「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a frictional force correction method for a stylus type step gage for measuring a surface shape capable of compensating frictional force generated by a frictional situation in a fulcrum portion, a change in a contact condition or the like to generate stylus pressure.例文帳に追加

支点部分の摩耗状況、接触状態の変化などにより生じ得る摩擦力を補償して針圧を発生できる表面形状測定用触針式段差計の摩擦力補正方法を提供する。 - 特許庁

In plotting an outline, perspective transformation is operated to the model for plotting an outline, and hidden face deletion is operated by using only the surface corresponding to a point of view as an object to be plotted so that the outline can be plotted (a step S5).例文帳に追加

輪郭線を描画する場合には、輪郭描画用モデルに対し透視変換等を行った後、視点に対するおもて面のみを描画対象として隠面消去を行い描画する(ステップS5)。 - 特許庁

The stem-like carbon film 14 has the long acicular shape having a spiral stripe-like step part 18 toward the tip on the outer peripheral surface near the tip and having radius decreased toward the tip.例文帳に追加

幹状炭素膜１４は、先端近傍の外周面に当該先端に向けて螺旋状の筋状段差部１８を有する半径が先端に向かうにつれて小さくなる形状を備える細長い針状である。 - 特許庁

To provide a film having excellent surface processability adapted to hard coating, printing or the like by remarkably improving adhesiveness of resin to be laminated in a later step on a layer obtained by primer-treating a resin.例文帳に追加

樹脂をプライマー処理した層と、その後の工程で積層される樹脂との接着性を格段に向上させるとともに、ハードコート加工や印刷加工等にも適用できる表面加工性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

Thereafter, as an evaluation step, in each shrinkage cavity, the fact that the risk of generating shrinkage cracking is high in the surface of the casting corresponding to the shrinkage cavity in which the shortest distance or the like is deviated from prescribed value is specified (S109).例文帳に追加

その後、評価ステップとして、各ひけ巣のうち、最短距離等が所定の規定値から外れるひけ巣に対応する鋳造品の表面においてひけ割れが生じる可能性が高いことを特定する（Ｓ１０９）。 - 特許庁

Calcium deficient carbonated hydroxyapatite (HAp) coating is developed on the metal substrate, particularly the stainless steel (316L) alloy through the biomimetic route after a surface treatment step using an aqueous solution of (4-10 wt.%) of BSA (bovine serum albumin) at room temperature.例文帳に追加

室温にてBSAの水溶液(4〜10wt%)を用いる表面処理工程後、バイオミメティック経路を通じて、金属基材、特にステンレススチール(316L)合金上にカルシウム欠乏性の炭酸化ヒドロキシアパタイト(HAp)コーティングを発達させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the unvulcanized rubber treated with the adhesion-proof treatment is a method for manufacturing including the treatment step in which the adhesion-proof component is stuck on the surface of the unvulcanized rubber molded and processed by using the adhesion-proof agent pack for the unvulcanized rubber.例文帳に追加

防着処理された未加硫ゴムの製造方法は、この未加硫ゴム用防着剤パックを用いて、防着性成分を成形加工された未加硫ゴムの表面に付着させる処理工程を含む製造方法である。 - 特許庁

To provide a resist application method for applying a resist to the whole of a surface of a semiconductor wafer having a high step pattern without causing application irregularity; and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、高段差パターンを有する半導体ウエハの表面に、塗布ムラなく全面にレジストを塗布することができるレジスト塗布方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the raw pipe accommodation step (A), a quartz glass tube 6 is accommodated in a molding die 5 having an inner surface formed to a shape corresponding to a reflection part 61 of the reflector reflecting incident light in one direction.例文帳に追加

素管収容工程（Ａ）では、入射光を一方向に反射する反射鏡の反射部６１に応じた形状に形成された内面を有する成形型５に石英ガラス管６が収容される。 - 特許庁

In a first film forming step, an antireflection film CM is formed on the entire surface of a number of three-dimensional units 2a with a roughly constant film thickness, then, the film CM has high anti-reflection characteristics.例文帳に追加

第１成膜工程において、反射防止膜ＣＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って膜の厚さを均一な状態に保って膜形成を行うことで、反射防止特性を高いものとする。 - 特許庁

The inside air circulation mode is carried out while the compressor 40 is stopped when it is judged that the exhaust gas invades the cabin and window glass surface relative humidity RHW is lower than 85% (step 250).例文帳に追加

排ガス成分が車室内に侵入してくると判定し、かつ窓ガラス表面相対湿度ＲＨＷが８５％よりも低い場合には、コンプレッサ４０を停止した状態で内気循環モードを実施する（ステップ２５０）。 - 特許庁

Then the mold 10 having the recessed part 10 in which the inclined surface chip 14 is formed is mounted on the substrate 20 and the chip 14 is fixed on the substrate 20 by the packaging pad 16 (step S140).例文帳に追加

その後、上記支持基板２０上に、傾斜面チップ１４を内部に形成する凹部１０を有する型１０を載置して、実装パッド１６により、支持基板２０上に傾斜面チップ１４を固着させる（ステップＳ１４０）。 - 特許庁

To provide a novel display device manufacturing method for eliminating a step of using UV irradiation for cleaning the electrode surface of a display device where complicated manufacturing steps and the property deterioration of a thin film transistor are caused.例文帳に追加

製造工程の複雑化及び薄膜トランジスタの特性劣化を引き起こす、紫外線照射による、表示装置の電極表面の洗浄工程を省いた、新規な表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect prevention method for reducing surface defects which occur by insufficient flame scarfing and rolling after that by forming the stable shape of a rolled stock in a blooming step.例文帳に追加

分塊圧延工程で、安定した圧延材形状を造りこむことにより、不十分な溶削やその後の圧延により発生する表面欠陥を低減するための疵防止方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass substrate for an information recording medium having excellent productivity and capable easily separating a spacer and moving to a next step without scratching the surface.例文帳に追加

容易にスペーサを分離することができ、表面に傷を付けることなく次の工程に移ることができる生産性の優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Protective protrusions are formed around bonding pads on a board using a printing ink applied in a printing step in a manufacturing process of the board, thereby protecting the bonding pad surface with the protective protrusions.例文帳に追加

基板のボンディングパッドの周囲に、当該基板の製造工程における印刷工程にて施される印刷インキによって保護凸部を形成し、当該保護凸部によってボンディングパッドの表面を保護することを特徴とする。 - 特許庁

In the SOI wafer manufacturing method, HCl gas is mixed in reactant gas in a step (f) of forming the silicon epitaxial layer on all the surface of the SOI layer of the SOI wafer having the oxide film at the terrace portion.例文帳に追加

テラス部に酸化膜を有するＳＯＩウェーハのＳＯＩ層の全面にシリコンエピタキシャル層を形成する工程（ｆ）において、反応ガスにＨＣｌガスを混合することを特徴とするＳＯＩウェーハの製造方法。 - 特許庁

In the warm shot-peening step S4, shots are projected while the spring element wire after the tempering is in the warm zone exceeding 100°C, and the compressive residual stress is generated to the deep position from the surface of the spring element wire.例文帳に追加

温間ショットピーニング工程Ｓ４では、焼戻し後のばね素線が１００℃を越える温間域にあるうちにショットが投射され、ばね素線の表面から深い位置まで圧縮残留応力が生じる。 - 特許庁

In a step in which surface processing is conducted by irradiating a plasma jet 31 from a plasma jet gun 1 to quartz glass 24, light emitting portion 32 produced by a reaction of the plasma jet 31 with the quartz glass 24 is imaged with a CCD video camera 27.例文帳に追加

石英ガラス２４にプラズマジェットガン１からプラズマジェット３１を照射し、表面加工する工程において、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との反応による発光部３２をＣＣＤビデオカメラ２７で撮像する。 - 特許庁

After a single crystal semiconductor film is formed over an insulating film by a separation step, a natural oxide film existing on a surface of the semiconductor film is removed and the semiconductor film is irradiated with first laser light.例文帳に追加

分離により絶縁膜上に単結晶の半導体膜を形成した後、該半導体膜の表面に存在する自然酸化膜を除去し、半導体膜に対して第１のレーザ光の照射を行う。 - 特許庁

The method for measuring the film thickness of the epitaxial layer in the manufacturing step of the epitaxial wafer includes forming the epitaxial layer on the surface of a semiconductor wafer by subjecting the semiconductor wafer to the epitaxial growth process.例文帳に追加

半導体ウェーハをエピタキシャル成長工程に付すことにより、該半導体ウェーハの表面にエピタキシャル層を形成することを含むエピタキシャルウェーハの製造工程におけるエピタキシャル層の膜厚測定方法。 - 特許庁

An adhesive layer for joining the lower substrate 22 and an upper substrate enters into a step extending from the surfaces of the lower electrode layers 32, 33 to the surface of the transparent conductive layer 31 located inside the intervals D, E.例文帳に追加

下部基板２２と上部基板間を接合するための粘着層は、下部電極層３２，３３の表面から間隔Ｄ，Ｅ内に位置する透明導電層３１の表面にかけての段差内に入り込んでいる。 - 特許庁

After a semiconductor chip 220a is molded including a solder ball 150a formed at an upper-surface edge of a substrate 110, the semiconductor chip is made thin through a grinding step to expose a part of the solder ball.例文帳に追加

基板１１０上面エッジに形成されるソルダーボール１５０ａを含んで半導体チップ２２０ａをモールディングした後、グラインド工程を実施して半導体チップを薄く作り、ソルダーボールの一部を露出させる。 - 特許庁

The decorating protrusion 115 has a printing surface 116 at an end thereof, and a parting line L formed during the molding of the container body 110 is formed in a lowered-step part X of the decorating protrusion 115.例文帳に追加

加飾用突状部１１５は、その先端に印刷面１１６を有し、容器本体１１０の成形に際して形成されるパーティングラインＬを加飾用突状部１１５の段下がり領域Ｘに形成する。 - 特許庁

The surface of a dielectric resonator 4 which requires adhesion strength or the face of a step part 5 is meltallized (1) by conductive paste thick film printing.例文帳に追加

他の面の密着強度とは異なっていることを特徴とする誘電体共振器、または前記誘電体共振器からなるブロック型誘電体フィルタ、および、その製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the cover 6 is opened, it is possible to see a horizontal step surface 831 or 835 as graduation for level adjustment formed in the side wall portion 83 of a paper roll loading part 8 through a front opening 5 which is exposed.例文帳に追加

ロール紙カバー６を開けると、露出した前面開口５を介して、ロール紙装填部８の側壁部分８３に形成した高さ調整用の目盛りである水平段面８３１ないし８３５を目視できる。 - 特許庁

The method for manufacturing the board 101 made of the resin comprises a solder bump forming step of heating a board body 111 in which solder paste is put on the main surface 112 of the board to melt the solder, and forming a solder bump 123.例文帳に追加

樹脂製基板１０１の製造方法は、基板主面１１２にハンダペーストが載置された基板本体１１１を加熱してハンダを溶解し、ハンダバンプ１２３を形成するハンダバンプ形成工程を備える。 - 特許庁

To provide an operation unit that prevents a lubricant applied to a sliding part from oozing out to an operation part through a corner part formed by a step face of a parting line and an outer surface of an operating member.例文帳に追加

摺動部に塗布した潤滑剤がパーティングラインの段差面と操作部材の外面とがなす角部を伝って操作部へにじみでてしまうことを好適に防止することができる操作装置を提供する。 - 特許庁

A step surface 38 narrowing the width of a path from an air mix chamber 14 to a defroster blow off passage 19 is formed near an entrance 20 of the defroster blow off passage 19 and near an entrance 37 of the side vent always communication passage 36.例文帳に追加

デフロスタ吹出通路１９の入口２０近傍で且つサイドベント常時連通路３６の入口３７近傍に、エアミックスチャンバ１４からデフロスタ吹出通路１９に向かう通路の幅を狭くする段差面３８を設けた。 - 特許庁

Two adjacent bonding surfaces 23, 27 having a step are separated at a space exceeding the amplitude in the oscillating direction, and connected to each other like a U-shape through an inter-branch part bonding surface forming a parallel plane in the oscillating direction.例文帳に追加

段差を有する隣接した２本の接合面２３，２７は、振動方向に振幅以上の間隔を有して離れており、振動方向に平行な面をなすブランチ部間接合面を介してＵ字形に連続している。 - 特許庁

The surface of the transmissive substrate SUB is exposed in a region 110 between a side wall of the trench and a side wall of the light shielding film m adjacent to the trench, which constitutes a two-level step feature.例文帳に追加

掘り込みの側壁とそれに近接する遮光膜ｍの側壁との間の領域１１０において、透過基板ＳＵＢの表面が露出していて、これにより２段の階段形状が構成されている。 - 特許庁

The outer member 2 with which the outer ring 21 is united is manufactured by a casting step of casting melted nonferrous metal in a mold while the outer ring 21 having recessed part 21b in an outer peripheral surface thereof is disposed in the mold.例文帳に追加

先ず、外周面に凹部２１ｂを有する外輪２１を鋳型に配置した状態で、鋳型に溶融非鉄金属を流し込む鋳造工程により、外輪２１が一体化された外側部材２を作製する。 - 特許庁

On the surface of the plate material W consisting of a highly brittle material, an outer peripheral part is exposed and a member corresponding with small pieces P cut from the plate material W is covered with a masking material M in a masking step.例文帳に追加

高脆性材料からなる板材Ｗの表面には、板材Ｗから切り出される小片Ｐに対応する部分がその外周部を露出させてマスキング工程においてマスキング材Ｍにより覆われる。 - 特許庁

In step S104, information related to a surface structure of an intestinal tract or the like such as a gyrate pattern is decided based on the extracted luminance signal, and the possibility that the target pixel is the lesion part is evaluated.例文帳に追加

ステップＳ１０４において、脳回転状の模様など、腸管等における表面構造に関わる情報を抽出された輝度信号に基づき判定し、対象画素が病変部である可能性を評価する。 - 特許庁

A part of a light source unit projecting to a thickness direction outside building components of stairs, width wood, or the like, is minimized, to make up a pseudo surface light source, so that a step illumination whose safety, construction ability and visibility are improved, is provided.例文帳に追加

光源ユニットを階段、巾木等の建築部材より厚み方向に突出することろ最小限にし、擬似面光源とすることで、安全性、施工性向上また視認性のよい足元照明を提供する。 - 特許庁

A portion of the substrate corresponding to an exposure region is absorbed and held by a fixed stage from below without any contact, and the other portions are held to be float by multiple air float devices positioned on the Y step surface table.例文帳に追加

基板の露光領域に対応する部位が定点ステージにより下方から非接触で吸着保持され、その他の部位は、Ｙステップ定盤上に配置された複数のエア浮上装置により浮上支持される。 - 特許庁

The method for washing an electrophotographic member includes a step of washing a surface of the electrophotographic member at least once or more with an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

電子写真用部材の洗浄方法であって、前記電子写真用部材の表面を、少なくとも１回以上、アルカリ性水溶液で洗浄する工程を含むことを特徴とする電子写真用部材の洗浄方法。 - 特許庁

According to the present invention, a reflection prevention part can be molded on the spherical surface of the lens simultaneously during the molding step of the lens, and consequently, manufacturing cost of the lens can be reduced and productivity of the lens can be improved.例文帳に追加

本発明によると、レンズの成形工程時、前記レンズの球面に反射防止部を同時に成形することができるため、レンズの製造コストを低減し、レンズの生産性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a main step structure for a vehicle capable of ensuring more comfortable and easy driving attitude in a vehicle provided with a foot placement surface near a rear side of a front wheel and at both sides of the vehicle.例文帳に追加

前輪の後部近傍で車両の両側に足載せ面を備えた車両において、より快適で楽な運転姿勢を確保することができる車両のメインステップ構造を供給することを課題とする。 - 特許庁

The light alloy product is manufactured through a step of blasting the surface thereof with a shot material containing at least a sphere or a polyhedron having a specific gravity of 2 and more and a diameter of 5 mm and more.例文帳に追加

この軽合金製品は、比重が２以上で径がφ５ｍｍ以上の球状体又は多面体を少なくとも含む加工材を表面に衝突をさせる、という工程を経て製造されたものである。 - 特許庁

Since the surface in contact with the skin has steps, the step is slightly pushed into the soft skin by a weak elastic force to catch the skin, increase the friction coefficient and achieve uniform fitting of the whole tape to the skin.例文帳に追加

肌に接する面に段差があるため、弱い弾性力で肌に押さえるだけでその段差部が柔らかい肌に僅かに押し込まれ、引っかかりとなって摩擦係数を高め、全体が均等に肌にフィットするようにした。 - 特許庁

In a second step, releasing the flexible polymer from the template is followed by pressing the inverse pattern of the flexible polymer replica into a resist layer (14) on a substrate to imprint a replica of the pattern of the template surface in therein.例文帳に追加

第二工程で、可撓性重合体レプリカをテンプレートから引き離した後、可撓性重合体レプリカの逆パターンを、基材上のレジスト層１４中にプレスし、テンプレート表面のパターンのレプリカをインプリントする。 - 特許庁

To set a slider bar onto a jig only in one step, to shorten of throughput and to enhance overlapping accuracy in shallow and deep grooves by collectively forming the shallow and deep grooves on an air bearing surface of a slider.例文帳に追加

スライダーのエアーベアリング形成面に浅溝、深溝を一括して加工することで、スライダーバーの治具へのセットを一回のみにし、スループットの短縮及び浅溝、深溝パターンにおける重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a throw-away end mill capable of obtaining a high quality machined wall face increased in the roughness of a machined surface by reducing a step of a machined wall face of a product caused by multi-stage cutting in shoulder machining or groove machining.例文帳に追加

肩加工や溝加工での多段切込み加工によって生じる製品の加工壁面段差を小さくし、加工面粗度の高い高品位な加工壁面を得ることができるスローアウェイエンドミルを提供する。 - 特許庁

Top surface portions of intermediate supporting point-side ends of the pair of main girders 12 and 14 are formed as step-lowered portions 12b and 14b which are displaced downward by a predetermined amount from top surfaces 12a and 14a of floor slabs, respectively.例文帳に追加

１対の主桁１２、１４の各々における中間支点側の端部の上面部を、その床版上面１２ａ、１４ａから所定量下方に変位した段下がり部１２ｂ、１４ｂとして形成する。 - 特許庁