「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(186ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a spin coater that is capable of stabilizing the temperature of an ultraviolet-curable resin composition upon spreading in each spin coating process in a short time, and of spreading the ultraviolet-curable resin composition over the surface of a disc substrate in a uniform thickness over multiple spin coating processes without performing large numbers of unproductive spin coating processes and to provide a temperature controlling method of the spin coater.例文帳に追加

各回の展延時の紫外線硬化樹脂組成物の温度を短時間で安定化でき、複数回に亘るスピンコート処理において、大量の捨て処理を行うことなく、ディスク基板上に紫外線硬化樹脂組成物を均一な厚さに展延することができるスピンコート装置及び該スピンコート装置の温度制御方法等の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflective film, the method being excellent in productivity, by which the antireflective film having excellent antireflection performance is manufactured without requiring a complicated process, and to provide an image display device excellent in surface frictional flaw resistance, alkali resistance and antireflection performance.例文帳に追加

生産性に優れた反射防止フイルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに優れた反射防止性を有する反射防止フイルムの製造方法および画像表示装置を提供することにあり、さらには、優れた表面耐擦傷性、耐アルカリ性、さらには反射防止性を有する画像表示装置を提供することにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode for a fuel cell is characterized by including a photocatalyst layer formation process of forming the photocatalyst layer on a substrate, jointing the photocatalyst layer to one-side surface side of the electrode member, and forming the photocatalyst layer on the electrode member by separating the photocatalyst layer from the substrate.例文帳に追加

基板上に光触媒層を形成し、当該光触媒層と電極部材の一方の面側とを接合して前記光触媒層を前記基板から剥離し、前記電極部材上に前記光触媒層を形成する光触媒層形成工程を含むことを特徴とする燃料電池用電極の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the cathode active material 153 having a lithium-metal compound oxide as a main component is provided with a surface treatment process (step S15) in which an untreated cathode active material 154 which is formed by calcining a material of the cathode active material 153 is made to contact with a treatment aqueous solution which is adjusted to pH 10-13.例文帳に追加

本発明の正極活物質の製造方法は、リチウム−金属複合酸化物を主成分とする正極活物質１５３の製造方法であって、正極活物質１５３の原料を焼成してなる未処理正極活物質１５４を、ｐＨ１０〜１３に調整した処理水溶液に接触させる表面処理工程（ステップＳ１５）を備えている。 - 特許庁

Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加

次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、ＣＭＰ遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により２次的に除去する。 - 特許庁

To provide a method of producing a magnetic recording medium having excellent smoothness of the surface, which reduces the risk of contamination, by significantly simplifying the manufacturing process compared with conventional magnetic layer working type or ion injection type production methods, in the method of producing the magnetic recording medium by depositing a magnetic layer on a base substrate and subsequently forming a magnetic pattern.例文帳に追加

本基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、従来の磁性層加工型やイオン注入型と比較して格段に製造工程を簡略化し、汚染リスクがすくなく、表面の平滑性に優れた磁気記録媒体が製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加

化合物半導体素子が形成されたＳｉＣウエハ１の表面側と、このＳｉＣウエハを保持する支持基板２とを、軟化温度が２００℃を超える接着材３により接着した後、上記ＳｉＣウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール６を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high wear resistance, excellent surface smoothness, excellent electric characteristics especially low potential of an exposure part and stability for a long time, to provide an image forming method using the photoreceptor having a long life and high performance, to provide an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

耐摩耗性が高く且つ表面平滑性に優れ、また電気的特性のうち特に露光部電位が低く長期間にわたり安定な電子写真感光体を提供することであり、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

In a process for volatilizing and removing solvent from the liquid film, formed on the substrate at the time of forming the application film on the substrate 1, having projecting and recessing parts, such as silicon wafer, solvent is volatilized while the ability for planarizing the projecting and recessing parts on the surface is maintained in the liquid film, by using a vacuum pump 12 in a chamber 11.例文帳に追加

シリコンウエハなどの凹凸を有する基板１上に塗布膜を形成する際に、基板上に形成された液状膜から溶剤を揮発除去する工程において、チャンバー１１内部で真空ポンプ１２を用いながら液状膜に表面の凹凸を平坦化させる能力を維持させながら溶剤を揮発させていく。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive sheet to be pasted on the surface of a semiconductor wafer having a patterning thereon to protect the patterning in a process for processing the semiconductor wafer that causes neither "warpage" nor "cracks" of the wafer when exposed to a high temperature even when the wafer having the pressure-sensitive adhesive sheet pasted thereon is ground very thin.例文帳に追加

パターニングを施した半導体ウェハを加工する工程において、半導体ウェハ表面に貼り合わせることによりパターニングを保護することができる粘着シートであって、粘着シートを貼着したウェハを極薄研削しても、高温下に曝した場合にウェハに「反り」や「割れ」が発生することがない粘着シートを提供する。 - 特許庁

Further, the fixing device 5 includes: a separation pawl 51 for separating paper from the surface of the fixing roller 18 after a fixing process; a cleaning sheet 65 movable in contact with the separation pawl 51; and an operation member 61 to which the cleaning sheet 65 is attached and which swings relative to the separation pawl 51, thereby reciprocating the cleaning sheet 65.例文帳に追加

更に、定着装置５は、定着ローラ１８の表面から定着処理後の用紙を分離させる分離爪５１と、この分離爪５１に接触しながら移動可能である清掃シート６５と、清掃シート６５が取り付けられ、分離爪５１に対して揺動することで清掃シート６５を往復動させる作動部材６１とを備える。 - 特許庁

The noble metal carrying process P2 comprises an adsorbing step P21 for adsorbing and carrying the noble metal particle on the surface of the raw photocatalyst material by immersing the photocatalyst material in a noble metal compound solution and a drying and heating step P22 for drying the photocatalyst material adsorbing and bearing the noble metal and then heating the photocatalyst material.例文帳に追加

貴金属担持工程Ｐ２は、原光触媒材料を貴金属化合物溶液に浸漬して貴金属粒子を光触媒材料表面に吸着、担持する吸着工程Ｐ２１と、工程Ｐ２１において貴金属が吸着、担持された光触媒材料を乾燥し次いで熱処理する乾燥熱処理工程Ｐ２２とから構成される。 - 特許庁

To provide a highly sensitive and highly reliable solid state imaging element by flattening a surface without generating the deterioration of an yield while securing the degree of freedom in a process as it is, and improving the working accuracy of a photodiode unit even upon microfabrication, pixel increasing and enlarging, in an electric charge transfer device employing an electric charge transfer electrode of a single layer structure.例文帳に追加

単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide an one-side embossed colored steel sheet in which expression of various texture and sense of color is possible by applying a print process to the surface of an embossed colored steel sheet, which has a more three-dimensional, distinctive, optimal and superior appearance, and which is various and freiendly with environment and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

片面エンボスにプリント工程を加えることにより，多様な質感及び色感を表すことができ，これによる相乗効果として凹凸部分の立体感がさらに鮮明に表現されると共に，表面汚染性の改善及び親環境理念を導入することにより，機能性と意匠性を共に持つ片面エンボスカラー鋼板に関する。 - 特許庁

An insecticidal component is mixed with an emulsion resin for improving the workability of ant preventive construction work by eliminating a process of removing the ant preventive sheet having no effect, and is sprayed on, for example, an ant preventive sheet surface made of an EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer) and a foundation rising part to form an ant preventive resin coating film.例文帳に追加

効力の無くなった防蟻シートを取り外す工程を省略し、防蟻施工の作業性を改善するため、殺虫成分をエマルション樹脂と混合し、たとえばＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル共重合体）製防蟻シート表面ならびに基礎立ち上がり部分に散布することにより、防蟻樹脂皮膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide a magnetic disk glass substrate preventing the occurrence of dust and adhesion of particles to the magnetic disk surface during a magnetic disk production process by regulating an outer peripheral edge shape of the glass substrate, to provide a production method wherein a magnetic recording layer is formed on the magnetic disk glass substrate, and also to provide a magnetic disk.例文帳に追加

ガラス基板の外周端部形状を規定し、磁気ディスク製造工程における発塵を防止して磁気ディスク表面へのパーティクル付着を防止しうる磁気ディスク用ガラス基板、ならびにその磁気ディスク用ガラス基板に磁性記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法および磁気ディスクを提供する。 - 特許庁

Both parts are manufactured by a simple industrial process, a function for adjusting and protecting various fixing means and diffusion means is included in them and further it is possible to select an application form under optional states such as adhesion by a magnet or an adhesive agent or bending it to stand up on a horizontal surface except hanging-down operation.例文帳に追加

両方の部分は追加の部分なしに単一の工業プロセスで製造され、様々な取付手段や拡散手段を調整し保護する機能が組み込まれ、さらに、吊り下げ以外に、磁石や接着剤による接着、あるいは折り曲げて水平な表面上に自立させるといった、任意の状態に合わせてその適用形態を選別することができる。 - 特許庁

The dry etcher comprises an evacuatable chamber 5, a chemical species generating source 2 mounted in the chamber 5 for generating a chemical species 3 having etching actions, and a substrate holder 1 disposed in the chamber 5 for holding a plurality of substrates 4 under process to expose them to the chemical species 3, thereby etching the surface of each substrate.例文帳に追加

ドライエッチング装置は、真空排気可能なチャンバ５と、チャンバ５に搭載されエッチング作用を有する化学種３を発生する化学種発生源２と、チャンバ５内に配され処理対象となる基板４を複数個保持して化学種３に暴露するための基板保持部材１とを有し、各基板４表面のエッチング処理を行う。 - 特許庁

When the steel code for reinforcing a rubber product is manufactured by twisting some filaments which are manufactured by wet wired, a wet lubricant incorporated with resorcin is used for the above wiring process for adhering adequate resorcin to the filament surface for using the above steel code.例文帳に追加

ブラスメッキしたスチールワイヤを湿式伸線して製造された複数本のフィラメントを撚り合わせて成るゴム物品補強用スチールコードを製造する際に、上記伸線工程に使用する潤滑剤として、レゾルシンを添加した湿式潤滑剤を用いて、上記スチールコードに使用されるフィラメント表面に適量のレゾルシンを付着させるようにした。 - 特許庁

To provide a porous carbon material which is extremely high in ratio of specific surface area in a meso-pore zone and is high in adsorption rate a manufacturing method which enables to easily obtain the porous carbon material with lower energy consumption and a simple process in a commercial production basis, and purpose of use of the porous carbon material.例文帳に追加

メソポア領域の比表面積の比率が極めて高く、吸着速度の大きい多孔質炭素材料、および該多孔質炭素材料を少ないエネルギー消費量で、かつ簡素な工程により容易に得ることができる工業的に実施可能な多孔質炭素材料の製造方法、さらには該多孔質炭素材料の用途の提供。 - 特許庁

To provide lubricant that suppresses the occurrence of image blur despite repeated image formation in a high humidity environment using a photoreceptor having a protective layer formed on the surface thereof, which is crosslinked with a crosslinking resin containing a polymerizable compound having a charge transport structure, as well as an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

本発明は、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されている感光体を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制することが可能な潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

In the preparation process for covered particles with the surface covered with a calcium phosphate layer, resin particles comprising a biodegradable resin or the like and having an average particle size of 0.01μm to 1,000 μm are dispersed or dipped in an aqueous solution containing calcium ions and phosphate ions at 30°C or higher for at least 12 hr.例文帳に追加

平均粒子径が０．０１μｍ以上１，０００μｍ以下である生分解性樹脂などからなる樹脂粒子を、カルシウムイオンおよび燐酸イオンを含む水溶液中に、３０℃以上の温度で１２時間以上分散または浸漬することを特徴とする、表面を燐酸カルシウムからなる層で被覆した被覆粒子の製造方法。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The optical fiber packaging substrate constituted in such a manner is produced by a process stage for closing the molds 31 and 32 provided with projecting parts for forming the groove 21 on the surface of the optical fiber fixing part 2 on the cavity surfaces in the state of putting the substrate 1 therebetween and a stage for injecting a resin into the cavities of the molds 31 and 32 and curing this resin.例文帳に追加

このように構成された光ファイバ実装基板は、光ファイバ固定部２の表面に溝２１を形成するための突起部（不図示）がキャビティ面に設けられた型３１，３２を、基板１を挟み込んだ状態で閉じる工程と、型３１，３２のキャビティ内に樹脂を注入し、その樹脂を硬化させる工程とにより製造される。 - 特許庁

The process comprises supplying an under fill material to a circuit board and covering the surface of the circuit board with the supplied under fill material, wherein argon plasma is irradiated on the circuit board through a masking material having an open region corresponding to the area where the under fill material is charged, and the under fill material is coated on the region where the argon plasma is irradiated.例文帳に追加

回路基板にアンダーフィル材を供給し、供給されたアンダーフィル材で回路基板表面を被覆する半導体パッケージの製造方法において、アンダーフィル材を注入する領域と対応する開口領域を有するマスク材を介して回路基板にアルゴンプラズマを照射し、アルゴンプラズマが照射された領域にアンダーフィル材を塗布する。 - 特許庁

When manufacturing an outer lens 14, a photolithography process comprising respective processes of resist coating, exposure and development is performed on a bilayer substrate 23 consisting of a flat surface substrate 21 and a flexible substrate 22, thereby, a dot pattern of a photomask 25 is accurately transferred to a resist layer 24 and a resist fine structure 24a assured of forming accuracy can be manufactured.例文帳に追加

アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。 - 特許庁

An insulating oil cover body material in a transformer conservator is formed through a process in which a thermoplastic polycarbonate polyurethane laminated cloth is composed of a nylon woven cloth and a thermoplastic polycarbonate polyurethane layer formed on each surface of the nylon woven cloth through an adhesive layer containing thermoplastic polycarbonate polyurethane, and the thermoplastic polycarbonate polyurethane laminated cloth is fusion-welded into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明の変圧器用コンサベータ内の絶縁油遮蔽体は、ナイロン織布の表裏両面に形成されている熱可塑性ポリ炭酸型ポリウレタンを含む接着剤層を介して、熱可塑性ポリ炭酸型ポリウレタン層が形成されている熱可塑性ポリ炭酸型ポリウレタン積層布を融着して所定の形状に成形してなる。 - 特許庁

To keep the polishing speed substantially equal to that before use with the regenerated cerium oxide-based abrasive and low generation frequency of scratch by regenerating a cerium oxide-based abrasive, that is, sufficiently removing glass (silicon) component adhering to the surface of abrasive without cohesion of cerium oxide-based abrasive in the process of regeneration.例文帳に追加

酸化セリウム系研磨剤を再生すること、つまり再生処理中に酸化セリウム系研磨剤を凝集させることなく、研磨剤の表面に付着したガラス（珪素）成分を十分に除去し、この酸化セリウム系研磨剤によっても使用前と実質的に同等の研磨速度と低いスクラッチの発生頻度を維持することを課題とする。 - 特許庁

In the charging member installed in the electrophotographic device and carrying out a charging process of a surface to be electrified while a voltage is applied, the AC frequency dependency of conductance in the main dispersion of a conductive elastic body layer constituting the charging member is ≥0.9 and < 1.0.例文帳に追加

電子写真装置に配設され、被帯電体面を電圧が印加された状態で帯電処理する帯電部材において、該帯電部材を構成する導電性弾性体層の主分散におけるコンダクタンスの交流周波数依存性が０．９以上１．０未満であることを特徴とする帯電部材及び該帯電部材を用いた電子写真装置。 - 特許庁

Therefore, the wall surface 121a can be finished by one process of machining (lathe machining or milling machining), which can reduce the manufacturing cost of a compressor 100 by reducing the number of man-hours for machining (machining time) of the fixed scroll 120 while decreasing the thickness (t) of the fixed side end plate portion 121 to make dead volume small.例文帳に追加

したがって、壁面１２１ａを一工程の機械加工（旋盤加工又はフライス加工等）にて仕上げることが可能となるので、固定側端板部１２１の厚みｔを小さくしてデットボリュームを小さくしつつ、固定スクロール１２０の加工工数（加工時間）を低減して圧縮機１００の製造原価を低減することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor surface treatment agent along with a manufacturing method of a semiconductor device using the same, capable of selectively and efficiently etching the insulating material of high dielectric ratio which is used in a transistor formation process in manufacturing a semiconductor device, and also capable of easily etching, in a short time, such insulating material of high dielectric ratio as is difficult to be etched.例文帳に追加

半導体デバイス製造のトランジスタ形成工程に用いられる高誘電率絶縁材料を選択的に、かつ効率よくエッチングし、さらにエッチングが困難である高誘電率絶縁材料に対しても短時間で容易にエッチングできる半導体表面処理剤及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The metal thin film 10 of which the joining face 10a is formed of a pure Al film of high reflecting efficiency, and of which the surface opposed to the color selecting electrode is formed of a pure Fe film of low reflecting efficiency is formed on the fluorescent face 2 formed on an inner face of a face plate 1 of the cathode ray tube, by one vacuum evaporation process.例文帳に追加

カラー陰極線管のフェースプレート１の内面に形成された蛍光面２上に、その接合面１０ａが高反射効率の純Ａｌ膜によって形成され、色選別電極に対向する表面１０ｂが低反射効率の純Ｆｅ膜によって形成された金属薄膜１０を１つの真空蒸着工程で形成する。 - 特許庁

To efficiency manufacture an epitaxial ferroelectric thin film element provided with excellent characteristics by solving such problems as film surface roughness in the case of using a vapor epitaxial growth method, restriction of film thickness formed each time in the case of using a sol-gel method, complexity of a process in forming a laminated structure film consisting of layers with different refractive indexes and so on.例文帳に追加

気相エピタキシャル成長法による場合の膜表面粗さの問題、ゾルゲル法による場合の一回当たりの膜形成厚みの制限、異なる屈折率の層からなる積層構造膜を形成する際の工程の複雑化などの問題を解決し、良好な特性を備えたエピタキシャル強誘電体薄膜素子を効率よく製造する。 - 特許庁

The toner density sensor is provided with a photodetecting means arranged in a position where light reflected by the surface of the image carrier can be detected by discharging light at a discharging exposure process, and a reference toner image transferred onto the image carrier is irradiated with the light by the discharging exposure, and the light reflected by the reference toner image is received by the photodetecting means.例文帳に追加

前記除電露光の除電光が前記像担持体表面で反射した光を検出できる位置に配置された光検知手段を有し、前記像担持体上にされた参照トナー像に前記除電露光により光照射し前記参照トナー像からの反射光を前記光検知手段で受光することを特徴とするトナー濃度センサ。 - 特許庁

To provide a tire vulcanizing method constituted so as to supply heat to a tire at least from the inner surface thereof and capable of satisfying a condition of an allowable vulcanization degree range and an allowable maximum temperature predetermined at every tire region without narrowing the selection width of a material used in each of the tire regions, and a setting method for a tire vulcanizing process.例文帳に追加

少なくともタイヤの内面から熱を供給してタイヤを加硫する方法において、それぞれのタイヤ部位に用いる材料の選択の幅を狭めることなく、これらのタイヤ部位ごとに予め定められた、許容加硫度範囲と許容最高温度との条件を満たすことのできるタイヤの加硫方法、およびタイヤ加硫プロセスの設定方法を提供する。 - 特許庁

On the occasion of manufacturing the laminate 1 by a process wherein the resin layer 2 having the particulates dispersed in the organic-solvent- soluble type binder resin and the thin film 3 of silicon oxide are laminated on the surface of a substrate directly or with another thin film interlaid, an anionic polymer dispersant not being neutralized by a base is used for dispersion of the particulates into the binder resin.例文帳に追加

支持体表面に、微粒子を有機溶媒可溶型バインダー樹脂に分散した樹脂層２と酸化珪素系薄膜３とを直接又は他の薄膜を介して積層して積層体１を製造するにあたって、微粒子のバインダー樹脂への分散に塩基で中和されていないアニオン性高分子分散剤を用いる。 - 特許庁

The manufacturing process comprises melting a polyacetal copolymer immediately after polymerization with a twin-screw extruder, continuously introducing the copolymer as it is molten into a surface-renewal model horizontal reactor, devolatilizing the melt under reduced pressure at a temperature not lower than the melting point and kneading and devolatilizing the polyacetal copolymer discharged from the reactor after adding additives under reduced pressure in an extruder (B).例文帳に追加

重合直後のポリアセタール共重合体を、2軸押出機で溶融させ、溶融状態のまま２軸の表面更新型横型反応機に連続的に導入し、融点以上の温度で減圧脱揮を行い、更にそこから排出されたポリアセタール共重合体を押出機（Ｂ）で添加剤の混練及び減圧脱揮を行う。 - 特許庁

To provide an excellent supporter film for a production process, enabling a high-quality film to be efficiently produced in good productivity when the polyester film is used as a supporter at the production of an optical film or the like, providing the optical film having the flat surface, hardly having defects when used for optical applications, and providing clear image in a display use.例文帳に追加

光学フィルム等を製造する際にポリエステルフィルムを支持体として用いる際に、高品質なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られた光学フィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a template substrate for a semiconductor light-emitting element, a semiconductor light-emitting element, a manufacturing method of the same, a lamp, an electronic apparatus and a machinery, which can easily prepare a clean growth surface before laminating a compound semiconductor layer of the semiconductor light-emitting element without the need for a cleaning process before being housed in a second growth device.例文帳に追加

半導体発光素子の化合物半導体層を積層する前に清浄な成長面を容易に準備することができ、第二成長装置に入れる前の洗浄工程が不要な半導体発光素子用テンプレート基板、半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ、電子機器、機械装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a creation method of a solid phase for biochemical analysis and an apparatus for biochemical analysis can solidify accurately a biochemical material such as an antigen or an antibody, suppress nonspecific adsorption of a material to be reacted specifically to a solid phase surface, and obtain a high signal/noise ratio even when a blocking process is eliminated.例文帳に追加

抗原又は抗体等の生化学物質を精度良く固相化させることが出来、なお且つ、固相表面に対して特異的に反応させる物質の非特異的な吸着を抑制し、ブロッキング工程を省略しても高いシグナル／ノイズ比が得られる生化学分析用固相の作成方法及び生化学分析容器具を提供する。 - 特許庁

A MOS gate device manufacturing process includes a first mask 30 for continuously forming a cell body 50 and a source region 51 in the cell body 50, and a second mask for forming a center opening in the silicon surface of each cell by silicon etching and consecutively for undercutting an oxide 60 surrounding the center opening.例文帳に追加

ＭＯＳゲートデバイス製造プロセスであって、該プロセスは、セルボディ５０とセルボディ５０中のソース領域５１を連続して形成するための第１のマスク３０を有し、シリコンエッチにより各セルのシリコン表面に中央開口部８０、８１を形成し続いて中央開口部８０、８１を囲む酸化物６０をアンダーカットするための第２のマスク工程を有する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting polycrystalline semiconductor film by which only such a substrate that carries a polycrystalline semiconductor film having a normal film quality can be sent to the subsequent step in a TFT(thin film transistor) manufacturing process, etc., by nondestructively inspecting the surface of the semiconductor film for state in a short time.例文帳に追加

短時間のうちに非破壊で半導体膜の表面状態を検査することにより、ＴＦＴの製造工程などにおいて、正常な膜質の多結晶性半導体膜を形成した基板のみを後工程に回すことのできる多結晶半導体膜の検査方法、 および多結晶性半導体膜の検査装置を提供すること。 - 特許庁

Therefore, the paste films 34 formed by coating have relatively large thickness corresponding to the total thickness of a screen at first but the thicknesses of them are averaged over the entire surface including uncoated parts in the printing range in the leveling treatment process and changed to thin film thickness to a degree such that the first thickness of paste is multiplied by the opening ratio.例文帳に追加

そのため、塗布形成されたペースト膜３４の厚みは、当初はスクリーンの全厚さに応じた比較的大きな厚みであるが、レベリング処理される過程で印刷範囲内のうちの塗布されていない部分を含む全面でその厚さが平均化され、当初のペースト厚みに開口率を乗じた程度の薄い膜厚に変化する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer polishing pad for a polishing process of flattening micro unevenness of a fine pattern formed on a semiconductor wafer, which meets a need for incompatible properties of uniformity of an amount of polishing on the whole surface of the wafer and of unevenness- flattening on a minute region, and causes few scratches.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、ウエハ全面内において研磨量の均一性と、微小領域での凹凸平坦化特性という相反する要求に応え、なおかつスクラッチの発生の少ない半導体ウエハ研磨用パッドを提供するものである。 - 特許庁

The surface of an aluminum alloy base material is collided with a quasicrystal-dispersed alloy or an amorphous substance-dispersed alloy having strength higher than that of the aluminum alloy base material as a solid phase state together with an inert gas at a supersonic flow by a cold spray process, so as to form a strengthening film, thus the aluminum alloy base material is strengthened.例文帳に追加

アルミニウム合金基材の表面に、前記アルミニウム合金基材よりも高強度を有する準結晶分散合金またはアモルファス分散合金からなる粉末を、コールドスプレー法により固相状態のまま不活性ガスと共に超音速流で基材に衝突させて強化皮膜を形成させ前記アルミニウム合金基材を強化する。 - 特許庁