とする銅箔付き絶縁樹脂の製造方法。 - 特許庁
To provide a mold for injection molding usable in manufacturing a resin molded article wherein a first sheet material having no rigidity is embedded under holding in a predetermined shape at a pre-determined position and further a resin molded article wherein a second sheet material is formed in a surface at the same time with injection molding, and also provide a manufacturing process of the resin molded articles using the mold for injection molding.例文帳に追加
それ自体に剛性のない第1シート体が所定の形状・位置に維持されながら埋設された樹脂成形品、更に射出成形と同時に第2シート体が表面に形成される樹脂成形品の製造に用いられる射出成形用金型及びこれを用いた樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
A pair of grinding wheels are moved toward the center of the spectacle lens, by allowing the pair of rotating grinding wheels to abut on an outer peripheral end surface of the spectacle lens L from the respective directions of the direction along a vertical reference line of the spectacle lens L before the lens shape grinding and the direction along a horizontal reference line orthogonal to the vertical reference line (a rough grinding process).例文帳に追加
玉型加工前の眼鏡レンズLの垂直基準線に沿った方向及び垂直基準線に直交する水平基準線に沿った方向の各方向から、眼鏡レンズLの外周端面に、回転する一対の砥石を当接させ、この一対の砥石を眼鏡レンズの中心に向かって移動させる(粗加工工程)。 - 特許庁
A ball 3 is made of silicon nitride and a shot blasting process for introducing dislocation into a ceramic crystal formed on the surface of the ball 3 is carried out by blasting a shot comprising particles having specific gravity of ≥3.0, Vickers hardness of ≥400 and an average particle diameter of ≥200 μm and ≤1,000 μm and after that, a polish finishing work is carried out.例文帳に追加
玉3を窒化珪素製とし、その表面に、比重が3.0以上で、ビッカース硬さが400以上で、平均粒径が200μm以上1000μm以下の粒子からなるショットを投射することにより、前記表面をなすセラミックス結晶に転位を導入するショットブラスト工程を行った後に、仕上げ研磨加工を行う。 - 特許庁
In the process for producing an electronic component, an Sn-Bi alloy plating layer constituting a connection conductive layer 8 formed on the surface of a lead 2 is melted by immersing it, for a very short time of 0.2-5 sec, into a fluorine based inactive chemical liquid heated at 220-280°C which is higher than the melting point of the Sn-Bi alloy plating layer.例文帳に追加
開示される電子部品の製造方法は、リード2の表面に形成した接続用導電層8を構成するSn−Bi合金めっき層を、Sn−Bi合金めっき層の融点以上である220〜280℃に加熱したフッ素系不活性化学液内に0.2〜5秒間のごく短時間浸漬することで溶融させる。 - 特許庁
In the steel tapping process from the converter 1 into the ladle 4, after forming cover-slag 3b on the surface of molten steel 2c in the ladle by adding slag-making agent 7a, deoxidation is performed by adding aluminum 9 and successively, the desulfurization of the molten steel is performed by adding a desulfurizing agent 7b having ≥90 mass% constituting ratio of ≤15 mm grain size.例文帳に追加
転炉1から取鍋4への出鋼工程において、造滓剤7aを添加し取鍋内溶鋼2cの表面にカバースラグ3bを形成した後、アルミニウム9の添加により脱酸し、次いで、15mm以下の粒度の構成比率が90質量%以上の脱硫剤7bを添加することによって溶鋼の脱硫を行う。 - 特許庁
The method for producing the paper or the paperboard including a step for coating a sizing liquid 2 at least on one surface of the wet paper 1 under papermaking process of the paper or the paperboard includes: coating the sizing liquid 2 in 10-25 wt.% concentration on the wet paper 1 having the water content in a range of 10-25 wt.%, and subjecting the resultant wet paper 1 to post drying treatment.例文帳に追加
紙又は板紙の抄紙工程中で湿紙1の少なくとも一方の表面にサイズ液2を塗布する工程を含む紙又は板紙の製造方法において、湿紙1の水分量が10〜25重量%の領域で湿紙1に濃度が10〜25重量%のサイズ液2を塗布し、その後湿紙1を後乾燥処理する。 - 特許庁
The method for producing Hishio comprises a process of making rice malt where a mixture comprising grain milling wheat soaked in water and roasted soybeans is steamed, and thereafter, Aspergillus oryzae is inoculated in the steamed mixture; wherein (1) white having 30-80% of cleaned yield, and (2) soybeans roasted under such condition as to cause overmodulation on only the surface of its cotyledon tissue.例文帳に追加
水浸漬した精白小麦と、炒熱した大豆との混合物を蒸煮し、次いで蒸煮後の混合物に、麹菌を接種する製麹工程を含むひしおの製造方法であって、1)精白歩留まりが30〜80%である精白小麦2)子葉組織の表面のみ過変性される条件で炒熱された大豆を使用することを特徴とするひしおの製造方法。 - 特許庁
The uniformity of the film thickness of a BARC is improved by a process for embedding a structure in which an organic material different from the BARC is applied at least once so that flatness is assured to an extent that does not influence lithography and the organic material is etched once and planarizing the organic material by removing the organic material so that the surface of an embedded layer is exposed by etching back.例文帳に追加
さらに、リソグラフィへの影響が無い程度の平坦性が確保できるようにBARCとは異なる有機材料を少なくとも一回塗布して一度エッチングした構造を埋め込み、エッチバックによって被埋込み層の表面が出るように有機材料を除去して平坦化する工程により、BARCの膜厚の均一性を改善する。 - 特許庁
To provide a process cartridge and an image forming apparatus that can suppress deterioration of image quality caused by passage of residual toner after transfer through a latent image formation area during latent image formation and minimize a potential quantity varying before a latent image carrier surface charged by a charging means reaches a development area.例文帳に追加
転写残トナーが潜像画像形成中に潜像形成領域を通過することによって生じる画質劣化を抑制するとともに、帯電手段により帯電された潜像担持体表面が現像領域に到達するまでに変化する電位量を最小にすることができるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
A nonwoven fabric comprising heat resistant fibers and fibrillation liquid crystal polymer fibers is subjected to at least one surface treatment selected from low temperature plasma processing, surfactant processing, grafting, sulfonation, fluorination, hydroentaglement process, and resin coating thus producing a separator for an electrochemical element, e.g. a capacitor.例文帳に追加
少なくとも耐熱性繊維と、フィブリル化液晶性高分子繊維とを含有する不織布に、低温プラズマ処理、界面活性剤処理、グラフト処理、スルホン化処理、フッ素処理、水流交絡処理、樹脂コーティング処理から選ばれる少なくともひとつの表面処理が施されていることを特徴とする、キャパシタ等の電気化学素子に用いることができるセパレータ。 - 特許庁
The manufacturing method of the optical film at least includes a process of preparing a coating solution by dissolving and/or dispersing a mesomorphism compound in a solvent and a process of applying the coating solution onto the surface of a first optical anisotropic layer containing non-liquid crystalline polymer to form a second optical anisotropic layer on the first optical anisotropic layer.例文帳に追加
少なくとも液晶化合物を溶剤に溶解及び/又は分散させて塗布液を調製する工程、及び該塗布液を非液晶性ポリマーを含有する第1の光学異方性層の表面に塗布して、該層上に第2の光学異方性層を形成する工程を少なくとも含む光学フィルムの製造方法であって、前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、該溶剤のみを第1の光学異方性層の表面に塗布した場合に、下記式(1)及び(2)を満足する溶剤から選択されることを特徴とする光学フィルムの製造方法である。 - 特許庁
The method for separating a semiconductor substrate, with a low-dielectric material deposited thereon, into individual chips comprises a first process wherein a blade using resin as its main binder cuts into the surface covered by a dielectric material at least to a level where the semiconductor material is exposed, and a second process wherein the blade cuts off the exposed semiconductor material.例文帳に追加
低誘電体絶縁材料が半導体物質上に積層された基板を個々のチップに分割する,低誘電体絶縁材料を積層した基板のダイシング方法において;レジンを主結合剤として使用したブレードによって,基板の低誘電体絶縁材料層が積層された面側から,少なくとも半導体物質が露出する深さまで,基板を切削する,第1の工程と;露出した半導体物質を切断する,第2の工程と;を含むことを特徴とする,低誘電体絶縁材料を積層した基板のダイシング方法が提供される。 - 特許庁
A powder of hydrogen storage alloy provided with a surface layer containing at least nickel metal or nickel compound is mixed with a water solution containing lithium salt and subjected to a heating process so that the surface layer containing lithium-containing nickel oxide is formed on the surfaces of the powder, and a hydrogen storage alloy electrode 2 is fabricated using this alloy powder and used in the negative electrode of the alkaline storage battery.例文帳に追加
少なくともニッケル金属又はニッケル化合物を含む表面層が形成された水素吸蔵合金粉末をリチウム塩を含む水溶液と混合させた後、この水素吸蔵合金粉末を加熱処理して、水素吸蔵合金粉末の表面にリチウム含有ニッケル酸化物を含む表面層を形成し、このようにリチウム含有ニッケル酸化物を含む表面層が形成された電極用水素吸蔵合金粉末を用いて水素吸蔵合金電極2を作製し、この水素吸蔵合金電極をアルカリ蓄電池の負極に使用した。 - 特許庁
Concerning colloidal solution of metal nanoparticles having at least one of surface enhanced Raman activity function, the metal nanoparticle colloidal solution containing a detection sample is dropped onto a substrate having or setting a higher electrode potential than a metal electrode potential of a colloidal metal, and molecules adsorbed on the metal nanoparticle surface is irradiated with prescribed laser light in an aggregation process on the substrate of the metal nanoparticles, to thereby measure Raman scattered light generated from adsorbed molecules.例文帳に追加
少なくとも1種の表面増強ラマン活性機能を有する金属ナノ粒子のコロイド溶液を、コロイド金属の金属電極電位より高い電極電位を有するまたは設定される基板上に被検出試料を含む金属ナノ粒子コロイド溶液を滴下し、金属ナノ粒子の基板上での凝集過程で金属ナノ粒子表面に吸着させた分子に所定のレーザ光を照射し吸着分子から発生するラマン散乱光を測定することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a polytetrafluoroethylene powder which can be used for producing a molded product with improved surface roughness Ra, tensile strength and/or tensile elongation, as compared with a conventional powder and with favorable dielectric breakdown strength, and optionally further with excellent apparent density and/or powder fluidity, and a process for production of a powder of polytetrafluoroethylene for use in molding.例文帳に追加
本発明は、成形体において、表面粗度Ra、引張強度及び/又は引張伸びを従来よりも向上させることができ、また、絶縁破壊強度を良好にすることができ、更に、所望により見掛け密度及び/又は粉末流動性にも優れるポリテトラフルオロエチレン粉末、並びに、ポリテトラフルオロエチレン成形用粉末の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To stably provide toner having good cleaning property and giving high picture qualities by: creating the surface feature of toner particles giving good cleaning property and stable flowability by use of an additive different from conventional one and through a mixing process in a high-speed rotator; and specifying an evaluation of flowability with high sensitivity and high accuracy as the evaluation of the flowability of the particles.例文帳に追加
クリーニング性が良く安定した流動性の得られるトナー粒子の表面形状を従来とは異なる添加剤および高速回転体での混合処理により作りだし、その粒子の流動性の評価を高感度・高精度な流動性の評価で規定することにより、クリーニング性の良い高画質が得られるトナーを安定して提供できるようにすること。 - 特許庁
To provide a hydrophilic fluroresin particle which has a significantly improved surface wettability at no expense of the chemical stability, low friction, weather resistance, etc. inherent in a fluroresin and does not adversely affect the subsequent processes and the moldings and a process by which the hydrophilic fluroresin particle is efficiently and reliably manufactured.例文帳に追加
フッ素樹脂が本来有している化学的安定性、低摩擦性、耐候性等を損なうことなく、かつ、後工程や成型品に対する悪影響を惹起することなく表面の濡れ性の十分な向上が達成された親水性フッ素樹脂粒子、並びにそのような親水性フッ素樹脂粒子を効率良くかつ確実に製造することを可能とする方法を提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing a photocatalyst element where a thin film of tungsten oxide is formed on a substrate includes a plating processing step that forms a thin film of tungsten on the surface of the substrate by a molten salt plating process, and an oxidization processing step that forms a thin film of tungsten oxide by oxidizing a thin film of tungsten.例文帳に追加
基板上にタングステン酸化物の薄膜が形成された光触媒素子の製造方法であって、溶融塩めっき法により、基板の表面にタングステンの薄膜を形成させるめっき処理工程と、タングステンの薄膜を酸化することにより、タングステン酸化物の薄膜を基板上に形成させる酸化処理工程とを有している光触媒素子の製造方法。 - 特許庁
Further, a buried collector layer 103 is formed by ion-implanting (151) second conductivity second impurities to the semiconductor single crystal substrate 100 in a direction having an inclined angle to the normal line direction of the principal surface of the semiconductor single crystal substrate 100, with an implantation energy higher than that in the ion implantation process of the first impurities.例文帳に追加
また、半導体単結晶基板100の主面の法線方向に対して傾斜角度を持つ方向に沿って半導体単結晶基板100に、前記第1不純物のイオン注入処理における注入エネルギーよりも高い注入エネルギーで、第2導電型の第2不純物をイオン注入(151)することにより埋め込みコレクタ層103を形成する。 - 特許庁
The problem of the shortening of a process regarding the removal of an incomplete chip on quality at the peripheral end section at a time when the metallic pattern is formed on the whole surface and the shortening of the blade at a time when the metal is left is solved, and pre-alignment can also be corrected.例文帳に追加
本発明はウエファ周端部に白抜きパターンを用いることにより、ウエファ周端部のレジストを除去してウエファ周端部のメタルをエッチングするもので、全面にメタルパターンを形成した場合の周端部の品質上不完全チップの削除に関わる工程の短縮やメタルを残した場合のブレードの短命化の問題を解決し、プリアライメント補正も可能とするものである。 - 特許庁
This dredging method comprises processes for: installing a dredging pipe at the water bottom of a dredging object area, a process for fluidizing sediment at the water bottom; dredging by sucking the fluidized sediment by the dredging pipe; feeding air into the dredging pipe after the completion of dredging to allow the dredging pipe to surface; and moving the dredging pipe which surfaced.例文帳に追加
この浚渫方法は、浚渫対象域の水底に浚渫パイプを設置する工程と、水底の土砂を流動化させる工程と、流動化した土砂を浚渫パイプが吸込むことで浚渫を行う工程と、浚渫が終了してから浚渫パイプ内にエアーを送り込み浚渫パイプを浮上させる工程と、浮上した浚渫パイプを移動させる工程と、を含む。 - 特許庁
To greatly improve productivity of semiconductor package assembling step by simultaneously conducting assembling of a number of printed circuit board units for every unit process and to remove an excessive hardened resin sealing material on a mode runner gate and on a mold runner between gates, without the possibility of damaging the surface of the printed circuit board.例文帳に追加
単位工程毎に多数の印刷回路基板ユニットに対する組立を同時に遂行し半導体パッケージ組立工程の生産性を大幅に向上させ、モールドランナーゲート上及びゲート間のモールドランナー上に硬化した余剰の樹脂封止材を印刷回路基板表面への損傷の心配なく除去する半導体パッケージ用マトリックスタイプ印刷回路基板を提供する。 - 特許庁
The process for fabricating a group III nitride based compound semiconductor laser comprises a step for forming a plurality of semiconductor layers composed of a group III nitride based compound semiconductor on a substrate, a step for forming an electrode narrower than the semiconductor layer on the surface thereof, and a step for forming a ridge by etching the semiconductor layer using the electrode as a mask.例文帳に追加
III族窒化物系化合物半導体レーザの製造方法において、基板上にIII族窒化物系化合物半導体から成る複数の半導体層を形成する工程と、前記半導体層の表面に、前記半導体層よりも狭い幅を有する電極を形成する工程と、前記電極をマスクとして前記半導体層をエッチングし、リッジ部を形成する工程とを含む。 - 特許庁
In this laser desensitizing processing means 32, a laser light emitted from a laser device by a light transmission means 33 is guided, and the guided laser light is radiated from a laser irradiation part 62 toward a maintaining objective location, to perform the surface reform of the maintaining objective location and laser desensitizing process, so that preventive repair and maintenance can be stably done.例文帳に追加
レーザ脱鋭敏化処理手段32には、光伝送手段33によりレーザ装置から発振されたレーザ光が案内され、案内されたレーザ光はレーザ照射部62から保全対象箇所に向けてレーザ光照射され、保全対象箇所の表面改質、レーザ脱鋭敏化処理を行ない、予防補修および予防保全作業を安定的に行なうようになっている。 - 特許庁
To allow energy saving, by performing heat-absorbing operation for a processing object shortening the time required for setting change in the surface temperature of a roller body to low temperature side, or cooling an iron core or an induction coil constituting a magnetic flux generation mechanism, without having to provide a mechanism for circulating a cooling fluid, and then recovering surplus heat in the cooling process as electrical energy.例文帳に追加
冷却流体を流通させる機構を設けることなく、処理物の奪熱運転可能、ローラ本体の表面温度の低温側への設定変更にかかる時間を短縮可能、又は磁束発生機構を構成する鉄心又は誘導コイルを冷却可能にし、その冷却過程における余剰熱を電気エネルギーとして回収して省エネルギーを可能にする。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor having a conductive support and a photosensitive layer and a color electrophotographic process having an electrostatic charging means in contact with the electrophotographic photoreceptor and a developing means, the spacing between the end position of the electrostatic charging means and the end position of the developing means is within 8.0 mm and the surface layer of the electrophotographic photoreceptor contains a polyarylate having a specific structural unit.例文帳に追加
導電性支持体及び感光層を有する電子写真感光体及び電子写真感光体に接した帯電手段及び現像手段を有するカラー電子写真プロセスにおいて、該帯電手段の端部位置と該現像手段の端部位置の間隔が8.0mm以内であり、かつ、該電子写真感光体の表面層が、特定の構成単位を有するポリアリレートを含有する。 - 特許庁
The substrate for high integrity electrode is provided by adjusting the thickness by laminating the green sheets, carrying out sintering by a vacuum heat pressure sintering process with the above as material, this laminating and repeating sintering, further by a ceramics substrate the lamination holding, making high density by calcining and sintering at high temperature, and coating an electrolyte layer and an electrode layer by screen printing on the surface and sintering.例文帳に追加
該グリーンシートを積層して厚さを調整し、これを素材として真空熱圧焼結プロセスにより焼結し、これを積層して焼結するプロセスを繰り返し、さらにセラミック基板で挟持して、仮焼、高温度焼結して高密度化し、表面にスクリーン印刷等により、電解質層、電極層を塗布して焼結することにより高度整合性電極用基板とする。 - 特許庁
Before the coating process, particulates for speeding up settling velocity are adhered at least on the surface of phosphor particles of the kind which have the slowest settling velocity in the solvent.例文帳に追加
複数種類の蛍光体粒子を溶媒に懸濁させてなる懸濁液を、略鉛直状態に保持した直管状のガラス管の内面に塗布する塗布工程を含む蛍光ランプの製造方法において、前記塗布工程前に、少なくとも前記溶媒中における沈降速度の最も遅い種類の蛍光体粒子の表面に、沈降速度を速めるための微粒子を付着させることを特徴とする - 特許庁
Flowable chips are a polycrystalline silicon piece group which comprises polycrystalline silicon pieces prepared by a chemical vapor deposition process and having bulk impurities at a level not exceeding 0.03 ppma and surface impurities at a level not exceeding 15 ppba, and which moreover has a controlled particle size distribution and generally has nonspherical morphology.例文帳に追加
本発明の流動性チップは、化学的気相成長法で製造されかつ0.03ppmaを超えないレベルのバルク不純物と15ppbaを超えないレベルの表面不純物とを有する多結晶シリコン片で構成される多結晶シリコン片群であって、しかも制御された粒度分布を有しかつ概して非球状モルフォロジィを有する多結晶シリコン片群から成る。 - 特許庁
In the process of flattening the surface of the semiconductor layer, when the minimum irradiating energy density required for completely melting the semiconductor layer by irradiation of the laser beam is 100%, the irradiating energy density of the laser beam for irradiating the semiconductor layer is 72-98%, preferably 85-96%.例文帳に追加
そして、前記半導体層の表面を平坦化する工程において、前記レーザ光の照射により前記半導体層が完全溶融するのに必要な最小の照射エネルギー密度を100%としたとき、前記半導体層に照射する前記レーザ光の照射エネルギー密度を72%以上98%以下とし、好ましくは85%以上96%以下とする。 - 特許庁
To provide a plating pretreatment method and plating method which do not undergo a surface roughening process in plating the surfaces of polymeric materials having carbon-hydrogen bonds in molecular structures, i.e., plastic products, fibrous or textile products and obviate the discharge of environmentally burdening emission materials, such as discharge of heavy metals.例文帳に追加
この発明は、分子構造中に炭素−水素結合を有する高分子材料、すなわちプラスチック製品、繊維又は繊維製品等の表面にめっきをするに当たって、表面粗化工程を経ることなく、また、重金属の排出などの環境に負荷のかかる排出物を排出することのない、めっき前処理方法およびめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
This tool has a support 11 which has rigidity to prevent the deformation by an external environmental change during process stage conveyance and supports the work substrates 1 on its front surface, a plurality of through-holes 11a for vacuum suction for attracting and supporting the substrates 1 on the support 11 and silicone rubber 12 for supporting the substrates 1 by tacky adhesive force at all times to the support 11.例文帳に追加
工程搬送時に外的な環境変化によって変形しない剛性を有し、且つ、表面にワーク基板1を支持する支持体11と、上記ワーク基板1を、上記支持体11に吸着支持するための複数の真空吸引用の貫通孔11aと、上記ワーク基板1を、上記支持体11に粘着力で常時支持するためのシリコーンゴム12とを有する。 - 特許庁
The electrophotographic apparatus and the process cartridge include an electrophotographic photoreceptor, having a photosensitive layer on a substrate and a contact charging device for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor by a contact charging member, disposed in contact with the electrophotographic photoreceptor, where the dynamic friction coefficient μ of between the electrophotographic photoreceptor and the contact charging member is 0.04-0.25.例文帳に追加
支持体上に感光層を有する電子写真感光体と、該電子写真感光体に接触配置された接触帯電部材によって該電子写真感光体の表面を帯電するための接触帯電手段とを有し、該電子写真感光体と該接触帯電部材との動摩擦係数μが0.04以上0.25以下である電子写真装置およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁
To provide a fish culture feed additive having as the main raw material squid guts, easily usable for sea surface fish culture, especially when added to a shrimp feed, supplying nutrient balance naturally, and most suitable energy and amino acid each necessary for shrimp growth, and further supplying suitable amount of cholesterol to promote prompt growth of shrimp during a molting process, and to provide a method for producing the additive.例文帳に追加
イカ内臓を主原料とし、海水面養魚において活用が容易であり、特にエビ飼料に添加した場合、栄養素の均衡は勿論のこと、エビが成長するのに必要な最適のエネルギーとアミノ酸とを供給し、さらに脱皮過程においては適量のコレステロールを供給してエビの速やかな成長を促す養魚飼料添加剤及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
A process for forming a gettering site comprises the steps of: forming a semiconductor film containing a rare gas element; forming a semiconductor film having an amorphous structure containing a high-concentration rare gas element, amorphous silicon film as a major example, on the surface of a second semiconductor film by treating the film for generating plasma of a rare gas element, carbon, or oxygen; and gettering the semiconductor film.例文帳に追加
ゲッタリングサイトを形成する工程として、希ガス元素を含む半導体膜を形成した後、希ガス元素、炭素、または酸素のプラズマを発生させる処理を行うことで第2の半導体膜表面に高濃度の希ガス元素を含ませた非晶質構造を有する半導体膜、代表的にはアモルファスシリコン膜を形成した後、ゲッタリング処理を行うものである。 - 特許庁
The process for producing a hydrophilic resin comprises melt-kneading pulp fibers equipped with a step of being impregnated with a surface active agent and thereafter being sprayed with a dispersion obtained by dispersing a thermoplastic resin rich in viscosity into water and a thermoplastic resin which comes to a matrix with a hydrophilic resin showing a lower melt viscosity than the thermoplastic resin or the like.例文帳に追加
この発明に係る親水性樹脂の製造方法は、界面活性剤を含浸させた後に、粘性に富む熱可塑性樹脂を水にディスパージョンしたものを吹き付ける工程を備えたパルプ繊維と、マトリックスとする熱可塑性樹脂と、を熱可塑性樹脂よりも低い溶融粘度を呈する親水性樹脂などとともに溶融混練して成ることを特徴とする。 - 特許庁
The method is for forming a conductive structural portion on a substrate and includes a process, in which a metal compound is reacted with a reducing agent under existence of a stabilizer in a reaction mixture of non-solvent in a substance containing the metal compound the reducing agent, and the stabilizer and a plurality of metal nanoparticles having molecules of the stabilizer on the surface of the metal nanoparticles are formed.例文帳に追加
基板上に導電性構造部を形成する方法であり、該方法は、金属化合物、還元剤及び安定剤を含む実質的に無溶媒の反応混合物内において安定剤の存在下で金属化合物を還元剤と反応させて、金属ナノ粒子表面に安定剤の分子を有する複数の金属ナノ粒子を形成する工程を含む。 - 特許庁
To provide an organic polymeric phosphorescent compound able to be formed into films from the solution of an organic solvent, water or the like in a wet process and bring the films to have large surface areas at low cost, stable and having long life and able to emit very high efficient phosphorescence in the material of an organic phosphorescent element, and also provide an organic phosphorescent element using the phosphorescent compound.例文帳に追加
有機発光素子の材料において、有機溶剤や水からの溶液から湿式法で成膜でき、大面積化が低コストで実現でき、かつ安定、長寿命であって、超高効率の発光が実現できる有機高分子の燐光発光性化合物を提供し、また前記燐光発光性化合物を用いた有機発光素子を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a developing device having a developer carrier including a plurality of kinds of electrode members to which voltages different from each other are applied and capable of performing stable development without causing lowering of image density and damage due to leak even if a value of characteristics of a surface layer is not constant, to provide an image forming apparatus including the developing device, and to provide a process unit.例文帳に追加
互いに異なる電圧が印加される複数種類の電極部材を備えた現像剤担持体を有する現像装置で、表層の特性の値が一定でなくても、画像濃度の低下やリークによる損傷が発生せず、安定した現像を行うことが可能となる現像装置、並びにこれを備えた画像形成装置及びプロセスユニットを提供する。 - 特許庁
Particularly, the process includes: disposing a constant temperature probe having a corrosive surface in a known position in the boiler; periodically removing the probe for visual and/or physical observation; calibrating the degree of corrosion on the probe based on the comparison with data for boiler components; and utilizing the calibration data to control introduction of corrosion control chemicals into the boiler.例文帳に追加
特に、腐食性の表面を有する一定温度プローブをボイラー中の既知の場所に配置し、プローブを周期的に取り出して肉眼および/または物理的な観測をし、プローブの観測およびボイラーの構成要素に関するデータとの比較に基づいてプローブ上の腐食の程度を較正し、次にこの較正データを利用してボイラー中への腐食コントロール化学剤の導入をコントロールする。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device having a resin sealing process by a transfer molding cleans the inner surface of the mold after forming a resin-sealing body to the preceding base body and before setting the subsequent base body by the use of a cleaning head for exhausting by coupling the cavity and the pot to a discrete suction-exhaust fan or a dust collection fan.例文帳に追加
本願発明は、トランスファ・モールドによるレジン封止工程を有する半導体装置の製造方法において、先行する基体にレジン封止体を形成した後、後続の基体をセットする前に、モールド金型内面をクリーニングする際に、キャビティ部とポット部が別個の吸引排気ファンまたは集塵ファンに連結して排気されるクリーニング・ヘッドを用いて実行される。 - 特許庁
In the inkjet recording method, image recording is carried out by applying an ultraviolet curable resin to a cloth treated by a pretreatment liquid, then curing the ultraviolet curable resin by irradiating the cloth with ultraviolet light, and attaching an ink composition for inkjet recording containing at least, a pigment dispersion and a polymer microparticle on the surface of the ultraviolet curable resin cured through a curing process.例文帳に追加
前処理液で処理された布帛に紫外線硬化樹脂を付着させ、該布帛に紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂を硬化させ、さらに硬化させた紫外線硬化樹脂上に、顔料分散体と、高分子微粒子とを少なくとも含むインクジェット記録用インク組成物を付着させることにより画像を記録するインクジェット記録方法。 - 特許庁
To provide a method in which a single crystal can be produced with high yield using a crystal pulling process capable of manipulating the single crystal cost-efficiently in a simple form, and the single crystal can be processed by a suitable surface treatment for forming a semiconductor wafer with less defects so that the semiconductor wafer has a particularly high final flatness not limited by fluctuation of impurity concentration.例文帳に追加
単結晶を、コスト効率よく、簡単な形式で操作することができる結晶引上げプロセスを用いて、高い歩止まりで製造し、該単結晶を、欠陥の少ない半導体ウェハを形成するために適当な表面処理により処理することができ、該半導体ウェハが、不純物濃度の変動により制限されない特に高い最終フラットネスを有している方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of a positive electrode active material for the alkaline storage battery has a cobalt compound layer formation process in which sodium hydroxide aqueous solution is supplied into an aqueous solution containing nickel hydroxide particles to keep pH within 11.5-13.5, and an aqueous solution containing cobalt ion is supplied and then, by supplying air, a cobalt compound layer is formed on the surface of the nickel hydroxide particles.例文帳に追加
水酸化ニッケル粒子を含む水溶液中に、水酸化ナトリウム水溶液を供給してpHを11.5〜13.5の範囲に保ちつつコバルトイオンを含む水溶液を供給すると共に、空気を供給して、水酸化ニッケル粒子の表面にコバルト化合物層を形成するコバルト化合物層形成工程を有する、アルカリ蓄電池用正極活物質の製造方法。 - 特許庁
To provide a cleaning agent for magnetic disk substrate having a satisfied dispersibility of particle desorbed from a substrate surface and also an excellent re-adhering prevention property, by comprising an excellent cleaning ability to the particle derived from a metallic ion represented by iron ion eluted from a device for use at a manufacturing process and also by comprising an appropriate etching property.例文帳に追加
製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method of manufacturing a polyurethane foam laminate includes a process of fusing a thermoplastic resin film 7 thermally with a polyurethane foam 6 by raising the temperature of the thermoplastic resin film 7 from its shrinking to adhering temperature at an average temperature raising rate of ≤12°C/s in the joint surface between the thermoplastic resin film 7 and the polyurethane foam 6.例文帳に追加
ポリウレタンフォーム積層体の製造方法は、熱可塑性樹脂フィルム7とポリウレタンフォーム6との接合面において、前記熱可塑性樹脂フィルム7の収縮温度から接着温度までを平均昇温速度12℃/秒以下で昇温することによって、前記熱可塑性樹脂フィルム7とポリウレタンフォーム6とを熱融着させる工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
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