「upper process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing a metal multilayer film where the upper surface of a metal film (e.g. a Cu film) at a lower layer portion is covered with a metal film (e.g. a Cr film) at an upper layer portion neither too much nor too less.例文帳に追加

下層部の金属膜（例えば、Ｃｕ膜）の上面が上層部の金属膜（例えば、Ｃｒ膜）によって過不足無く覆われた金属多層膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The erection method includes a first process in which a footing H is constructed without constructing a footing beam KB, a second process in which a PC footing member 1 constituting only the upper part of the section of the footing beam KB section is laid over the upper face of the footing H, and a third process in which the lower part of the footing beam KB section is constructed.例文帳に追加

基礎梁ＫＢを構築せずにフーチングＨを構築する第一工程と、基礎梁ＫＢの断面上部のみを構成するＰＣ基礎梁部材１をフーチングＨの上面に架け渡す第二工程と、基礎梁ＫＢの断面下部を構築する第三工程と、を含むことを特徴とする建物施工方法。 - 特許庁

For a process starting point B1 on an upper part line 204 of a process span, the focal point (f) is set at a motion preparation point Q1 apart toward the opposite direction to a processing direction.例文帳に追加

加工区間の上部線２０４における加工開始点Ｂ１に対して、加工を行う方向と反対方向に離間した動作準備点Ｑ１に焦点ｆを配置させる。 - 特許庁

A positioning part 200, engaged with the notched part 150A of the process cartridge B, is provided at the upper part of a cover member 300 covering an aperture part 250 for attaching/detaching the process cartridge in an opened state.例文帳に追加

プロセスカートリッジ着脱用の開口部２５０を覆う蓋部材３００に、その開状態にて上部にプロセスカートリッジＢの切り欠き部１５０Ａと係合する位置決め部２００を設ける。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, in a compact image forming apparatus in which height dimensions are suppressed, an access to a process cartridge is attainable without performing an access from the upper face to the process cartridge.例文帳に追加

高さ寸法が抑えられている小型の画像形成装置において、上面からプロセスカートリッジにアクセスすることなくプロセスカートリッジへのアクセスが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

After sticking one mother substrate 35 to the other mother substrate 31, the substrate remaining on positions (recessed parts of the upper substrate) opposed to the electrode taking-out portions is removed in a strip process or an external processing process.例文帳に追加

一方と他方のマザー基板３５、３１を貼り合わせた後、短冊工程ないし外形加工工程で電極取り出し部と対向する位置（上基板の凹部）に残った基板を取り除く。 - 特許庁

The upper door plate has a gas exhaust opening close to its center, thereby allowing for a symmetrical flow of process gases via the process chamber and into the gas exhaust opening.例文帳に追加

上側のドアプレートはその中央に近接してガス排出開口を有し、これによりプロセスガスのプロセス室を介してガス排出開口へ入る対称性の流れが可能となる。 - 特許庁

To provide a method and device based on a dry process developing process at first sight for developing the parts of photosensitive media having exposed and undeveloped images at the upper part.例文帳に追加

露光された未現像の画像を上に有する感光性媒体の部分を現像するための、一見したところ乾式現像プロセスに基づく、方法および装置を提供する。 - 特許庁

A pretreatment process part 11 for applying a precoating liquid is set at the upper stream side of the ink jet type printing machine than a printing treatment process part which carries out printing by spraying ink from a recording head.例文帳に追加

インクジェット式印刷機に、記録ヘッドからインクを噴霧して印刷を行う印刷処理工程部よりも上流側に、プレコート液を塗布する前処理工程部１１を設ける。 - 特許庁

A fixing-side end 50b of the holding part 50 provided on an upper surface of the process cartridge 32 or 35 is fixed to the process cartridge 32 or 35, and a movable end 50c thereof is connected to the switching part 51.例文帳に追加

プロセスカートリッジ３２，３５の上面に備えられた把持部５０は、固定側端５０ｂがプロセスカートリッジ３２，３５に固定され、可動側端５０ｃが切替部５１に接続される。 - 特許庁

The semiconductor device has the process (f) forming a source electrode 71 and a drain electrode 72 electrically connected to the crystallite semiconductor film 41 on the upper side of the gate electrode 20 after the process (e).例文帳に追加

そして、（ｆ）工程（ｅ）の後、ゲート電極２０上側の微結晶半導体膜４１と電気的に接続するソース電極７１，ドレイン電極７２を形成する工程を備える。 - 特許庁

The segment Wa is bent by holding between the upper and lower dies 21, 22 till an opening angle becomes zero approximately in the last overlapping bending process.例文帳に追加

最後の重ね曲げ過程で、板材片Ｗを前記開き角度が略零となるまで上下型２１，２２間で挟んで曲げる。 - 特許庁

To provide a method of forming a trench whereby an upper corner can be rounded without additional mask or process.例文帳に追加

本発明は、別途のマスクや工程を追加しなくても上部コーナを丸めることができるトレンチ形成方法を提供する。 - 特許庁

An attaching member 41 is fixed on the upper surface of the process cartridge 15, and a handle 10 is rotatably attached to the attaching member 41.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１５の上面に取り付け部材４１を固定し、取り付け部材４１に回動可能に把手１０を取り付ける。 - 特許庁

Then, the four process cartridge 5 are collectively supported by a pair of upper supporting plates 31 and a pair of lower supporting plates 32.例文帳に追加

そして、４つのプロセスカートリッジ５は、１対の上支持板３１および１対の下支持板３２により一括して支持される。 - 特許庁

A bottom plate of the capacitor is electrically connected to an upper first conductive via that is formed according to the dual damascene process.例文帳に追加

コンデンサのボタムプレートはジュアルダマスカス過程に従って形成される上側の第一の導電バイアに電気的に接続される。 - 特許庁

The process is to form a stack which comprises an insulating layer and stop layer, and on the upper part of which two masks are formed.例文帳に追加

この工程は、スタックの上方に２個のマスクが形成される絶縁体層とストップ層を含むスタックを形成するものである。 - 特許庁

On a base substrate 1 manufactured in a general manufacturing process, the upper layer 6 is laminated by using a technique of a semiconductor.例文帳に追加

一般的な製法で製造されたベース基板１上に，半導体技術の手法を使用して上層部分６を積層する。 - 特許庁

In a coating process (step ST3), the upper and lower faces 11, 12 of the piston ring wire material 10 after forming clearances are coated.例文帳に追加

続くコーティング工程（ステップＳＴ３）では、隙間発生後のピストンリング線材１０の上下面１１，１２にコーティングを施す。 - 特許庁

In the first process, a rivet 8 connecting the upper and lower motor covers 6 and 7 with each other of the scrap motor is removed by a drill head.例文帳に追加

第一工程では、廃品モータの上下のモータカバー６、７を互いに連結しているリベット８をドリルヘッドで除去する。 - 特許庁

To read a medical image on a medical image observation apparatus in the same process as on a film in the examination of the upper digestive tract.例文帳に追加

上部消化管検査において、医用画像観察装置上でフィルムによる読影と同じ手順で読影できるようにする。 - 特許庁

Consequently burrs etc., can be easily removed in the same process from edges of upper surfaces of the plurality of ceramic green compacts.例文帳に追加

この結果、複数のセラミックスグリーン成形体の上面の縁部からバリ等を簡易に且つ同一工程で除去することができる。 - 特許庁

In the foaming process, temperature of the upper mold is 30-40°C and temperature of the lower mold is 70-80°C, especially 60-90°C.例文帳に追加

この発泡工程において、上型の温度を３０〜４０℃とし、下型の温度を６０〜９０℃特に７０〜８０℃程度とする。 - 特許庁

In this process, in order to enhance the magnetic field intensity, a magnetic pole 2 comprising a soft-magnetic object is formed in an upper part of the scattering body 1.例文帳に追加

このとき，磁界強度を強めるために，散乱体1の上部に軟磁性体より構成される磁極２を形成する。 - 特許庁

Placing a hard upper limit on this number means that the Java process cannot consume more memory than physical RAM available. 例文帳に追加

この数字に上限を設けるということは、使用可能な物理 RAM を超えるメモリーを Java プロセスが使用できないことを意味します。 - NetBeans

In the middle of the manufacturing process of the sensor, the membrane region of the upper part of the region 22 is firmly supported by the support part 43.例文帳に追加

製造工程の途中では、空洞領域２２の上部のメンブレン領域は薄膜支持部４３で強固に支持されている。 - 特許庁

The process tube 16 includes, on its inner surface, a gas introduction tube support 162 capable of supporting the upper end of the gas introduction tube 184.例文帳に追加

プロセスチューブ１６は、その内面に、ガス導入管１８４の上端部を支持可能なガス導入管支持部１６２を有する。 - 特許庁

of the process of television scanning, the time lag between the time at which the scanning finishes at the bottom right hand corner until the time that it reaches the upper left hand corner for the next scanning 例文帳に追加

テレビの画像の走査が右下で終了し,次の走査のため右下から左上まで戻る時間的なすき間 - EDR日英対訳辞書

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which generation of stress can be controlled at the upper end of sidewall of a trench.例文帳に追加

溝の側壁上端部における応力の発生を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method 800 of an analysis module, having an accessible conductive contact pad includes a process 810 of forming an insulated substrate having an upper face, a micro-channel in the upper face, and the conductive contact pad arranged on the upper face.例文帳に追加

アクセス可能な導電性接触パッドを備えた分析モジュールの製造方法８００は、上面、上面内のマイクロチャネル、および上面に配置された導電性接触パッドを備えた絶縁基板を形成する過程８１０を含んでいる。 - 特許庁

As a third process, the lower part of the pocket upper part cloth partly overlaps the inner surface side of the upper end part of the pocket lower part cloth, and both right and left ends of the pocket lower part cloth are sewn up to project toward the right and left sides of the pocket upper part cloth.例文帳に追加

第三工程としてポケット下部生地の上端部内面側に、ポケット上部生地の下部が一部重なるようになすと共に、該ポケット下部生地の左右両端がポケット上部生地の左右側方に突出するようになして縫合する。 - 特許庁

Then it is determined whether a counter of frame No. shows an upper limit value (step S15), if the counter does not show the upper limit value, the process is returned to a step S8, and the average value of vehicle speed is calculated, if the counter of frame No. shows the upper limit value (step S16).例文帳に追加

次に、フレーム番号のカウンタが上限値であるか否かを判定し（ステップＳ１５）、カウンタが上限値でない場合には、ステップＳ８に戻り、カウンタが上限値である場合には、車両の速度の平均値を計算する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a discrete track (DIR) medium by which burrs produced in a substrate process type DTR manufacturing process is effectively removed, the flatness of au upper plane of a projecting part is excellent, and a recording/reproducing process using a low floating head can be performed.例文帳に追加

基板加工型ＤＴＲ媒体製造工程において生じるバリを効果的に除去し、凸部上面の平坦性が良好で、低浮上ヘッドを用いた記録再生が可能なＤＴＲ媒体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the case where a continuous printing mode is selected, the printer driver maintains a standard feeding amount of a constant cycle, except the upper-end process being carried out in a first page.例文帳に追加

長尺モードが指定された場合には、先頭ページで上端処理を施す他は、全て一定周期の送り量を維持する。 - 特許庁

Valuable materials can be recovered respectively from the upper suspension and the lower suspension discharged from the process by a known method.例文帳に追加

この工程から排出される上層懸濁液および下層懸濁液のそれぞれから公知の方法で有価物の回収を行える。 - 特許庁

When the upper cover 12 is located in an obstruction position, flow-down space S is formed between the process cartridges 50 by a closing member 35 or the like.例文帳に追加

アッパーカバー１２が閉塞位置に位置すると、密閉部材３５等により、流下空間Ｓがプロセスカートリッジ５０間に形成される。 - 特許庁

The unit processing part 145 undergoes an embossing process so as to protrude in the specified depth toward inside or outside of the upper shell 143.例文帳に追加

単位加工部１４５は上殻１４３の内側または外側に向かって所定の深さで突出するようにエンボッシング形成する。 - 特許庁

A retreated base oxide film 12 in a wet etching process affects a shape change in an upper edge 141 of a trench 14.例文帳に追加

ウェットエッチング工程による下地酸化膜１２の後退は、トレンチ１４における上部エッジ１４１の形状変化に影響を与える。 - 特許庁

Process E: The cloth 2 which is laid is further coated with the waterproofing upper layer resin 3 which is a liquid impregnable into the cloth 2 (Fig. 3).例文帳に追加

工程Ｅ：この敷かれた布２の上に、当該布に含浸可能な防水性で液体の上層樹脂３をさらに塗布する（図３）。 - 特許庁

As shown in Fig.7(b), half cut processing is executed in a region including the recesses 16 from the upper mold material 24 side (mold separating process).例文帳に追加

図７（ｂ）に示されるように、上方のモールド材２４側から、凹部１６を含む領域で、ハーフカット加工を行う（モールド分離工程）。 - 特許庁

In the process of movement on the working table 3, a hot melt resin 7 is applied onto the upper faces of the copper foils 9 by a hot melt applicator 6.例文帳に追加

この作業テーブル３上を移動する過程で、銅箔９の上面に、ホットメルトアプリケータ６からホットメルト樹脂７を塗布する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a ridge type semiconductor laser in which a p-type electrode can be formed accurately on the upper surface of a ridge structure.例文帳に追加

リッジ構造の上表面上にｐ型電極を正確に形成できるリッジ型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

Before the cutting process of the glass molding 11, the upper surface 6a of the continuous side walls 6 of the pair of screen panels 3 is flatly polished.例文帳に追加

ガラス成型体１１の切断工程の前に、一対のスクリーンパネル３の連続した側壁６の上面６ａを平坦に研磨する。 - 特許庁

The first shift register unit and the first data latch unit are shared by upper and lower blocks to process the first and second group channel data together.例文帳に追加

第1シフトレジスタ部及び第1データラッチ部は、上下ブロックによって共有されて第1及び第2グループチャンネルデータを共通で処理できる。 - 特許庁

A sample generating unit 803 associates the heater power with the signal level and generates the sample used for a process to determine the upper limit power.例文帳に追加

サンプル生成部８０３は、ヒーターパワーと信号レベルとを対応付け、上限パワーを決定する処理のためのサンプルを生成する。 - 特許庁