「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

The amount A interposed between the upper end part 31a and the lower end part 31b of the lamp reflector 31 on the light incident surface 26a side of the light guide body 26 is made larger than a gap B between a no-light incident surface 26 of the light guide body 26 and a fitting step part 35 of the frame 32.例文帳に追加

導光体２６の光入射面２６ａ側のランプリフレクタ３１の上端部３１ａおよび下端部３１ｂ間への挟み込み量Ａを、導光体２６の非光入射面２６ｄとフレーム３２の嵌合段部３５との間の間隙Ｂよりも大きくする。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal-ceramic bonded substrate includes a placement step of forming recesses 70c on the other end surface 70b of the aluminum nitride substrate 70, and placing the aluminum nitride substrate 70 whose other end surface 70b is divided into a plurality of areas AR with the recesses 70c, in a movable mold 11.例文帳に追加

この金属−セラミック接合基板の製造方法は、窒化アルミニウム基板７０の他端面７０ｂに凹部７０ｃを形成して、この凹部７０ｃにより他端面７０ｂが複数領域ＡＲに区画された窒化アルミニウム基板７０を可動型１１に設置する設置工程を備える。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of forming an n-type well 13 on a surface region of an Si substrate 12, forming p-type first semiconductor regions 17a, 18a on the surface region of the well 13, and separating the first semiconductor regions 17a, 18a by an element isolation region 11.例文帳に追加

Ｓｉ基板１２の表面領域にｎ型のウェル１３を形成し、このウェル１３の表面領域にｐ型の第１の半導体領域１７ａ，１８ａを形成し、この第１の半導体領域１７ａ，１８ａを素子分離領域１１で分離している。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for forming an anti-glare layer, which requires a short treatment time and no complex step, a plasma discharge treatment apparatus, and an anti-glare film and an anti-glare low-reflection film formed using the surface treatment method and the plasma discharge treatment apparatus.例文帳に追加

処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁

A coil 102 is nipped and held between a second support member 94 supported at a step part 395 formed in the inner wall surface of a housing 340 through a second flange part 98 and a first support member 392 making contact with the inner wall surface of the housing 340 through a first flange part 396.例文帳に追加

第２フランジ部９８を介してハウジング３４０の内壁面に形成された段部３９５に支持される第２支持部材９４と、第１フランジ部３９６を介してハウジング３４０の内壁面と接する第１支持部材３９２との間には、コイル１０２が挟まれ、保持される。 - 特許庁

The method for manufacturing the member with plasma resistance is characterized by including a step of forming a YAG film on the surface of a substrate consisting of aluminum or stainless, with a detonation flame spraying method, and further forming a yttria film on the above surface of the YAG film with a plasma spraying method.例文帳に追加

アルミニウムまたはステンレスからなる基材表面に、爆発溶射法により、ＹＡＧ膜が形成される工程を含み、前記ＹＡＧ膜の表面には、さらに、プラズマ溶射法により、イットリア膜が形成されることを特徴とする耐プラズマ性部材の製造方法を用いる。 - 特許庁

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solar cell capable of manufacturing a solar cell having high generation efficiency with a high yield by forming a uniform texture in a silicon substrate surface by reducing cation concentration in an etching liquid by a texture etching step which uses an alkali solution and using a substrate whose surface is not contaminated.例文帳に追加

アルカリ溶液を用いたテクスチャエッチング工程によってエッチング液中の陽イオン濃度を低下させることで、シリコン基板面内に均一なテクスチャを形成し、表面の汚染も無い基板を用いることで、高い発電効率を有する太陽電池を高い歩留まりで製造することができる。 - 特許庁

By butting the fitting part 8 to a step difference part 4b, a void G1 for early demagnetizing residual magnetic flux of an electromagnetic coil 10 is formed between a side surface of a plate-shaped part 5 of the inner side magnetic path member 2 and a tip end surface of an outer side cylindrical part 7 of the outer side magnetic path member 3.例文帳に追加

また、嵌合部８を段差部４ｂに突き当てることにより、内側磁路部材２の板状部５の側面と外側磁路部材３の外側筒状部７の先端面との間に、電磁コイル１０の残留磁束を早く消磁するための空隙Ｇ１を形成した。 - 特許庁

This method for manufacturing the inkjet print head for surface mounting includes a step of providing a plurality of ink injection elements and a substrate 10 with a plurality of electric contacts 18 formed on a first surface, and the contact is connected to the ink injection element, so that the element can be selectively driven.例文帳に追加

表面実装用のインクジェットプリントヘッドを作製する方法は、複数のインク射出素子、および、第１面上に形成された複数の電気接点１８を有する基板１０を設けることを含み、接点は、インク射出素子に接続されて、素子の選択的な駆動を可能にする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of easily obtaining a silica particle or a surface-treated silica particle by only charging a raw material, namely by a single step operation with high stability in liquid, easily controlling the particle diameter, and performing precise surface treatment.例文帳に追加

原料を仕込むだけで、すなわち一段階の操作により容易にシリカ粒子、あるいは表面処理シリカ粒子を得ることができ、該シリカ粒子は液中の安定性が高く、また粒子径の制御が容易であり、精密な表面処理が可能である製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since a top surface of a second interlayer insulation film 3 and that of a first wiring 11 made of copper are different from each other in height, a step is formed at a position corresponding to a position of the first wiring 11 on the top surface of a three-layer film constituting an MIM capacitive element 13 on the level difference.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜３の上面と銅を材料とする第１の配線１１の上面との高さが互いに異なるので、その上のＭＩＭ容量素子１３を構成する３層膜の上面には、第１の配線１１の位置に対応した位置に段差が形成される。 - 特許庁

In this manufacturing step, a semiconductor wafer 1 wherein a device area 2 is formed on its surface and the rear surface as a whole is ground is placed on a supporting table 3, and it is rotated at a high speed and is rounded, by jetting an abrasive liquid to the end 1a of the semiconductor wafer 1 from the tip end of a nozzle 4.例文帳に追加

この製造工程では、表面にデバイス領域２が形成され、裏面全体が研削された半導体ウエーハ１を、支持台３上に載置した上で高速回転させ、その端部１ａに向けてノズル４の先端から砥液を射出させて丸め処理を行う。 - 特許庁

In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.例文帳に追加

第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁

The informing control means 13 selectively decides a place for informing warning for calling attention to the occurrence of the step between the floor surface of the car and the floor surface at the landing place story, based on where a call is registered and whether the car 1 arrives at the floor at the landing place story by responding to the call.例文帳に追加

報知制御手段１３は、かご床面と乗場階床面との間に段差が生じていることを注意するための注意情報の報知場所を、どこで登録された呼びに応答してかご１が乗場階に着床されたのかに基づいて選択的に決定する。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display element includes a step to wind the member for the liquid crystal display element comprising a plastics substrate which has spacers directly or indirectly formed on one side thereof and the alignment layer disposed the spacers by intermittently bringing into contact the surface with the alignment layer disposed thereon and the surface with no alignment layer disposed thereon with each other.例文帳に追加

プラスチック基板の片面上に直接あるいは間接にスペーサーを形成し、その上に配向膜を設けた液晶表示素子用部材を配向膜を設けた面と配向膜を設けない面とを断続的に接触させて巻取る工程を含む液晶表示素子の製造法。 - 特許庁

To provide a cooling apparatus which can uniformly cool a slab without depending on the temperature of cooling water in a secondary cooling step of continuous casting equipment provided with a mist nozzle, and to prevent the generation of the surface cracks and surface flaws of a slab caused by the change in the temperature of cooling water in continuous casting for steel.例文帳に追加

ミストノズルを備えた連続鋳造設備の二次冷却過程において、冷却水温度に関係なく鋳片の均一冷却が可能な冷却装置を提供し、鋼の連続鋳造における冷却水温度変化による鋳片の表面割れや表面傷の発生を防止する。 - 特許庁

A method and a system for collecting a liquid 35 carried by or condensed out of a vapor including a step of supplying vapor to the whole surface 30, and a method for purifying a liquid by supplying vapor containing liquid droplets, to the surface, are also presented.例文帳に追加

また、上記表面３０全体に蒸気を送るステップを含む、蒸気によって運ばれる、または、蒸気から凝縮される液体３５を収集する方法およびシステム、ならびに、液滴を含有する蒸気を上記表面に送ることによって液体を浄化する方法も開示している。 - 特許庁

In a pneumatic tire having a lug groove 1 in a shoulder area of at least a tread part, a pleat-like projection 2 of at least one step is provided in the tread direction on both wall surfaces of the lug groove 1, and the pleat-like projection 2 is protruded from a wall surface in an inclined manner in the tire surface direction.例文帳に追加

少なくともトレッド踏面部のショルダー領域にラグ溝１を有する空気入りタイヤにおいて、ラグ溝１の両壁面に少なくとも１段にてひだ状突起物２を溝方向に有し、ひだ状突起物２が壁面からタイヤ表面方向に傾斜して突起している。 - 特許庁

When the wafer W is pulled up in a step of a wet treatment using a dip type device, liquid deposited on the surface of the wafer W flows into the grooves 3, and flows downward passing through the grooves 3, thereby the liquid can be removed quickly from the surface of the wafer W.例文帳に追加

ディップ式の装置を用いたウェット処理工程において、ウエーハＷを引き上げる際に、ウエーハＷ表面に付着している液体は溝部３に流れ込み、溝部３を通って下方に流れるので、ウエーハＷ表面から液体を速やかに取り除くことができる。 - 特許庁

There is provided a method for manufacturing electrophoretic particles each having a polymer grafted on a surface of an inorganic particle, the manufacturing method including a step of thermally treating a mixed liquid, containing inorganic particles in the polymer which can be grafted on the surface of the inorganic particle and is liquid at room temperature, at a temperature of 80-180°C.例文帳に追加

無機粒子の表面にポリマーをグラフトさせた電気泳動粒子の製造方法であって、無機粒子の表面にグラフトしうる常温で液状のポリマー中に無機粒子を含有する混合液を８０℃以上、１８０℃以下の温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate which can polish a metallic film at a high speed with a low load with use of a polishing pad having a smooth surface and can suppress occurrence of such a fault on the polished surface as scratch or dishing in a step of polishing the metallic film formed on the substrate using the polishing pad.例文帳に追加

基板の上に形成された金属膜を研磨パッドを用いて研磨する工程において、平滑な表面を有する研磨パッドで、低荷重で高速に金属膜を研磨し、かつスクラッチ、ディッシング等研磨面の欠陥の発生も抑制できる半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The nuts 106, 107 are tightened by setting a primary fastening tool 1 to a mechanical joint so that the nut 106 or 107 is engagingly locked to the nut engagingly lock surface 31 and rotating the main body 2 by a chain wrench 200 hung to the step 5 of the outer periphery surface of the main body 2.例文帳に追加

ナット１０６又は１０７がナット係止面３１に係止されるよう１次締め工具１を機械的継ぎ手にセットし、本体２の外周面の段部５に掛け止めされたチェーンレンチ２００により本体２を回転させてナット１０６、１０７を締め付けるようにした。 - 特許庁

A method for producing the pneumatic tire 1 includes a bead wire winding step of sticking the bead wire 10, spirally around the rotary shaft of the pneumatic tire, to wire sticking planes S being the outside surface of a bead part 4 of an inner liner 9 and/or the outside surface of the bead part 4 of a carcass ply 6A.例文帳に追加

インナーライナー９のビード部４の外面、及び／又は、カーカスプライ６Ａのビード部４の外面であるワイヤ貼付面Ｓに、ビードワイヤ１０をタイヤ回転軸の回りに渦巻き状に貼り付けるビードワイヤ巻付け工程を含む空気入りタイヤ１を製造する方法である。 - 特許庁

The odor barrier layer 13 is formed by adhesion-coating an odor barrier agent in advance when manufacturing a rolled web sheet S as a material of the surface skin layer 11 or before a heating step, or an adhesion-coating odor barrier agent on the face side of the surface skin layer 11 after the forming by coating, spray or the like.例文帳に追加

この臭気バリア層１３は、表皮層１１の素材である原反シートＳの製造時、又は加熱工程前に予め臭気バリア剤を付着コートさせるか、あるいは成形後に表皮層１１の表面側に臭気バリア剤を塗布、スプレー等により付着コートさせる。 - 特許庁

Even if the end face 5A of the grip member 5 is inclined in order to give excellent design to this writing instrument, therefore, an acutely sharpened tip of the grip member 5 moves along the inclined step surface 12 to prevent its levitation from the surface of the shaft cylinder 10, which precludes generation of a problem.例文帳に追加

これにより、筆記具に優れた意匠を付与するために、グリップ部材５の段差側端面5Aを傾斜させても、グリップ部材５の鋭角的に尖った先端部分が傾斜段差面12に沿って移動して軸筒10の表面から浮き上がることを防止し、不具合の発生を未然に防止する。 - 特許庁

A step 117 is provided upward from a negative electrode can side bottom surface 116 to a negative electrode terminal 112 connected to a negative electrode can 105 side, extended to a radial direction of the negative electrode can 105, and an attaching part is prepared outside an outer diameter of a positive electrode can 103 and below a bottom surface of the positive electrode can 103.例文帳に追加

負極缶１０５側に接続される負極端子１１２に負極缶側底面１１６から上方に段差１１７を設け、負極缶１０５の径方向に延設し、正極缶１０３の外径より外側で正極缶１０３の底面より下方に、取り付け部を設ける。 - 特許庁

The upper electrode 43 is formed independently of the capacitive elements 21 formed in the column direction, the capacitive insulating film 42 is formed commonly to the capacitive elements 21, and a side surface of the upper electrode 43 and a side surface of the capacitive insulating film 42 are continuously formed without any step difference.例文帳に追加

上部電極４３は、列方向に形成された各容量素子２１に独立して形成され、容量絶縁膜４２は、各容量素子２１に共通に形成されており、上部電極４３の側面と容量絶縁膜４２の側面とは、段差なく連続して形成されている。 - 特許庁

A metal ion detecting means 6 is installed in the rear step of the metal ion supply means 3, and when a rise in the concentration is detected, the water containing the metal ion is micronized by an atomizing nozzle 4 and sprayed on the surface of a target, thus suppressing microorganism generated on the target surface.例文帳に追加

金属イオン供給手段３の後段に金属イオン検知手段６を設け、濃度の上昇を検知したとき、金属イオンを含んだ水を噴霧ノズル４によって微細化し、対象物表面に噴霧して、対象物表面に発生する微生物を抑制することによる。 - 特許庁

The semiconductor light emitting device manufacturing method of an embodiment comprises a step of forming a transparent substrate transparent to light beams on a first principal surface of a semiconductor layer selected from a plurality of semiconductor layers based on an emission spectrum of the light beams obtained from the first principal surface side.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体発光装置の製造方法は、第１の主面側から得られる光の発光スペクトルに基づいて、複数の半導体層から選択された半導体層の第１の主面上に、前記光に対して透明な透明材を形成する工程を備えている。 - 特許庁

This manufacturing method includes: a photoelectric conversion unit forming process for forming a photoelectric conversion unit divided into a plurality of photoelectric conversion cells on the main surface of a substrate; and a neighboring region forming step of forming a neighboring region by removing the photoelectric conversion unit formed at the peripheral edge of the main surface.例文帳に追加

基板の主面上に、複数の光電変換セルに分割された光電変換ユニットを形成する光電変換ユニット形成工程と、前記主面の周縁部に形成された前記光電変換ユニットを除去して、周囲領域を形成する周囲領域形成工程と、を具備する。 - 特許庁

The method for manufacturing the lithographic printing forme material includes the step of coating a bonding material from a surface side of a cutting part prior to cutting when the lithographic printing forme material comprising at least a hydrophilic layer and a heat sensitizing image forming layer on a surface of base material is cut.例文帳に追加

支持体表面に、少なくとも親水性層と感熱画像形成層を有してなる平版印刷版材料を切断するに際し、切断の前に切断部位の表面側から結合性素材を塗布することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 - 特許庁

To reduce processing cost of a fixing shaft by adopting a simple outer diameter surface structure as a three-step structure of an outer diameter surface of the fixed shaft to which a one-way clutch for driving and braking is fit has an influence on the processing cost, in a wind-up unit.例文帳に追加

巻き取りユニットにおいて、駆動用及び制動用の一方向クラッチが嵌合される固定軸の外径面が３段構造であり、加工コストに影響を与えることにかんがみ、その外径面の構造を単純化することにより固定軸の加工コストの低減を図ることである。 - 特許庁

In a drying step, a heater pipe is provided by a predetermined distance apart from a coating surface of the water based paint, and the coating surface is heated by the heater pipe discharging a heat quantity containing a predetermined wavelength band for a predetermined time, and thereafter, is exposed to the wind by a fan as the heat is being generated for a predetermined time.例文帳に追加

乾燥ステップでは、水系塗料の塗膜面から所定の距離を離してヒータ管を設置し、塗膜面に対し所定の波長域を含む熱量を発するヒータ管で、所定時間加熱し、その後、発熱を継続した状態で所定時間、ファンによる風を当てる。 - 特許庁

By passing the surface protection layer through a drying step after it is allowed to stand for an adequate time after coating, a charge transport material in the charge transport layer migrates to the surface protection layer, whereby the photoreceptor which prevents substantial rise of residual potential and also has durability can be provided.例文帳に追加

表面保護層を塗工後、適当な時間放置した後に乾燥工程を経ることにより、電荷輸送層の電荷輸送物質が表面保護層に移行することで、残留電位の大幅なアップを防ぎ耐久性も兼ね備える感光体を提供することが出来る。 - 特許庁

The method for producing the group III nitride crystal substrate involves a step to grow a group III nitride crystal 2 by a liquid phase method on the recessed and projected surface of a ground substrate 1 having at least a group III nitride crystal layer 1a on which the recessed and projected surface is formed.例文帳に追加

凹凸表面が形成されたＩＩＩ族窒化物結晶層１ａを少なくとも有する下地基板１を準備し、下地基板１の凹凸表面上に液相法によりＩＩＩ族窒化物結晶２を成長させる工程を含むＩＩＩ族窒化物結晶基板の製造方法。 - 特許庁

The core body for manufacturing the endless belt keeps the outside diameter of a central part 12 larger than the outside diameter of both end parts 14 with respect to the axial direction, and a step between the outer peripheral surface of the central part 12 and the outer peripheral surface of both the end parts 14 is 0.3 mm or more with respect to the diametral direction.例文帳に追加

軸方向に対して、中央部１２の外径が両端部１４の外径よりも大きく、直径方向に対する中央部１２の外周面と両端部１４の外周面との段差が０．３ｍｍ以上であることを特徴とする無端ベルト製造用芯体。 - 特許庁

A method for forming the coated optical fiber such as an optical fiber comprises a step of introducing at least the one coating layer 2 or 3 onto the surface of a fiber wire so that at least a part of the surface of the fiber wire is directly or indirectly coated with the one or more coating layers 2 and 3.例文帳に追加

光ファイバのような、被覆ファイバを形成するための方法には、一又は二以上の被覆層が直接あるいは間接的にファイバ線の表面の少なくとも一部分を覆うようにファイバ線上に少なくとも一つの被覆層を導入する工程が含まれる。 - 特許庁

To provide a method of impregnating an inner surface of a porous metal pad with a polymer film chemically similar to a polymer to be used in a bonding step and a method of making orthopaedic implant having a porous metal surface by bonding such an impregnated pad to the orthopaedic implant.例文帳に追加

多孔性金属パッドの内側表面に、接合ステップで使用されるポリマと化学的に類似のポリマフィルムを含浸させる方法、並びに、このような含浸パッドを整形外科インプラントに接合させ、多孔性金属表面を有した整形外科インプラントを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus which can effectively remove a foreign substance on the surface of a roller even in operation of a production line, decrease generation of quality troubles of a web, and further remove the foreign substance on the surface of the roller in a special step when the web is continuously transported in a plurality of processes.例文帳に追加

製造ラインの運転中においても効率的にローラ表面の異物を除去でき、ウエブの品質故障の発生を低減できるだけでなく、複数の工程をウエブが連続搬送される際に、その中の特定の工程において、ローラ表面の異物を除去できる。 - 特許庁

As the first battery pack 200 is inserted into the charging device 100, the first storage space 20 stores the first battery pack 200 slid and inserted in from a step surface 10b to a bottom surface 10a, and holds it in a condition that a contacting terminal 202 is in contact with a charging terminal 11.例文帳に追加

第１のバッテリーパック２００が充電装置１００に差し込まれると、第１の収納空間２０は、第１のバッテリーパック２００を段差面１０ｂから底面１０ａまで摺入することにより収納し、接触端子２０２が充電端子１１に接触した状態で保持する。 - 特許庁

The defect repair method in a flat membrane for water treatment includes a step of pressing a defect part to seal a defect hole by compression, with regard to the defect generated on the surface of the flat membrane manufactured by coating a material containing an organic polymer as a main component on the surface of a flat substrate.例文帳に追加

平面状基材の表面に有機高分子を主成分とする物質を塗布して製造した平膜の表面に発生した欠点に対して、該欠点部を圧着して、欠点孔を圧縮により密閉する水処理用平膜上の欠点補修方法。 - 特許庁

After a step generated between the front surface of the semiconductor film and the front surface of the substrate is reduced by forming the first gate insulating film 220, the liquid material is further coated on this first gate insulating film 220, and baked to form a second gate insulating film 230.例文帳に追加

第１ゲート絶縁膜２２０を形成することによって半導体膜表面と基板表面との間に生じた段差を小さくした後、この第１ゲート絶縁膜２２０の上に更に液体材料を塗布し、焼成することによって第２ゲート絶縁膜２３０を形成する。 - 特許庁

An opening hole 2 is provided at the board 1 at a position opposed to the element electrode 11 of the element 10 of the lower step surface, and a board electrode 4a of the lower surface of the board 1 is connected to the element electrode 11 of the element 11 via the hole 2.例文帳に追加

そして、下段面半導体素子１０の素子電極１１に対向する位置に絶縁回路基板１に開口穴２を設け、前記開口穴２を通して、絶縁回路基板１下面の基板電極４ａと半導体素子１０の素子電極１１を接続する。 - 特許庁

In a third step, voltage is impressed on the HOT electrode 22, electric discharge is generated between the HOT electrode 22 and the treating object 10, and the treating gas which becomes plasmatic by discharge is made to contact the surface 11 of the treating object 10, and the surface 11 of the treating object 10 is plasma-treated.例文帳に追加

第３のステップにおいて、ＨＯＴ電極２２に電圧を印加してＨＯＴ電極２２と被処理物１０との間２５で放電を発生させ、放電によりプラズマ化した処理ガスを被処理物１０の表面１１に接触させて、被処理物１０の表面１１をプラズマ処理する。 - 特許庁