「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(177ページ目) - Weblio英語例文検索

To carry out simultaneously a short circuit revision of TFT (Thin Film Transistor) semi conductor layer by simultaneously etching a short circuit position with the semiconductor in etching a protective film, which is set an outer surface of a pixel electrode in preparing an array substrate for a liq. crystal display device, and to dispense a special process for restoring a short circuit.例文帳に追加

液晶表示装置用のアレイ基板の製造に当たり、保護膜を画素電極の外側に設け、この保護膜のエッチング時に、半導体との短絡箇所も同時にエッチングすることにより、ＴＦＴ半導体層の短絡修正を同時に実施し、短絡修復のための特別な工程を不要にする。 - 特許庁

To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加

特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

Minute foreign matters on the surface of the base or protective coat can be removed without scratching by combining tape burnishing and ultrasonic cleaning while changing the process for the glass base and the protective coat and, also reducing the pressure of the contact roller as much as possible in tape burnishing.例文帳に追加

テープバニッシュと超音波洗浄処理を組み合わせて、ガラス基板と保護膜表面上で処理プロセスを変え、またテープバニッシュ処理時のコンタクトローラの押付け荷重を極力軽荷重で処理することにより、基板及び保護膜表面の微小異物除去がスクラッチ等を形成すること無く達成できる。 - 特許庁

The cutting process of a wafer comprises a step 52 for making the wafer as thin as 0.1 mm or less, a step 53 for forming a protective sheet having Vickers hardness of 2 or above tightly on one surface of the wafer, and a step 54 for cutting the wafer on which the protective sheet is formed by means of a grinding stone.例文帳に追加

ウエハの切断方法は、ウエハを少なくとも０．１ｍｍ以下の厚さまで薄化するステップ５２と、ウエハの一方の面にビッカース硬さ２以上の保護シートを密着形成する、保護シート形成ステップ５３と、保護シートが形成されたウエハを砥石で切断する切断ステップ５４とを有している。 - 特許庁

This method for preparing a roasted fish by roasting a fish involves a process in which powder selected from the group consisting of collagen powder, wheat flour, starch, modified starch and a mixture of these materials and/or a heat-coagulating protein solution is brought into contact with and stuck to the surface of the fish, and then the fish is roasted.例文帳に追加

魚を焙焼して焼き魚を製造する方法であって、コラーゲンパウダー、小麦粉、澱粉、化工澱粉及びこれらの混合物からなる群より選択される粉類及び／又は加熱凝固性蛋白質溶液を、魚の表面に接触・付着させて焙焼する工程を含む焼き魚の製造方法。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

When forming the shaft 1 with a bellows by using an electric resistance welded pipe, for example, while carrying annealing process, the deterioration of strength due to decarburization is suppressed by making the thickness ratio of the decarburized layer of the surface of the bellows part 1a to the wall thickness of the bellows part 1a 0.14 or less, preferably, 0.05 or less.例文帳に追加

例えば、焼鈍工程を伴いながら電気溶接鋼管を用いてベローズ付きシャフト１を形成した場合、そのベローズ部１ａの肉厚に対する当該ベローズ部１ａ表面の脱炭層の厚さの比を０．１４以下、好ましくは０．０５以下とすることにより、脱炭による強度の低下を抑制する。 - 特許庁

In a cleaning process of a dicing step, for instance, a semiconductor wafer 200 with a tape electrostatically charged by the cleaning is lifted from a cleaning stage 230 to the specific height h1 by a transferring arm 210, and in this state, the electricity on the surface side of the semiconductor wafer W is removed by an electricity removing means 70.例文帳に追加

例えば、ダイシング工程の洗浄処理において、洗浄に伴い帯電したテープ付半導体ウエハ２００を、搬送アーム２１０によって洗浄ステージ２３０から一定の高さｈ１まで持ち上げ、この状態で除電手段７０により半導体ウエハＷを表面側から除電する。 - 特許庁

Then, the element-forming surface of the silicon substrate 101 in which the opening 115 is formed is subjected to plasma processing and deposits 113, attached to the sidewall of the opening 115 in the process of forming the opening 115, are removed, the silicon substrate 101 is selectively removed to form a concave portion by using the SiN film 129 as a mask.例文帳に追加

そして、開口部１１５が形成されたシリコン基板１０１の素子形成面をプラズマに曝し、開口部１１５を形成する工程で開口部１１５の側壁に付着した堆積物１１３を除去した後、ＳｉＮ膜１２９をマスクとしてシリコン基板１０１を選択的に除去して凹部を形成する。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor substrate production method for producing the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer formed on the surface of it, the substrate is produced by using an extruded tube which is formed by the process of extruding a substrate metal material and which has a thickness deviation of ≤0.2 mm.例文帳に追加

表面に感光層が形成されて電子写真感光体が製造される電子写真感光体用基体の製造方法において、基体用金属材料を押出加工処理し偏肉が０．２ｍｍ以下である押出管を用いて基体を製造することを特徴とする電子写真感光体用基体の製造方法。 - 特許庁

When an aluminum-killed steel or an aluminum-silicon killed steel is continuously cast, the continuous casting is performed while restraining the thickness of stuck material on the inner surface of the immersion nozzle without blowing inert gas into the immersion nozzle 3, by adding REM (rare earth metal elements) into a molten steel ladle 1, a tundish 2 or at the previous process from the above.例文帳に追加

アルミキルド鋼あるいはアルミシリコンキルド鋼を連続鋳造するに際して、ＲＥＭ（希土類元素）を溶鋼鍋１やタンディッシュ２、あるいはそれよりも前工程で添加することにより浸漬ノズル３に不活性ガスを吹き込むことなく浸漬ノズル内面の付着物厚みを抑制しつつ連続鋳造するようにした。 - 特許庁

An Si substrate is subjected to isotropic etching by the use of a dry etcher of down flow-type using an oxide film 2 as a mask, and an etching groove 3 is formed so as to round a point where the flat surface of the Si substrate intersects a trench opening that is formed in a following process or a part which becomes the edge of a trench opening.例文帳に追加

酸化膜２をマスクにして、ダウンフロー型のドライエッチャーによる等方性のＳｉエッチングを行い、シリコンの平坦な面とつぎの工程で形成されるトレンチの開口部とが交わる箇所、つまり、トレンチ開口部の縁となる箇所を予めエッチングして丸めるために、エッチング溝３を形成する。 - 特許庁

To provide an IC card which excels in environment consciousness, can be incinerated, hardly causes cracking or curling, excels in surface smoothness, separation resistance of a chip, printability, heat resistance, and designability, simplifies a manufacturing process, has a small number of manufacturing steps, has high manufacturing efficiency and manufacturing workability, and is inexpensive.例文帳に追加

環境配慮適性に優れ、焼却可能で割れやカールを発生しにくく、表面平滑性、チップの耐剥離強度、印刷適性、耐熱性及び意匠性にも優れ製造工程が簡素化され、製造工程数も少なく、製造効率及び製造作業性が良好であり、かつ、安価なＩＣカードの提供。 - 特許庁

In the die bonding apparatus 1, it is requested that a stem 2 is surely placed on a stem mounting head 6 without any displacement, after the stem 2 is mounted on the stem mounting head 6, when an electronic component S is placed on the component mounting surface 27 of the stem 2 and during the heating process of a stem base 24 by a heater 9.例文帳に追加

ダイボンディング装置１において、ステム搭載ヘッド６にステム２を搭載させた後や、ステム２の部品実装面２７に電子部品Ｓを載置させる時や、ヒータ部９によるステムベース２４の加熱時などにおいて、ステム２は、位置ズレを起こすことなく、ステム搭載ヘッド６に確実に搭載させておく必要である。 - 特許庁

A process for protecting an article using an anti-icing coating includes the steps of applying upon at least one surface of an article an anti-icing composition comprising at least one polysiloxane free of additives; and curing the anti-icing composition to form an anti-icing coating exhibiting an ice shear strength of about 19 kPa to about 50 kPa.例文帳に追加

本発明によれば、防氷コーティングを用いて物品を保護する方法は、物品の少なくとも１つの表面に塗布され、防氷組成は、少なくとも１つの添加剤を含まないポリシロキサンを含み、約１９〜５０ｋＰａの氷剪断応力を示す防氷コーティングを形成するように防氷コーティング組成を硬化させる。 - 特許庁

While an anti-reflection film 9 and a resist pattern 10 are formed on the second interlayer dielectric 8, a capacitor hole 11 is formed between the surface of the second interlayer dielectric 8 and a position-controlled bottom face 11a in the first interlayer dielectric 5 through the stopper film 7 by dry etching process using the resist pattern 10 as a mask.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜８上に反射防止膜９とレジストパターン１０を形成し、このレジストパターン１０をマスクとしたドライエッチングにより第２の層間絶縁膜８の表面からストップ膜７を貫通して第１の層間絶縁膜５内に、底面１１ａの位置が制御されたキャパシタホール１１を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a zinc oxide crystal having a large surface area and a flower-like crystal shape, by which the zinc oxide crystal can be directly deposited on a base material in a solution by a simple process without being fired at a high temperature and especially without using an expensive or complicated device and which is thereby advantageous to cost reduction.例文帳に追加

簡便な工程で、高温焼成することなく、特に高価な装置や複雑な装置を用いず、溶液内で基材に直接析出させることによりコスト的に非常に有利であって、表面積が大きく、結晶形状が花状の酸化亜鉛結晶を製造する方法を提供する。 - 特許庁

An adhesion face of a first optical substrate (optical substrate L1) to a second optical substrate (optical substrate L2) is exposed to a gas in a plasma state to carry out a surface improving treatment on the adhesion face while the heat given to the first optical substrate is controlled to a heating temperature or lower in a heating process.例文帳に追加

前記第１の光学基材（光学基材Ｌ１）に加わる熱を加熱工程時における加熱温度以下に制御するとともに、前記第１の光学基材における前記第２の光学基材（光学基材Ｌ２）との接着面をプラズマ状態のガスに晒し、当該接着面に表面改善処理を施す。 - 特許庁

In addition, a horizontal path 22, for supplying the process gas supplied through a plurality of second gas supply holes 18 to a plurality of first gas supply holes 16, is formed by providing a groove to the shower region of the rear surface of one of the first electrode plate 12 or second electrode plate 14 or of both electrodes.例文帳に追加

そして、第１の電極板１２と第２の電極板１４との一方もしくは両方の、裏面のシャワー領域に溝を設けることにより、第２の複数のガス供給孔１８を通じて供給されたプロセスガスを第１の複数のガス供給孔１６に供給する水平経路２２が形成されている。 - 特許庁

This manufacturing method for the printed board includes a printing process wherein a paste material 4 is extruded toward one printing matter 5 through a cavity part by scanning a screen mask 1 with the cavity part while pressing it by means of a plurality of squeegees 2 and 3, so that a pattern can be formed on the surface of the printing matter 5.例文帳に追加

印刷基板の製造方法は、空隙部を有するスクリーンマスク１を複数のスキージ２，３で押圧しながら走査することによって、ペースト材料４を上記空隙部を通して一つの被印刷物５に向けて押し出して、被印刷物５の表面にパターンを形成する印刷工程を含む。 - 特許庁

To provide a gas supply unit and a chemical vapor deposition apparatus with which by-products resulting from a chemical vapor deposition process is immediately exhausted, so that a high quality thin film is deposited on the surface of a deposition object, a cleaning cycle for the inside of a chamber is extended, for greater productivity.例文帳に追加

本発明は、化学気相蒸着工程時に発生する反応副産物を素早く排出することにより、被蒸着体の表面に高品質の薄膜を形成でき、チャンバ内部のクリーニングサイクルが延ばされ、生産性を向上させることができるガス供給ユニット及び化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

By this arrangement, even when the disposable ampoule has not been opened, and sealing during the unsealing process is ensured in the aerosol forming apparatus (e.g., on a needle), the internal surface of the collar 15 can be engaged with a sealing element (e.g., an O ring surrounding the needle, or a seal edge).例文帳に追加

この配置は、エアロゾル生成装置における（例えば針上での）使い捨てアンプルの開封プロセス中に、使い捨てアンプルがまだ開けられておらず開封プロセス中のシールが確保されている場合でも、カラー１５の内表面がシール要素（例えば針を取り囲むＯリング又はシールエッジ）と係合可能である。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor wafer, the metal concentration of the wafer surface to be manufactured is regulated by regulating the metal concentration in a liquid directly brought into contact with the wafer so that the value is below a predetermined value in a process of manufacturing a semiconductor wafer, and a metal monitoring device used for this method.例文帳に追加

半導体ウエーハの製造工程において、ウエーハに直接接触する液体中の金属濃度を所定値以下に管理することによって、製造されるウエーハ表面の金属濃度を管理することを特徴とする半導体ウエーハの製造方法およびこれに用いる金属モニタリング装置。 - 特許庁

To provide a surface mounted antenna in which a resonant circuit including an antenna is subjected to space saving as a whole and which is assembled more easily while the resonant circuit is more inexpensive as a whole, forms the resonant circuit whose performance can be inspected in the process of components and receives a standard radio wave.例文帳に追加

アンテナを含む共振回路の全体としての省スペース化を図るとともに、組立がより容易であって、かつ共振回路の全体としてより安価であり、部品の段階で性能の検査のできる共振回路を形成した標準電波を受信するための表面実装アンテナを提供する。 - 特許庁

In the process for peeling a conventional adhesive sheet for marking, when peeling the adhesive sheet B for marking attached to an adherend A, an adhesive sheet C is attached to the surface of the adhesive sheet B for marking before simultaneously peeling the adhesive sheet B for marking and the adhesive sheet C from the adherend A.例文帳に追加

被着材Ａに貼り付けたマーキング用粘着シートＢを剥離する際に、該マーキング用粘着シートＢの表面に粘着シートＣを貼り付けた後、被着材Ａからマーキング用粘着シートＢ及び粘着シートＣを同時に剥離することを特徴とするマーキング用粘着シートの剥離方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the radiological image conversion panel having at least the phosphor layer laminated on the support is characterized by including at least a CVD process for forming the metal including layer including the metal on the non-laminated surface side of the phosphor layer by a CVD method.例文帳に追加

また、支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を、ＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を少なくとも含むことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。 - 特許庁

Since the viscosity of the polymer phase 8 or a difference in density between the polymer phase 8 and the solvent phase 9 each is measured at a liquid contact part 11 by an oscillating process viscometer 7 or remote seal type differential pressure transmitter composed by stainless steel, a hastelloy alloy and Ti or a Ti alloy, the solvent surface 10 of the polymer phase 8 can be accurately detected.例文帳に追加

ポリマー相８の粘度又はポリマー相８と溶液相９との密度差は、それぞれ、接液部１１がステンレススチール、ハステロイ合金、Ｔｉ又はＴｉ合金で構成された振動式プロセス粘度計７又はリモートシール形差圧発信器で測定するので、正確にポリマー相８の液面１０を検出できる。 - 特許庁

Oxide films 2 and 3 for a process monitor are provided on the surface of a wafer consisting of a semiconductor substrate 1 and a polysilicon film 5 is provided on the films 2 and 3, whereby a monitoring pattern 10 is formed and a voltage and/or a current is applied between the substrate 1 and the film 5 to evaluate the film quality of the films 2 and 3.例文帳に追加

半導体基板１からなるウェハの表面にプロセスモニター用の酸化膜２、３を設け、その上にポリシリコン膜５を設けることによりモニター用パターン１０を形成し、半導体基板１とポリシリコン膜５との間に電圧および／または電流を印加して前記酸化膜２、３の膜質を評価する。 - 特許庁

In the laser cutting process to cut only the upper sheet of the two-ply metal sheets in the method for molding the metal sheet laminated molding, a laser surface removing method is employed instead of the laser cutting method and at least twice or more laser is irradiated to cut and an accurate lamination is achieved to mold a high degree of metal sheet laminated molding.例文帳に追加

金属シート積層造形物の造形方法における、2枚重ねた金属シートの上のシートのみのレーザ切断工程において、レーザ切断法の代わりにレーザ表面徐却法を用いて少なくとも2回以上レーザを照射して切断することにより、精密に積層でき、高精度の金属シート積層物を造形する。 - 特許庁

In the plate-making method for the lithographic printing plate which uses the silver complex salt diffusion transfer process and in which a developing solution of ≤60 ml per square meter is applied over a plate surface of the lithographic printing plate to perform development, the developing solution includes a compound represented by formula 1.例文帳に追加

銀塩拡散転写法を利用する平版印刷版の版面に１平方メートル当たり６０ｍｌ以下の現像液を塗布して現像する平版印刷版の製版方法において、該現像液が下記一般式１で表される化合物を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide a cleaning device which removes residual toner by pressing a side of a blade consisting of a long plate-like elastic member on the surface of an image carrier, suppresses deviation of contact pressure in the long direction of the blade while suppressing costs, has high durability and high removing capability; and to provide an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

長尺な板状弾性部材からなるブレードの一辺を像担持体の表面に押しつけて残留トナーを除去するもので、コストを抑えつつブレードの長尺方向における当接圧の偏差を抑え、高耐久で除去能力の高いクリーニング装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In the process for fabricating a thin film transistor on a substrate 1, a source S_1 and a drain D_1 are formed by growing an SiGe thin film containing P or B in the source S_1 and drain D_1 forming parts on the surface of a channel C_1 which is formed of an Si polycrystalline film on the substrate 1.例文帳に追加

基板１上に薄膜トランジスタを形成する方法であって、ソースＳ_1 およびドレインＤ_1 の形成が、上記基板１上に形成されたＳｉ多結晶膜からなるチャネルＣ_1 の表面のソースＳ_1 およびドレインＤ_1 形成予定部分に、ＰまたはＢを含有するＳｉＧｅ薄膜を成長させることにより行われる。 - 特許庁

To provide a heat curing resin sheet of a clay shape and an electronic component device capable of fully filling resin into a required portion and sealing an electronic element by a simple process without hindering any electronic function part of the electronic element of a surface acoustic wave element or the like fixed to a wiring substrate, and a method of manufacturing the electronic component device.例文帳に追加

簡便な工程により、配線基板に弾性表面波素子等の電子素子の電子機能部を阻害することなく、必要部分には十分に樹脂を充填させ、電子素子を封止することができる粘土状の熱硬化型樹脂シート、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a chemical liquid cannot enter a hole easily by the influence of centrifugal force by the rotation of a semiconductor substrate and that of surface tension operating between a cleaning chemical liquid and the sidewall of a fine hole, in a cleaning process of the fine hole having high aspect ratio by a sheet type cleaning apparatus.例文帳に追加

枚葉式洗浄装置による高アスペクト比の微細孔の洗浄過程において、半導体基板の回転による遠心力の影響と、洗浄薬液と微細孔の側壁との間に作用する表面張力の影響とで薬液が孔内に入り込むことが難しく洗浄が困難である。 - 特許庁

To provide a work reversing device capable of reversely aligning a chip LED by a simple reversing mechanism, by maximizing capacity of a feeder for supplying the chip LED to a carrying process, when taping a light emitting surface of the chip LED by the so-called side view turned sideways.例文帳に追加

チップＬＥＤの発光面を横向きにした所謂サイドビューでテーピングする場合に、チップＬＥＤを搬送工程に供給するフィーダの能力を最大限に活かせるようにすると共に、簡単な反転機構によってチップＬＥＤを反転整列させることのできるワーク反転装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method of growth inhibition of microorganisms and a method for sterilizing the microorganisms, against slime-forming microorganisms attached on the flouting microorganisms and the surface of a solid in water, and further microorganisms surrounded by the slime in water systems such as various industrial process water, cooling water, or washing water.例文帳に追加

各種工業用工程水、冷却水、洗浄水などの水系において、水中に浮遊した微生物及び固体表面へのスライム付着を引き起こすスライム形成微生物、さらにスライムに囲まれた微生物に対して、スライムの付着を抑制するための微生物の生育抑制及び殺微生物方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positioning method and apparatus for the end of a solar cell module to realize accurate positioning of the end of a solar cell module by detecting the side edge of a rear surface supporting material without increase in cost for automated cutting work of excessive part of the solar cell module having completed integrated molding process.例文帳に追加

一体化成型後の太陽電池モジュールにおける余剰部の切断作業を自動化する際に、コストを増大させることなく裏面支持材の側縁を検出して太陽電池モジュール端部の正確な位置決めを行なうことができる太陽電池モジュール端部の位置決め方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an endscope for observing ultrasonic wave that can provide a good ultrasonic tomography image of an affected part in the inner part of an optically observed mucosa surface optically observed and simultaneously process the affected part with the endscope by, using an ultrasonic probe transmitting, receiving, and scanning the ultrasonic wave from the neighborhood of the tip to the side part.例文帳に追加

先端近傍から側方に向かって超音波を発受信走査する超音波プローブを用いて、光学観察される粘膜面の奥にある患部の良好な超音波断層像を得ながらその患部に対して内視鏡的処置を行うことができる超音波観測処置用内視鏡を提供すること。 - 特許庁

In the outer wall finishing construction method by outside insulation using a flexible, flat, noncombustible heat-insulating material 2, an outer wall finishing process is made to put or apply an outer wall finishing material 3 directly on the surface of the noncombustible heat-insulating material 2 in one piece with concrete 1.例文帳に追加

可撓性を有する板状の不燃断熱材２を用いる、外断熱による外壁仕上工法であって、コンクリート１と一体化した該不燃断熱材２の表面に直接外壁仕上材３を貼り付け、もしくは塗布する外壁仕上工程を行うことを特徴とする外壁仕上施工方法。 - 特許庁

This image forming device which is capable of both-side printing and can switch the process speed is provided with a pre-charge neutralizer 30 which makes the potential uniform by removing electric charges on the surface of a photoreceptor 7 having passed through a developing device 9 between the developing device 9 and a transfer charger 10.例文帳に追加

両面印字可能で、かつ、プロセス速度の切り換えが可能な画像形成装置において、感光体７の周囲であって、現像装置９と転写チャージャー１０との間に、現像装置９を通過した感光体７表面の電荷を除電して電位を均一に揃えるプレ除電器３０が設けられている。 - 特許庁

In the process for producing a film having a high surface hardness, including the steps of forming a layer containing a filler through a step of melting and kneading the filler and a resin and an extrusion step, the resin is used for the melting and kneading step after grinding.例文帳に追加

充填材と樹脂とを熔融混練する工程と、押出し成型の工程とを含む工程で充填材含有層を形成する工程を含む高表面硬度フイルムの製造方法において、該樹脂を粉砕してから前記熔融混練の工程にて使用することを特徴とする高表面硬度フイルムの製造方法。 - 特許庁

To omit a welding step from a terminal connecting process for connecting a first to fourth circuit board terminal portions 41, 43 provided extending from an FPC 5 and a control circuit board 6 to a first to fourth terminal portions 22, 24 provided at a rectangular cylinder shaped FPC case 7 extending upward from top surface of a flange 1.例文帳に追加

フランジ１の上面から上方側に延設された角筒状のＦＰＣケース７に設けられた第１〜第４フランジ端子部２２、２４に、ＦＰＣ５および制御回路基板６から延設された第１〜第４回路基板端子部４１、４３を接続する端子接続工程から溶接工程を省くことを課題とする。 - 特許庁

The fluorine inert fluid is excellent in permeability and drying characteristics, so that it is capable of restraining water marks from being formed on the surface of the substrate even if the substrate has a fine and complicated structure, and it restrains a drying process from increasing in cost because it has no adverse effect on an environment and requires no special treatment when it is disused.例文帳に追加

フッ素系不活性液体は、浸透性・乾燥性に優れているため微細化・複雑化された構造を有する基板であってもウォーターマークの発生を抑制することができ、また環境に負荷を与えないため廃棄に特段の処理を必要とせず、乾燥処理に要するコストの上昇を抑制することができる。 - 特許庁

In a method for manufacturing an inorganic body by a net paper machine process from aqueous slurry having cement as a main constituent, a particle diameter material or a constituent fine particle part is blended in the aqueous slurry and a polymer flocculant of an amount following a sum of average ratio surface areas of total powder raw material constituents is added to make the inorganic body by a long net.例文帳に追加

セメントを主成分とする水性スラリーからの網抄造による無機質体の製造方法において、水性スラリーには、粒径物質または成分微粒部を配合するとともに、全粉体原料成分の平均比表面積の和に従う量の高分子凝集剤を添加して、長網抄造する。 - 特許庁

To provide a hydrophilic resin composition which can form a film having minute and good physical properties on a surface to be coated without deteriorating the safety or hygiene aspect of a working environment and with a low energy loss in a film formation process; to provide a water-based coating composition; and to provide a method for forming a film.例文帳に追加

作業環境の安全性や衛生面が損なわれず、また、塗膜形成工程におけるエネルギー損失が少なく、かつ被塗装面に対し緻密で良好な物性を有する塗膜を形成することができる親水性樹脂組成物、水性塗料組成物、および塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁